显示基板、制作方法和显示装置制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种显示基板、制作方法和显示装置，包括基板主体以及支撑隔垫物，所述支撑隔垫物设置在所述基板主体上，在显示基板中，支撑隔垫物与基板主体的接触面为非平坦面。一方面，非平坦面的接触面由于具有更大的面积，会增大支撑隔垫物与基板主体的粘合力，从而避免支撑隔垫物从基板主体剥落。另一方面，由于非平坦面的接触面，则在一些运动方向上，会存在用于阻碍支撑隔垫物与基板主体发生相对运动的剪切应力，同样能够避免支撑隔垫物从基板主体剥落。
【专利说明】显示基板、制作方法和显示装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示【技术领域】，尤其涉及一种显示基板、制作方法和显示装置。
【背景技术】
[0002]随着薄膜晶体管液晶显示器成本的降低和制造工艺的完善，薄膜晶体管液晶显示器已成为平板显示领域的主流产品。薄膜晶体管液晶显示器一般包括彩膜基板、阵列基板以及填充在两者之间的液晶材料。其中，如图1所示，为现有技术中彩膜基板的结构示意图，包括基底101、彩色光阻层102、形成于彩色光阻层102的间隙中的黑矩阵103和形成于黑矩阵上方的支撑隔垫物104。支撑隔垫物104用于来保持阵列基板与彩膜基板的距离，以保证液晶的正常显示。在一些类似的显示器中，支撑隔垫物还可能制作在阵列基板上。
[0003]在高分辨率的显示产品中，黑矩阵中每一个元素的尺寸都较小，客观上要求支撑隔垫物的横截面不能太大。另外，为了减小摩擦取向工艺中产生摩擦阴影，也需要支撑隔垫物的尺寸尽可能小。这样就会使得支撑隔垫物的底部与彩膜基板主体或者阵列基板主体的基接触面积减小，导致支撑隔垫物易于脱落。
【发明内容】
[0004]本发明的目的是提供一种能够避免支撑隔垫物脱落的显示装置及显示装置制造方法。
[0005]为了达到上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括基板主体以及支撑隔垫物，所述支撑隔垫物设置在所述基板主体上，其特征在于，所述支撑隔垫物与所述基板主体的接触面为非平坦面。
[0006]进一步的，所述基板主体在所述接触面内具有凸起或者凹槽。
[0007]进一步的，所述凹槽开口面积小于接触面的面积。
[0008]进一步的，所述支撑隔垫物的底端直径为7-10^。
[0009]进一步的，所述显示基板主体在与一个支撑隔垫物的接触面内具有一个凸起或者一个凹槽，凸起或者凹槽的直径为3.5-4.5 4 III。
[0010]进一步的，所述显示基板为彩膜基板，
[0011]当所述彩膜基板主体包含保护层时，所述凸起或者凹槽由所述彩膜保护层形成；
[0012]当所述彩膜基板主体不包含保护层时，所述凸起或者凹槽由所述彩膜基板主体的黑矩阵形成。
[0013]进一步的，所述显示基板为阵列基板，
[0014]当所述阵列基板主体包含保护层时，所述凸起或者凹槽由所述保护层形成；
[0015]当所述阵列基板主体不包含保护层时，所述凸起或者凹槽由所述阵列基板主体的钝化层形成。
[0016]进一步的，所述保护层为透明树脂层。
[0017]本发明还提供了一种制作显示基板的方法，包括:
[0018]制作基板主体，所述基板主体的用于设置支撑隔垫物的区域被设置为非平坦面；
[0019]在所述基板主体之上形成支撑隔垫物，所述支撑隔垫物与所述基板主体的接触面为非平坦面。
[0020]进一步的，所述制作基板主体包括:
[0021]在基底上形成黑矩阵；所述黑矩阵在用于设置支撑隔垫物的区域内形成有凸起或者凹槽；
[0022]在所述基底上形成彩色滤光层；
[0023]所述在所述基板主体之上形成支撑隔垫物包括:
[0024]在所述黑矩阵上制作支撑隔垫物。
[0025]进一步的，在所述基底上形成黑矩阵，具体包括:
[0026]在所述基底上沉积黑矩阵材料层；
[0027]在所述黑矩阵材料层上涂覆光刻胶；
[0028]使用双色调掩膜板对所述涂覆的光刻胶进行曝光，形成完全去除区域、半保留区域和完全保留区域；
[0029]对完全去除区域的黑矩阵材料进行刻蚀，去除透光部分对应的黑矩阵材料；
[0030]灰化，去除半保留区域的光刻胶；
[0031]对半保留区域内的黑矩阵材料进行不完全刻蚀，形成凸起或者凹槽。
[0032]进一步的，所述制作基板主体包括:
[0033]在基底上形成黑矩阵；
[0034]在所述基底上形成彩色光阻层；
[0035]在所述黑矩阵和所述光阻层之上涂覆彩膜保护层材料；
[0036]利用掩膜板对所述彩膜保护层材料进行灰化，使所述彩膜保护层材料在用于形成支撑隔垫物的区域内具有凸起或者凹槽；
[0037]所述在所述基板主体之上形成支撑隔垫物包括:
[0038]在所述彩膜保护层材料上制作支撑隔垫物。
[0039]进一步的，所述制作基板主体包括:
[0040]在基底上形成阵列；
[0041]在所述阵列上涂覆保护层材料；
[0042]利用掩膜板对所述保护层材料进行灰化，使所述保护层材料在用于形成支撑隔垫物的区域内具有凸起或者凹槽；
[0043]所述在所述基板主体之上形成支撑隔垫物包括:
[0044]在所述保护层材料上制作支撑隔垫物。
[0045]进一步的，所述制作基板主体包括:
[0046]在基底上形成阵列；所述阵列的钝化层在用于形成支撑隔垫物的区域内具有凸起或者凹槽；
[0047]所述在所述基板主体之上形成支撑隔垫物包括:
[0048]在所述钝化层上制作支撑隔垫物。
[0049]本发明还提供了一种显示装置，其特征在于，包括上述任一项所述显示基板。
[0050]本发明提供的显示基板中，支撑隔垫物与基板主体的接触面为非平坦面。一方面，非平坦的接触面由于具有更大的面积，会增大支撑隔垫物与基板主体的粘合力，从而避免支撑隔垫物从基板主体剥落。另一方面，由于非平坦的接触面，则在一些运动方向上，会存在用于阻碍支撑隔垫物与基板主体发生相对运动的剪切应力，同样能够避免支撑隔垫物从基板主体剥落。
【专利附图】
【附图说明】
[0051]图1为现有技术中一种为现有技术中一种彩膜基板的结构示意图；
[0052]图2为本发明实施例一提供的一种彩膜基板的结构示意图；
[0053]图3为本发明实施例一提供的一种彩膜基板的结构示意图；
[0054]图4为本发明实施例二提供的一种彩膜基板的结构示意图；
[0055]图5为本发明实施例三提供的一种阵列基板的结构示意图；
[0056]图6为本发明实施例四提供的一种阵列基板的结构示意图；
[0057]图7为本发明实施例五提供的一种彩膜基板的制作方法的流程示意图；
[0058]图8为本发明实施例六提供的一种彩膜基板的制作方法的流程示意图；
[0059]图9为本发明实施例七提供的一种阵列基板的制作方法的流程示意图；
[0060]图10为本发明实施例八提供的一种阵列基板的制作方法的流程示意图。
【具体实施方式】
[0061]下面结合附图和实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
[0062]本发明所指的显示基板是指在基板主体上形成有支撑隔垫物的基板，这里的基板主体可以指基底本身，或者也可以还包含形成在基底上的其他层结构。具体而言，本发明所指的显示基板可以为彩膜基板或阵列基板。另外，本发明中所指的，支撑隔垫物与所述基板主体的接触面为非平坦面是指支撑隔垫物与所述基板主体的接触面包含非平坦结构。下面分别结合附图对本发明实施例提供的彩膜基板和阵列基板的示意结构以及制作方法进行说明。
[0063]实施例一
[0064]如图2或图3所示，为本发明实施例一提供的一种彩膜基板简单结构示意图，包括:
[0065]基底101、彩色光阻102、形成于彩色光阻102的间隙中的黑矩阵103以及制作在黑矩阵103上的支撑隔垫物104 ；其中，基底101、彩色光阻层102、黑矩阵103构成彩膜基板的基板主体，支撑隔垫物104与黑矩阵103的接触面为非平坦面。
[0066]其中，这里的基底101的材质不限，例如可以选用透明的玻璃、树脂等等。黑矩阵103的主要是作用是利用遮光区域遮挡杂散光，防止透光区域所对应的像素之间产生漏光；彩色光阻102包括^(如山红色)光阻、绿色)光阻和8 (81116,蓝色)光阻，主要作用是利用滤光的方式产生红绿蓝三原色，再将红绿蓝三原色以不同的强弱比例混合，从而呈现出各种色彩，使薄膜晶体管液晶显示屏可以显示出全彩。这里需要说明的是，在液晶显示领域中，彩色光阻并不限于61-6611 81116，红绿蓝)三色，还可以为1^81(尺6(161-0611 61-0611 81116
，青品红黄黑)等多种颜色组合。这里的支撑隔垫物104可以为柱状的支撑隔垫物，且本发明实施例中，支撑隔垫物104位于黑矩阵的上方，可以为任意颜色的支撑隔垫物，本发明实施例对支撑隔垫物的颜色并不做限制。
[0067]本发明实施例提供的彩膜基板中，支撑隔垫物与黑矩阵的接触面为非平坦面。一方面，非平坦的接触面由于相对于平坦的接触面具有更大的接触面积，会增大支撑隔垫物与黑矩阵的粘合力，从而避免支撑隔垫物从黑矩阵上剥落。另一方面，由于非平坦的接触面，则在一些运动方向上，会存在用于阻碍支撑隔垫物与黑矩阵发生相对运动的剪切应力，同样能够避免支撑隔垫物从黑矩阵上剥落。
[0068]作为一种可选的方式，如图2所示，黑矩阵103在接触面内具有凹槽八1。这样，制作在接触面上的支撑隔垫物104会形成对应于该凹槽八1的凸起，该凸起与凹槽八1的接触面即为非平坦面。
[0069]进一步的，凹槽整体应落入接触面内，且凹槽的开口面积应小于接触面的面积。同时，就为了解决本发明所要解决的技术问题而言，只要整体在接触面内即可，这里的凹槽的位置及形状都不做限制。
[0070]作为另一种可选的方式，如图3所示，使黑矩阵103在接触面内具有凸起八2，也能够达到同样的效果，相应地，制作在该区域的支撑隔垫物104底部会具有与凸起八2相配合的凹槽，其对应的技术方案同样应落入本发明的保护范围。
[0071]在黑矩阵中的接触面形成凹槽或者凸起能够使得黑矩阵103与支撑隔垫物104在各个方向上产生剪切应力，更好的避免支撑隔垫物的脱落。当然，在实际应用中，黑矩阵在接触面内也可以形成其他形状的结构(比如条状结构)或黑矩阵在接触面整体为一个曲面，其对应的技术方案也都能够起到防止支撑隔垫物剥落的效果，本发明优选的实施方式不应理解为本发明保护范围的限定。进一步地，本发明的支撑隔垫物与基板主体的接触面可以为各种规则与非规则形状的非平坦面。
[0072]进一步的，支撑隔垫物104的底端(与黑矩阵接触的一端)的直径可以为7-10^ I由于支撑隔垫物的底端直径较小，能够增加开口率，同时支撑隔垫物的底端与黑矩阵的接触面为非平坦面，使得支撑隔垫物不易脱落。
[0073]进一步的，本发明实施例中，如图2所示，黑矩阵103在与一个支撑隔垫物的接触面内都仅具有一个凹槽八1，或者如图3所示，黑矩阵103在与一个支撑隔垫物的接触面内都仅具有一个凸起八2。进一步的这里的凹槽八1(或者凸起八2)的直径可以为3.5-4.5^111。
[0074]当然，实际应用中，也可以根据具体需要在一个支撑区域内设置多个凹槽或多个凸起。
[0075]实施例二
[0076]如图4所示，为本发明实施例二提供的一种彩膜基板的结构示意图，与实施例一的彩膜基板的不同之处在于，实施例一中的彩膜基板不包含彩膜保护层，支撑隔垫物104直接制作黑矩阵103上方；而图3中的彩膜基板包含彩膜保护层105，此时，支撑隔垫物104制作在彩膜保护层105上，此时基底101、彩色光阻层102、黑矩阵103以及彩膜保护层105共同构成基板主体，支撑隔垫物104与彩膜保护层105的接触面为非平坦面。
[0077]同样作为一种可选的实施方式，彩膜保护层105上对应于支撑隔垫物104的区域内形成有凹槽八3(或者也可以为凸起，图中未示出^
[0078]进一步的，作为一种优选的实施方式，这里的彩膜保护层可以为树脂层。
[0079]实施例三
[0080]图5为本发明实施例三提供的一种阵列基板的结构示意图，包括阵列基板主体，阵列基板主体包括基底201，以及在基底201上形成的阵列以及相应的栅线、数据线，其中丁?I阵列包括有源层202，第一绝缘层203，栅金属层204，第二绝缘层205，钝化层206，源漏金属层207 ；钝化层206上还形成有支撑隔垫物208。其中，支撑隔垫物208与钝化层206的接触面为非平坦面。这里的支撑隔垫物208可以为柱状的支撑隔垫物。
[0081]阵列的具体结构可以与现有技术中一致，在此不再进行详细说明。
[0082]另外，本领域技术人员可以理解，图5中虽然仅示出了阵列基板为顶栅型阵列基板的一种情形，但是在实际应用中，阵列基板为底栅型阵列基板，也能取得相同的效果。阵列具体为什么结构，不会影响本发明的实施。
[0083]阵列的具体结构可以与现有技术中一致，在此不再进行详细说明。
[0084]参考实施例一，作为一种可选的方式，如图5所不，钝化层206在接触面内具有凹槽八4，这里的接触面是指在钝化层206上用于制作支撑隔垫物208的区域，优选的，接触面位于区域，而非像素区域。在实际应用中，钝化层206在接触面内具有凸起也能够达到同样的效果，其对应的技术方案同样应落入本发明的保护范围。
[0085]进一步的，图5所示的阵列基板中，钝化层206在与一个支撑隔垫物接触的接触面内都仅具有一个凹槽八4。相应的，也可以仅包含一个凸起。
[0086]此时，支撑隔垫物的底端(与钝化层206接触的一端)的直径可以为7-10 凹槽八4(或者凸起)的直径可以为3.5-4.5 9 1
[0087]本发明实施例提供的阵列基板中，支撑隔垫物与钝化层的接触面为非平坦面。一方面，非平坦面的接触面由于具有更大的面积，会增大支撑隔垫物与钝化层的粘合力，从而避免支撑隔垫物从钝化层上剥落。另一方面，由于非平坦面的接触面，则在一些运动方向上，会存在用于阻碍支撑隔垫物与钝化层发生相对运动的剪切应力，同样能够避免支撑隔垫物从钝化层上剥落。
[0088]实施例四
[0089]如图6所示，为本发明实施例四提供的一种阵列基板的结构示意图，与实施例三的阵列基板的不同之处在于，实施例三中的阵列基板不包含保护层，支撑隔垫物208直接制作钝化层206上；而图6中的阵列基板包含保护层209，此时保护层也作为阵列基板主体的一部分，支撑隔垫物208制作在保护层209上，此时支撑隔垫物208与保护层209的接触面为非平坦面。
[0090]同样作为一种可选的实施方式，保护层209上对应于支撑隔垫物207的区域内形成有凹槽八5(或者也可以为凸起，图中未示出其他方面可以与实施例三一致。
[0091]这里的保护层209的材质可以为树脂。
[0092]本发明还提供了制作显示基板的方法，该方法包括:制作基板主体，所述基板主体在用于设置支撑隔垫物的区域被设置为非平坦面；在该区域形成支撑隔垫物，所述支撑隔垫物与所述基板主体的接触面为非平坦面。
[0093]该显示基板为设置有支撑隔垫物的基板，具体例如可以为彩膜基板或者阵列基板。以下分别以制作彩膜基板或阵列基板为例对本发明提供的制作显示基板的方法进行具体说明。
[0094]实施例五
[0095]本发明实施例五还提供了一种制作彩膜基板的方法，可以用于制作实施一提供的彩膜基板，如图7所示，该方法可以包括:
[0096]步骤701，在基底上形成黑矩阵；其中，所述黑矩阵在用于形成支撑隔垫物的区域内形成有凸起或者凹槽。
[0097]其中，步骤701的一种优选的实施方式是:在所述基底上沉积黑矩阵材料层；在所述黑矩阵材料层上涂覆光刻胶；使用双色调掩膜板对所述涂覆的光刻胶进行曝光，形成完全去除区域、半保留区域和完全保留区域；对完全去除区域的黑矩阵材料进行刻蚀，去除透光部分对应的黑矩阵材料；灰化，去除半保留区域的光刻胶；对半保留区域内的黑矩阵材料进行不完全刻蚀，形成凸起或者凹槽。通过这种方式，能够减少一次构图工艺。
[0098]步骤702，在所述基底上形成彩色光阻层。
[0099]至此形成了彩膜基板的基板主体。
[0100]步骤702的具体过程可以为:利用涂布分散法在彩膜基板上涂布约2.的红色像素树脂层；这里的像素树脂层材料通常是丙稀酸类感光性树脂或其他羧酸型色素颜料树月旨。然后通过曝光工艺和化学显影工艺，在玻璃基板的一定区域上形成红色像素图形。之后，采用和制备红色像素相同的工艺方法，在彩膜基板上制备蓝色像素图形、绿色像素图形(厚度约为2.5110)。这里的红色像素图形、蓝色像素图形、绿色像素图形位于黑矩阵的间隙中，共同构成彩色光阻层。
[0101]步骤703，在所述黑矩阵上制作支撑隔垫物。
[0102]具体的，可以在彩色滤光层和黑矩阵之上涂覆支撑隔垫物材料通过曝光、光刻工艺，形成位于黑矩阵上柱状支撑隔垫物⑴幻。柱状支撑隔垫物可为八边形、四边形、圆形等结构，直径约7-1011111，高度约3.511111。
[0103]由于黑矩阵在用于形成支撑隔垫物的区域内具有凸起或者凹槽，则制作在该区域的支撑隔垫物在底部会具有与该凸起或者凹槽相适应的凹槽或者凸起，支撑隔垫物与基板主体的接触面为非平坦面。
[0104]实施例六
[0105]本发明实施例六还提供了一种制作彩膜基板的方法，可以用于制作实施二提供的彩膜基板，如图8所示，该方法可以包括:
[0106]步骤801，在基底上形成黑矩阵；
[0107]步骤802，在所述基底上形成彩色光阻层；
[0108]步骤803，在所述黑矩阵和所述光阻层之上涂覆彩膜保护层材料；
[0109]步骤804，利用掩膜板对所述彩膜保护层材料进行灰化，使所述彩膜保护层材料在用于形成支撑隔垫物的区域内具有凸起或者凹槽。
[0110]至此形成了彩膜基板的基板主体。
[0111]步骤805，在所述彩膜保护层材料制作支撑隔垫物。
[0112]实施例七
[0113]本发明实施例七提供了一种制作阵列基板的方法，可以用于制作实施三提供的阵列基板，如图9所示，该方法可以包括:
[0114]步骤901，在基底上形成界!'阵列；
[0115]步骤902，在所述阵列上涂覆保护层材料；
[0116]步骤903，利用掩膜板对所述保护层材料进行灰化，使所述保护层材料在用于形成支撑隔垫物的区域内具有凸起或者凹槽。至此，形成了阵列基板的基板主体。
[0117]步骤904，在所述保护层材料上制作支撑隔垫物。
[0118]实施例八
[0119]本发明实施例八提供了一种制作阵列基板的方法，可以用于制作实施四提供的阵列基板，如图10所示，该方法可以包括:
[0120]步骤1001，在基底上形成阵列；所述阵列的钝化层在用于形成支撑隔垫物的区域内具有凸起或者凹槽。
[0121]至此，形成了阵列基板的基板主体。
[0122]步骤1002，在所述钝化层上制作支撑隔垫物。
[0123]本发明还提供了显示装置，包括实施例一或二提供的任一种彩膜基板或者包括实施例三或四提供的任一种阵列基板。
[0124]这里的液晶显示装置可以为电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0125]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本【技术领域】的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1.一种显示基板，包括基板主体以及支撑隔垫物，所述支撑隔垫物设置在所述基板主体上，其特征在于，所述支撑隔垫物与所述基板主体的接触面为非平坦面。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基板主体在所述接触面内具有凸起或者凹槽。
3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽开口面积小于接触面的面积。
4.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述支撑隔垫物的底端直径为7-10 μ m0
5.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板主体在与一个支撑隔垫物的接触面内具有一个凸起或者一个凹槽，凸起或者凹槽的直径为3.5-4.5 μ m。
6.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板， 当所述彩膜基板主体包含保护层时，所述凸起或者凹槽由所述彩膜保护层形成； 当所述彩膜基板主体不包含保护层时，所述凸起或者凹槽由所述彩膜基板主体的黑矩阵形成。
7.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板， 当所述阵列基板主体包含保护层时，所述凸起或者凹槽由所述保护层形成； 当所述阵列基板主体不包含保护层时，所述凸起或者凹槽由所述阵列基板主体的钝化层形成。
8.如权利要求6或7所述的显示基板，其特征在于，所述保护层为透明树脂层。
9.一种制作显示基板的方法，其特征在于，包括: 制作基板主体，所述基板主体的用于与支撑隔垫物接触的区域被设置为非平坦面； 在所述基板主体之上形成支撑隔垫物，所述支撑隔垫物与所述基板主体的接触面为非平坦面。
10.如权利要求9所述的方法，其特征在于， 所述制作基板主体包括: 在基底上形成黑矩阵；所述黑矩阵在用于与支撑隔垫物接触的区域内形成有凸起或者凹槽； 在所述基底上形成彩色滤光层； 所述在所述基板主体之上形成支撑隔垫物包括: 在所述黑矩阵上制作支撑隔垫物。
11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，在所述基底上形成黑矩阵，具体包括: 在所述基底上沉积黑矩阵材料层； 在所述黑矩阵材料层上涂覆光刻胶； 使用双色调掩膜板对所述涂覆的光刻胶进行曝光，形成完全去除区域、半保留区域和完全保留区域； 对完全去除区域的黑矩阵材料进行刻蚀，去除透光部分对应的黑矩阵材料； 灰化，去除半保留区域的光刻胶； 对半保留区域内的黑矩阵材料进行不完全刻蚀，形成凸起或者凹槽。
12.如权利要求9所述的方法，其特征在于， 所述制作基板主体包括: 在基底上形成黑矩阵； 在所述基底上形成彩色光阻层； 在所述黑矩阵和所述光阻层之上涂覆彩膜保护层材料； 利用掩膜板对所述彩膜保护层材料进行灰化，使所述彩膜保护层材料在用于与所述支撑隔垫物接触的区域内具有凸起或者凹槽； 所述在所述基板主体之上形成支撑隔垫物包括: 在所述彩膜保护层材料上制作支撑隔垫物。
13.如权利要求9所述的方法，其特征在于， 所述制作基板主体包括: 在基底上形成TFT阵列； 在所述TFT阵列上涂覆保护层材料； 利用掩膜板对所述保护层材料进行灰化，使所述保护层材料在用于与所述支撑隔垫物接触的区域内具有凸起或者凹槽； 所述在所述基板主体之上形成支撑隔垫物包括: 在所述保护层材料上制作支撑隔垫物。
14.如权利要求9所述的方法，其特征在于， 所述制作基板主体包括: 在基底上形成TFT阵列；所述TFT阵列的钝化层在用于与所述支撑隔垫物接触的区域内具有凸起或者凹槽； 所述在所述基板主体之上形成支撑隔垫物包括: 在所述钝化层上制作支撑隔垫物。
15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述显示基板。
【文档编号】G02F1/1339GK104460118SQ201410418860
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年8月22日 优先权日:2014年8月22日
【发明者】赵承潭, 姚继开, 惠官宝 申请人:京东方科技集团股份有限公司