芳族聚缩醛及其制品的制作方法
【专利摘要】芳族聚缩醛及其制品。一种包括具有以下结构的重复单元的聚合物，其中R1、R2、Ar1、Ar2和Ar3如本文所定义。所述聚合物可以通过Suzuki缩聚制备。在聚合物主链中的缩醛和/或缩酮官能使得主链在酸中是可破裂的。所述聚合物在包括光刻光致抗蚀剂的应用中是有用的。
【专利说明】芳族聚缩醛及其制品
【技术领域】
[0001] 本发明涉及聚合物，特别是芳族聚缩醛和聚缩酮。
【背景技术】
[0002] 聚（甲基丙烯酸酯）类和聚（羟基苯乙烯）类的化学增强光致抗蚀剂已经达到了 性能极限，该性能极限是由通过分辨率、线边缘粗糙度和敏感性的平衡三角限定的。这是 所谓的RLS平衡。存在经验证据：即通过使用配方方法增加该重要性能之一的尝试会损害 所述三角的剩余性能。该效应限制了在高分辨率光刻法中可实现的特征尺寸，包括远紫外 (EUV)和电子束。避免聚（甲基丙烯酸酯）类和聚（羟基苯乙烯）类化学增强光致抗蚀剂 的RLS平衡三角的一种方式将是创造新的基于不同聚合物的光致抗蚀剂组合物，其提供一 种或多种改善的光子吸收、改善的量子效率以及改善的催化链式反应的效率。避免聚（甲 基丙烯酸酯）类和聚（羟基苯乙烯）类化学增强光致抗蚀剂的RLS平衡三角的另外一个 方式将是创造新的基于不同聚合物的光致抗蚀剂组合物，其在光刻期间显示出非恒定扩散 行为（即相比与未曝光区域，在曝光区域中酸的扩散常数更高）。Kozawa，T，Tagawa，S.， Santillan,JJ,Itani,T,JournalofPhotopolymerScienceandTechnology, 2008,第 21 卷，第421-427页。借助主链可降解的聚合物可以实现该行为。
【发明内容】
[0003] -个实施方案是包括多个具有以下结构的重复单元的聚合物：
【权利要求】
1. 包括多个具有以下结构的重复单元的聚合物
其中R1和R2的每次出现独立地为氢、未取代的或取代的Cp18线性或支化的烷基、取代 或未取代的C3_18的环烷基，未取代的或取代的C6_18的芳基，或未取代的或取代的C 3_18的杂 芳基；和R1和R2任选地彼此共价连接以形成包括-R1-C-R 2-的环；ArUr2和Ar3的每次出现 独立地为未取代的或取代的C6_18的亚芳基，或未取代的或取代的C3_ 18的亚杂芳基；条件是 Ai^Ar2和Ar3的至少一次出现被选自羟基、缩醛、缩酮、酯和内酯的至少一个官能团取代。
2. 根据权利要求1所述的聚合物,其中在至少一个重复单元中，Ar1、Ar2和Ar3的至少 一个被至少一个轻基取代。
3. 根据权利要求1所述的聚合物,其中AAAr2和Ar3的每次出现独立地为1，3_亚苯 基或1，4_亚苯基。
4. 根据权利要求1-3任一项所述的聚合物，其中Ar1和Ar2不进一步彼此共价连接以 形成包括-Ar1-O-C-O-Ar2-的环结构。
5. 根据权利要求1-4任一项所述的聚合物，其中R1的每次出现为氢，和R2的每次出现 为未取代的或取代的苯基。
6. 根据权利要求1所述的聚合物，其中在任意重复单元
9. 根据权利要求1所述的聚合物，其中 Ar1和Ar2的每次出现为1，4-亚苯基； Ar3的每次出现为未取代的或取代的1，3-亚苯基，其中在至少40mol %的多个重复单 元中，Ar3被至少一个羟基取代； R1的每次出现为氢，和R2的每次出现为苯基。
10. 包括权利要求1-9任一项所述的聚合物的制品。
【文档编号】G03F7/004GK104341583SQ201410445598
【公开日】2015年2月11日 申请日期:2014年7月16日 优先权日:2013年7月16日
【发明者】M·S·奥伯, D·R·罗默, J·B·艾坦内, P·J·托马斯 申请人:陶氏环球技术有限公司