技术总结
一种掩模及其形成方法，所述形成方法包括：提供基板；在基板上形成图形化的掩模层；在掩模层的侧壁形成收缩层，收缩层和掩模层共同构成掩模图形。本发明通过在掩模层侧壁设置收缩层，收缩层与掩模层共同构成掩模图形。掩模图形中的所述收缩层也遮挡部分基板，与掩模层相比，最终形成的掩模图形的临界尺寸更小，避免了现有技术中所形成掩模图形临界尺寸过大的问题。
技术研发人员：邢滨;张城龙
受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
文档号码：201510131864
技术研发日：2015.03.24
技术公布日：2016.11.23