技术总结
本发明一种金属纳米线的制备方法，包括如下步骤：步骤A：制备多层胶结构，所述多层胶结构从下至上依次为衬底(1)、第一光刻胶层(2)、金属插层(3)和第二光刻胶层(4)；步骤B：采用激光干涉曝光技术在所述第二光刻胶层(4)制备纳米光刻胶光栅图形；步骤C：将所述第二光刻胶层(4)的纳米光刻胶光栅图形反转至所述第一光刻胶层(2)；步骤D：在所述第一光刻胶层(2)的纳米光刻胶光栅图形的基础上制备金属纳米线。该方法能够大面积制备大高宽比的精细金属纳米线，成本低、效率高。
技术研发人员：房育涛;戴隆贵;乐艮;贾海强;陈弘
受保护的技术使用者：中国科学院物理研究所
文档号码：201510169318
技术研发日：2015.04.10
技术公布日：2016.11.23