抗反射光学膜片的制作方法

本发明关于一种光学膜片；具体而言，本发明关于一种使用于显示模块的抗反射光学膜片。

背景技术：

平面及曲面显示设备已被广泛地应用于各式的电子装置之中，例如移动电话、个人穿戴装置、电视、交通工具用主机、个人计算机、数字相机、掌上型电玩等。然而为了提高用户的视觉感受，业者仍在不断地就显示设备的光学表现进行改良。

例如部分显示设备的显示面会因在使用时因外在环境光的关系而产生眩光。在大多数的使用状况下，眩光往往造成部分用户在视觉上的不舒服，并影响显示影像的光学表现。为了解决此一问题，部分习知的显示设备会在显示面上加设有粗糙表面的高雾度层，以降低眩光产生的情形。然为当雾度较高时，使用者容易因为高雾度层的设置而感觉显示面上有白雾的不清晰感。

为了降低上述的白雾不清晰感，部分现有的显示设备会在上述高雾度层的外表面再镀上抗反射层。然而抗反射层往往会因其厚度不均匀，而使得高雾度层的表面粗糙度受到影响，进而影响整体的光学表现。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种光学膜片，可提高设置于粗糙层上抗反射层的分布均匀度。

本发明的另一目的在于提供一种光学膜片，可于粗糙层上布设抗反射层后仍维持有较接近的粗糙度。

本发明的另一目的在于提供一种光学膜片，可减轻因于粗糙层上布设抗反射层后产生的粗糙度差异而导至反射率提高的现象。

本发明的另一目的在于提供一种显示模块，可兼顾减低眩光及反射率的光学效果。

为实现上述目的，本发明提供一种光学膜片，包含：

一基底膜，具有一承载面；

一粗糙层，设置于该承载面上；其中，该粗糙层具有一粗糙面与该承载面相背；该粗糙面于一预设方向上的截面上具有一截面曲线；由该截面曲线得出一参考基线，该截面曲线低于该参考基线的部分形成多数谷部，至少部分该谷部的最大深度与最大宽度的比值不大于0.26；以及

一抗反射层，设置于该粗糙面上；

其中，该参考基线系为该截面曲线的75％高程线。

其中，该些谷部分别具有一谷底部位，至少部分该谷底部位的曲率半径不小于1.4μm。

其中参考基线与该截面曲线的平均波峰高程距离小于1μm。

其中，该粗糙面系于75％高程处定义一参考基准面；该粗糙面上低于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第一投影面积，该粗糙面上高于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第二投影面积，该第一投影面积与该第二投影面积的比值介于16％至78.5％之间。

其中，该截面曲线高于该参考基线的部分形成多数峰部，该些谷部中相对该粗糙面呈外突者占该些谷部的比例小于该些峰部中相对该粗糙面呈外突者占该些峰部的比例。

其中，该抗反射层迭合于该粗糙层后的雾度大于65％。

而且，为实现上述目的，本发明提供一种光学膜片，包含：

一基底膜，具有一承载面；

一粗糙层，设置于该承载面上；其中，该粗糙层具有一粗糙面与该承载面相背；该粗糙面于一预设方向上的截面上具有一粗糙曲线；由该粗糙曲线得出一平均线，该粗糙曲线低于该平均线的部分形成多数谷部，至少部分该谷部的最大深度与最大宽度的比值不大于0.26；以及

一抗反射层，设置于该粗糙面上。

其中，该些谷部分别具有一谷底部位，至少部分该谷底部位的曲率半径不小于1.4μm。

其中，该粗糙面系于75％高程处定义一参考基准面；该粗糙面上低于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第一投影面积，该粗糙面上高于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第二投影面积，该第一投影面积与该第二投影面积的比值介于16％至78.5％之间。

其中，该粗糙曲线高于该平均线的部分形成多数峰部，该些谷部中相对该粗糙面呈外突者占该些谷部的比例小于该些峰部中相对该粗糙面呈外突者占该些峰部的比例。

显示模块包含有光学膜片及显示面板。显示面板具有显示面，而光学膜片则设置于显示面上。光学膜片包含基底膜、粗糙层及抗反射层。基底膜具有承载面，而承载面与基底膜上朝向显示面的一面相背。粗糙层设置于承载面上，并具有与承载面相背向的粗糙面。抗反射层则分布设置于粗糙面上。

粗糙面于预设方向上的截面具有截面曲线。由截面曲线可以得出虚拟的参考基线。例如，参考基线可为截面曲线的75％高程线。相对于参考基线，截面曲线中有部分会低于参考基线而形成为谷部，部分则高于参考基线而形成为峰部；其中部分谷部的最大深度与最大宽度的比值不大于0.26。由此，设置抗反射层后的光学膜片整体粗糙度与粗糙面本身的粗糙度差异将会较小，进而减轻反射率增加的状况。

附图说明

图1为本发明显示模块的实施例示意图；

图2为本发明光学膜片的实施例组件爆炸图；

图3为图2所示实施例的截面示意图；

图4为截面曲线的实施例放大示意图；

图5为截面曲线的实施例示意图；

图6为粗糙层的实施例示意图；

图7为由截面曲线得到粗糙曲线的实施例示意图。

其中，附图标记：

10 光学膜片

30 显示面板

31 显示面

100 基底膜

110 承载面

200 预设方向

210 截面

300 粗糙层

310 粗糙面

311 凹部

313 凸部

330 粗糙结构

350 截面曲线

351 谷部

352 谷底部位

353 峰部

370 参考基线

380 参考基准面

500 抗反射层

700 粗糙曲线

710 平均线

具体实施方式

本发明提供一种光学膜片以及使用此光学膜片的显示模块。显示模块较佳可应用于各式显示器上，例如：计算机显示器、电视、监视器、车用主机等。此外，显示模块亦可运用于其他电子装置中所包含的显示模块上，例如手机、数字相机、掌上型游乐器等的显示屏幕。

如图1所示，显示模块包含有光学膜片10及显示面板30。显示面板30具有显示面31，而光学膜片10则设置于显示面31上。在较佳实施例中，光学膜片10系具有偏极化光线的光学效果；此外，光学膜片10亦具有降低眩光的功效。显示面板30较佳为液晶显示面板，可配合背光模块(未绘示)来进行影像的显示。然而在不同实施例中，显示面板30亦可为自发光式的显示面板，例如有机发光二极管面板，或者是其他如电泳显示面板等其他类似的显示面板。

在图2及图3所示的实施例中，光学膜片包含基底膜100、粗糙层300及抗反射层500。基底膜100具有承载面110，而承载面110系与基底膜100上朝向显示面31的一面相背。基底膜100较佳为偏光片；然而在不同实施例中，基底膜100亦可为具其他光学效果的膜片，或是不具有特别光学效果的透明膜片。

如图2及图3所示，粗糙层300设置于承载面110上，并具有与承载面110相背向的粗糙面310。粗糙层300包含分布于承载面110的粗糙结构330，其中粗糙结构330形成有多个凸起及其间的凹坑；而粗糙结构330的表面即为粗糙面310。粗糙层300的材质较佳为树脂材质，且较佳采用相转换法制成，例如热诱导式相分离法、蒸气诱导式相分离法、干式法及湿式法等。抗反射层500设置于粗糙面310上；以较佳实施例而言，抗反射层500可以为金属氧化物或其他化合物材质所制成。抗反射层500系可以各式镀膜制程、涂布或其他制程形成于粗糙面310上。

如图2及图3所示，粗糙面310于一预设方向200上的截面210具有截面曲线350。预设方向200较佳为平行于承载面110的方向；换言之，预设方向200落入如图2所示的X-Y平面上，例如可以为粗糙面310上任一侧边的延伸方向。预设方向200上的截面210较佳系垂直于承载面110；举例而言，若在粗糙面310上先订下预设方向200，即可沿预设方向200朝垂直方向切割粗糙层300以得到截面210。而截面210与粗糙面310的交会处即为截面曲线350。然而在实务上欲测得截面曲线350时，不必然需实际对粗糙层300进行切割，仅需以相关仪器沿默认方向200进行探测，即可得到此截面210上的截面曲线350。

如图3及图4所示，由截面曲线350可以得出一虚拟的参考基线370。以较佳实施例而言，参考基线370系为截面曲线350的75％高程线(100％为最高的高程)。例如若以承载面110与截面210的交界作为高程为0的参考线，截面曲线350上的各点分别可以得到相对的一高程高度；对于将这些高程高度进行统计分析后取第三(由下而上)的四分位数高度作为参考基线370的高程。相对于参考基线370，截面曲线350中有部分会低于参考基线370而形成为谷部351，部分则高于参考基线370而形成为峰部353。其中部分谷部351的最大深度D与最大宽度W的比值较佳不大于0.26。较佳者，各谷部351的最大深度D与最大宽度W的平均比值不大于0.26。更佳者，每一谷部351的最大深度D与最大宽度W的比值均不大于0.26。藉由控制至少部分谷部351的深宽比，可使得谷部351底部布设的抗反射层500厚度较为平均，且抗反射层500外表面的起伏亦较贴合于粗糙面310的起伏。由此，设置抗反射层500后的光学膜片整体粗糙度与粗糙面310本身的粗糙度差异将会较小，进而减轻反射率增加的状况。

此外，在此较佳实施例中，如图4所示，谷部351均具有谷底部分352；至少部分的谷底部分352处曲率半径R不小于1.4μm。藉由此一设计，使得谷底部分352的曲面较为平缓而不会过于尖锐，因此抗反射层500可以较均匀地分布于谷底部分352而不会有异常的厚度增加状况。由此可以维持粗糙面310的粗糙度，进而减轻反射率增加的状况。

如图5所示，截面曲线350上具有多个峰部353分别位于参考基线370之上。各峰部353的波峰顶端高程平均后可得出平均波峰高程P(相对于承载面110)。在此较佳实施例中，平均波峰高程P与参考基线370间的距离d小于1μm；且较佳而言，平均波峰高程P系高于参考基线370。藉由此一设计，可使得粗糙面310上整体的高低落差不会过大，较易于控制抗反射层500设置于粗糙面310上的均匀性。

此外，如图4及图5所示，若以截面曲线350上分布的谷部351而言，每一谷部351会包含有相对于粗糙面310呈外突的部分及呈内凹的部分，其中各谷部351中呈外突的部分占各谷部351曲线总长的比例定义为第一比例。另以峰部353而言，每一峰部353会包含有相对于粗糙面310呈外突的部分及呈内凹的部分，其中各峰部353中呈外突的部分占各峰部353曲线总长的比例定义为第二比例。在此较佳实施例中，第一比例小于第二比例；换言之，谷部351中呈内凹的曲线占比较大。藉此将可降低在谷部351中产生两外突曲线于谷部351内相接时产生狭窄缝隙的可能性，进而减少抗反射层500于狭窄缝隙处因堆积而增加厚度的情况。

如图6所示，粗糙面310可于75％高程处定义出一虚拟的参考基准面380；例如若以承载面110作为高程为0的参考面，粗糙面310上的各点分别可以得到相对的一高程高度；对于将这些高程高度进行统计分析后取第三(由下而上)的四分位数高度作为参考基准面380的高程。粗糙面310有部分高于参考基准面380而形成为凸部313，而部分则会低于参考基准面380而形成为凹部311。凹部311于参考基准面380上具有第一投影面积，而凸部313于参考基准面380上具有第二投影面积。在较佳实施例中，抗反射层500迭合于粗糙层300后的雾度需大于65％，而第一投影面积与第二投影面积的比值较佳介于16％至78.5％之间，以在兼顾高雾度的要求下，仍能维持一定的显示清晰度。

在较佳实施例中，粗糙面310在预设方向200上的基准长度L内的粗糙度介于0.25μm至1μm之间。更佳而言，此一粗糙度可约为0.5μm。如图7所示，此处的粗糙度较佳系为中心线平均粗糙度(Ra)；换言之，系将截面曲线进行如滤除坡度影响的处理后得到粗糙曲线700。再由粗糙曲线700上定义出平均线710，例如中心线。接着再对于粗糙曲线700于基准长度L内相对于平均线710的高程绝对值进行积分并予以平均(即除以基准长度L)，即可得到中心线平均粗糙度。如下表的模拟结果所示，当其他设计因素相同时，模型2的粗糙面310原粗糙度约为0.5μm附近，其于加设抗反射层后的整体粗糙度会与原粗糙度相差最少(0.02μm)；相对而言，也可以得到最低的整体反射率(0.99％)。

借由此一设计，可使得粗糙面310在设置抗反射层500后粗糙度受到影响的程度较低。此外，在不同的实施例中，亦可以上述的粗糙曲线700及平均线710来定义出多个谷部351，并参考前述实施例中的深宽比建议来加以设计，以达成维持粗糙度及减轻反射率增加的目的。

当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。