抗反射光学膜片的制作方法

文档序号:12715231阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种光学膜片,其特征在于,包含:

一基底膜,具有一承载面;

一粗糙层,设置于该承载面上;其中,该粗糙层具有一粗糙面与该承载面相背;该粗糙面于一预设方向上的截面上具有一截面曲线;由该截面曲线得出一参考基线,该截面曲线低于该参考基线的部分形成多数谷部,至少部分该谷部的最大深度与最大宽度的比值不大于0.26;以及

一抗反射层,设置于该粗糙面上;

其中,该参考基线系为该截面曲线的75%高程线。

2.根据权利要求1所述的光学膜片,其特征在于,该些谷部分别具有一谷底部位,至少部分该谷底部位的曲率半径不小于1.4μm。

3.根据权利要求1所述的光学膜片,其特征在于,参考基线与该截面曲线的平均波峰高程距离小于1μm。

4.根据权利要求1所述的光学膜片,其特征在于,该粗糙面系于75%高程处定义一参考基准面;该粗糙面上低于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第一投影面积,该粗糙面上高于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第二投影面积,该第一投影面积与该第二投影面积的比值介于16%至78.5%之间。

5.根据权利要求1所述的光学膜片,其特征在于,该截面曲线高于该参考基线的部分形成多数峰部,该些谷部中相对该粗糙面呈外突者占该些谷部的比例小于该些峰部中相对该粗糙面呈外突者占该些峰部的比例。

6.根据权利要求1所述的光学膜片,其特征在于,该抗反射层迭合于该粗糙层后的雾度大于65%。

7.一种光学膜片,其特征在于,包含:

一基底膜,具有一承载面;

一粗糙层,设置于该承载面上;其中,该粗糙层具有一粗糙面与该承载面相背;该粗糙面于一预设方向上的截面上具有一粗糙曲线;由该粗糙曲线得出一平均线,该粗糙曲线低于该平均线的部分形成多数谷部,至少部分该谷部的最大深度与最大宽度的比值不大于0.26;以及

一抗反射层,设置于该粗糙面上。

8.根据权利要求7所述的光学膜片,其特征在于,该些谷部分别具有一谷底部位,至少部分该谷底部位的曲率半径不小于1.4μm。

9.根据权利要求7所述的光学膜片,其特征在于,该粗糙面系于75%高程处定义一参考基准面;该粗糙面上低于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第一投影面积,该粗糙面上高于该参考基准面的部分于该参考基准面上具有一第二投影面积,该第一投影面积与该第二投影面积的比值介于16%至78.5%之间。

10.根据权利要求7所述的光学膜片,其特征在于,该粗糙曲线高于该平均线的部分形成多数峰部,该些谷部中相对该粗糙面呈外突者占该些谷部的比例小于该些峰部中相对该粗糙面呈外突者占该些峰部的比例。

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