描绘装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及对对象物照射光来描绘图案的描绘装置。
【背景技术】
[0002]以往，公知有使被空间调制后的光照射工作台上的对象物，使该光的照射区域在对象物上扫描，来描绘图案的描绘装置。在这样的描绘装置中，由于光源劣化、空间光调制设备的特性劣化、光学系的透光率降低、附着异物等，有时对象物上的光量降低。因此，在这样的描绘装置中，通过设置在工作台附近的光量传感器检测来自描绘头的光量。
[0003]例如，在JP特开2003-177553号公报(文献I)的激光描绘装置中，在声光调制器(acousto optical modulator)和多面反射镜(polygon mirror)之间设置第一光量监视器，在描绘工作台上设置第二光量监视器。在该激光描绘装置中，即使由于光学部件的特性劣化或附着异物等而第一光量监视器的光学特性变化，也能够基于第二光量监视器检测出的光量，校正第一光量监视器的光量检测精度。
[0004]在JP特开2008-242173号公报(文献2)的曝光描绘装置中，在对来自光源的光进行分离的光阑构件(aperture member)和空间光调制装置之间设置第一光量传感器,在被曝光体台上设置第二光量传感器。在该曝光描绘装置中，基于来自第一光量传感器的输出和来自第二光量传感器的输出，判断从光阑构件至被曝光体的状况。
[0005]在JP特开2010-85507号公报(文献3)的曝光装置中，在光源附近设置用于测定光源的光量的第一光量传感器，在基板的周边设置用于测定经由光学元件后的光量的第二光量传感器。在该曝光装置中，基于来自第一光量传感器的输出判定光源的寿命期限。在通过来自第一光量传感器的输出判定为光源在寿命期限内时，基于来自第二光量传感器的输出，判定光学元件的特性是否良好。
[0006]但是，在文献I的激光描绘装置中，在第二光量监视器的光学特性劣化的情况下，很难高精度地校正第一光量监视器的光量检测精度。另外，在文献2以及文献3的曝光装置中，在第一光量传感器或第二光量传感器发生光学特性的劣化等的情况下，基于来自第一光量传感器的输出和来自第二光量传感器的输出的检查精度有可能降低。
【发明内容】
[0007]本发明的目的在于在对对象物照射光来描绘图案的描绘装置中，能够高精度地检测描绘头的劣化因素。
[0008]本发明的描绘装置具有:描绘头，其对对象物照射被空间调制后的光；保持部，其保持所述对象物，并且使所述对象物相对于所述描绘头移动，来使来自所述描绘头的光的照射区域在所述对象物上扫描；检查部，其检查所述描绘头；所述描绘头具有:光源，其射出光；空间光调制设备；照明光学系统，其将来自所述光源的光向所述空间光调制设备引导；投影光学系统，其将通过所述空间光调制设备进行空间调制后的光向所述保持部引导，所述检查部具有:光量传感器，其在位于相对于所述描绘头被决定的描绘光量测定位置时接受来自所述投影光学系统的光；传感器移动机构，其使所述光量传感器在所述描绘光量测定位置与预先决定的中间光量测定位置之间移动；采光头，其插入在从所述光源至所述空间光调制设备为止的光路上，取得从所述光源朝向所述空间光调制设备的至少一部分光；测定光学系统，其将被所述采光头取得的光向位于所述中间光量测定位置的所述光量传感器引导；采光头移动机构，其将所述采光头插入在所述光路上，另外，使所述采光头从所述光路上离开。
[0009]在该描绘装置中，能够高精度地检测描绘头的劣化因素。
[0010]在本发明的一个优选实施方式中，所述光量传感器设置在所述保持部上，从所述投影光学系统的前端至所述光量传感器的受光面为止的距离等于从所述投影光学系统的所述前端至所述对象物的表面为止的距离，所述传感器移动机构使所述保持部相对于所述描绘头移动。
[0011 ] 在本发明的其它优选实施方式中，所述照明光学系统具有积分器，所述采光头插入在从所述积分器至所述空间光调制设备为止的光路上。
[0012]在本发明的其它优选实施方式中，从所述光源射出的光为紫外线光。
[0013]在本发明的其它优选实施方式中，所述空间光调制设备为将能够变更朝向的多个微小镜面排列在平面上的光学元件。
[0014]在本发明的其它优选实施方式中，所述光量传感器接受的来自所述测定光学系统的光的光量为，所述光量传感器接受的来自所述投影光学系统的光的光量的10%以上且100%以下。
[0015]在本发明的其它优选实施方式中，所述检查部还具有异常检测部，所述异常检测部基于所述光量传感器接受的来自所述测定光学系统的光的光量和所述光量传感器接受的来自所述投影光学系统的光的光量，检测所述描绘头是否异常。
[0016]更优选，所述检查部还具有另一个异常检测部，所述另一个异常检测部基于所述光量传感器接受的来自所述测定光学系统的光的光量和向所述光源供给的电流或电力，检测所述描绘头是否异常。
[0017]在本发明的其它优选实施方式中，还具有其它描绘头，所述其它描绘头具有与所述描绘头相同的结构，所述检查部还具有:其它采光头，其插入在所述其它描绘头的从光源至空间光调制设备为止的光路上，取得从所述光源朝向所述空间光调制设备的至少一部分光；其它测定光学系统，其将所述其它采光头取得的光向位于所述中间光量测定位置的所述光量传感器引导；所述光量传感器借助所述传感器移动机构向相对于所述其它描绘头被决定的其它描绘光量测定位置移动，在位于所述其它描绘光量测定位置时，接受来自所述其它描绘头的投影光学系统的光。
[0018]更优选，所述描绘光量测定位置、所述其它描绘光量测定位置以及所述中间光量测定位置配置在直线上。
[0019]通过参照附图如下进行的本发明的详细的说明，明确上述的目的以及其它目的、特征、方式以及优点。
【附图说明】
[0020]图1是一个实施方式的描绘装置的主视图。
[0021]图2是描绘头以及检查头的立体图。
[0022]图3是表示空间光调制设备的图。
[0023]图4是表示描绘头异常检测部的功能的框图。
[0024]图5是表示描绘头的检查流程的图。
[0025]图6是描绘装置的主视图。
[0026]附图标记说明
[0027]I描绘装置
[0028]4检查部
[0029]9 基板
[0030]21工作台
[0031]22移动机构
[0032]23第一移动机构
[0033]24第二移动机构
[0034]31描绘头
[0035]32 光源
[0036]33照明光学系统
[0037]34空间光调制设备
[0038]35投影光学系统
[0039]41检查头
[0040]42采光头
[0041]43束状光纤
[0042]44光量传感器
[0043]45米光头移动机构
[0044]91上表面
[0045]331积分器
[0046]343微小镜面
[0047]441受光面
[0048]461第一异常检测部
[0049]462第二异常检测部
[0050]511?518步骤
【具体实施方式】
[0051]图1是表示本发明的一个实施方式的描绘装置I的结构的主视图。描绘装置I是直接描绘装置(所谓，直描装置)，其使被空间调制的大致束状的光照射对象物上的感光材料，使该光的照射区域在对象物上扫描，来描绘图案。在图1所示的例子中，对象物是印刷电路布线基板(以下，仅称为“基板9”)。在基板9中，在铜层上设置通过感光材料形成的抗蚀剂膜。在描绘装置I中，在基板9的抗蚀剂膜上描绘电路图案。
[0052]描绘装置I具有工作台21、移动机构22、描绘部3和检查部4。描绘部3具有在X方向上排列的多个描绘头31。多个描绘头31具有相同的结构。检查部4具有检查头41、多个采光头42、多个束状光纤43、光量传感器44和采光头移动机构45。检查头41配置在多个描绘头31的+X侧。光量传感器44设置在工作台21上。在图1所示的例子中，在3个描绘头31的上方(即，+Z侧)分别配置3个采光头42。检查部4利用多个采光头42检查多个描绘头31。
[0053]工作台21是从下侧保持基板9的保持部。移动机构22使基板9与工作台21 —起相对于多个描绘头31以及检查头41移动。移动机构22具有使工作台21在与X方向垂直的Y方向上移动的第一移动机构23和使工作台21在X方向上移动的第二移动机构24。在以下的说明中，将X方向以及Y方向分别称为“副扫描方向”以及“主扫描方向”。此外，也能够通过移动机构22使基板9与工作台21在水平面内旋转。
[0054]在描绘装置I中，一边使被空间调制后的光从描绘部3的多个描绘头31向基板9的+X侧的表面即上表面91上照射,一边通过第一移动机构使基板9在主扫描方向上移动，由此使来自多个描绘头31的光的照射区域在基板9上进行扫描。接着，通过第二移动机构24使基板9在副扫描方向上仅移动规定的距离，然后再次，一边使被空间调制后的光照射在基板9上一边使基板9在主扫描方向上移动。这样，在描绘装置I中，通过反复使基板9在主扫描方向上移动以及在副扫描方向上移动，来对基板9描绘电路图案。
[0055]图2是表示描绘部3的3个描绘头31中的最+X侧的描绘头31和检查头41的立体图。在图2中，为了易于理解描绘头31以及检查头41的内部结构，通过虚线描绘描绘头31以及检查头41的外壳，通过实现描绘外壳内部的结构。
[0056]描绘头31具有光源32、照明光学系统33、空间光调制设备34和投影光学系统35。光源32射出光。从光源32射出的光例如为紫外线