成。因此，能够防止第二保护层240和第二连接线261之间的填充问题。
[0044]此外，第一连接线252和像素电极251可由相同的材料同时形成，因此，无需单独的形成第一连接线252的额外工序。
[0045]第二连接线261可由金属形成并且可在第一连接线252上。第二连接线261可电连接至第一连接线252。具体地，第二连接线261可由选自钼(Mo)、铝(A1)和铜(Cu)的任一材料或它们的合金形成。第二连接线261可将显示驱动信号或触摸驱动信号施加至公共电极281。
[0046]第三保护层270可形成在第二连接线261、像素电极251以及第二保护层240上。第三保护层270可保护第二连接线261和像素电极251。第三保护层270可使像素电极251和公共电极281电隔离。第三保护层270可形成为钝化层。
[0047]公共电极281可形成在第三保护层270上，并且可通过第二接触孔271连接至第二连接线261。此处，在具有集成触摸屏的显示器件中，公共电极281可用作显示驱动电极或触摸电极。公共电极281可由诸如ΙΤ0的透明导体形成。
[0048]狭缝290可形成在公共电极281内。公共电极281和像素电极251可与狭缝290一起产生边缘场，并且所述边缘场可驱动液晶。
[0049]图5是本发明的另一实施方式的显示器件的截面图。
[0050]图5所示的本发明的另外的实施方式的显示器件包括基板200、薄膜晶体管、第一保护层234、第二保护层240、像素电极251、第一连接线252、第二连接线261、金属衬垫262、第三保护层270、公共电极281以及狭缝290。在一些实施方式中，显示器件可仅具有第二连接线261和金属衬垫262之一。在另外的实施方式中，具有第二连接线261和/或金属衬垫262的显示器件可不具有第一连接线252。
[0051]金属衬垫262可由与第二连接线261的材料相同的材料形成在暴露出漏极电极232的第一接触孔241的区域中的像素电极251上。
[0052]换言之，当在像素电极251上以与第二连接线261的材料相同的材料形成金属衬垫262时，金属衬垫262可填充在第一接触孔241的下部区域中的像素电极232的断开部，因此能够防止接触失效，并且防止由于蚀刻溶液的渗透所造成的漏极电极232的损坏。
[0053]此外，金属衬垫262以及第二连接线261可由相同的材料同时形成，因此无需用于形成金属衬垫262的额外工序。
[0054]以下，将参照图6-15描述制造本发明的各种实施方式的(具有上述构造的)显示器件的方法。
[0055]图6-15示出制造本发明的各种实施方式的显示器件的方法的截面图。
[0056]首先，如图6所示，在基板200上形成薄膜晶体管，然后形成第一保护层234和第二保护层240。具体地，第二保护层240可由光丙烯酸形成。薄膜晶体管可形成为其中栅极电极210、栅极绝缘层220、有源层230、源极电极231以及漏极电极232顺序地堆叠的结构。
[0057]在一些实施方式中，薄膜晶体管具有在栅极电极210上堆叠有源层230的结构，但是本发明并不局限于此。作为另一实施例，可在有源层230上堆叠栅极电极210，并且可在有源层230上额外地形成蚀刻阻挡层233。
[0058]随后，如图7所示，可通过图案化第一保护层234和第二保护层240来形成暴露出薄膜晶体管的漏极电极232的第一接触孔241。例如，可在第二保护层240上涂覆光刻胶，并且可通过曝光和显影工艺形成光刻胶图案。然后，可通过蚀刻第一保护层234和带有所述光刻胶图案的第二保护层240形成暴露出漏极电极232的第一接触孔241。
[0059]随后，如图8所示，在图7所示的第一接触孔241和第二保护层240上形成透明导电层250。此处，可在第二保护层240上以及在第一接触孔241内部(包括漏极电极232的顶部)形成透明导电层250。
[0060]随后，如图9所示，可通过图案化如图8所示的透明导电层250来形成像素电极251和第一连接线252。此处，可在第二保护层240上与源极电极231对应的位置处形成第一连接线252，使第一连接线252与像素电极251分开。具体地，第一连接线252可形成为透明导电层，因此可对光丙烯酸第二保护层240具有良好的粘着强度。
[0061]随后，如图10所示，可在第一连接线252、像素电极251以及第二保护层240上形成金属层260。此处，可在像素电极251上第一接触孔241内形成金属层260。
[0062]随后，如下所述，可通过图案化金属层260来形成第二连接线261。
[0063]例如，如图11A所示，可通过图案化如图10所示的金属层260来形成第二连接线261 ;或者，如图11B所示，可通过图案化金属层260来同时形成第二连接线261和金属衬垫262。在另外的实施方式中，可通过图案化金属层260仅形成金属衬垫262。
[0064]此处，可在第一连接线252上形成金属第二连接线261。可将第二连接线261电连接至第一连接线252。具体地，第二连接线261可由选自Μο、Α1和Cu中的任一材料或它们的合金形成。
[0065]此外，可将金属衬垫262电连接至在第一接触孔241区域中的像素电极251。金属衬垫262可防止在第一接触孔241处的像素电极251的断开以及由于蚀刻溶液的渗透所导致的漏极电极232的损坏。
[0066]随后，如图12所示，可在第二连接线261、像素电极251、金属衬垫262以及第二保护层240上形成第三保护层270。
[0067]随后，如图13所示，可通过图案化第三保护层270来形成暴露出第二连接线261的第二接触孔271。
[0068]随后，如图14所示，可在第二接触孔271和第三保护层270上形成公共电极层
280。此处，可通过图13所示的第二接触孔271将公共电极层280电连接至第二连接线261。
[0069]随后，如图15所示，可通过图案化图14所示的公共电极层280来形成公共电极
281。此处，公共电极281可包括狭缝290。
[0070]以上描述了仅执行到形成公共电极的工序的制造显示器件的方法，但是本发明的范围不局限于此。所述方法可包括形成公共电极的工序以及可还包括用于制造具有集成触摸屏的显示器件的另外的工序。
[0071]如在此描述地，根据本发明的一些实施方式，在显示器件中，当形成像素电极时，可在第二保护层(例如，光丙烯酸第二保护层)与连接线(例如，金属连接线)之间额外地形成与像素电极的材料相同的材料，因此，可解决第二保护层与连接线之间的填充问题。
[0072]此外，根据本发明的另外的实施方式，可通过与形成像素电极的工序相同的工序，由与像素电极的材料相同的材料形成额外的线，因此可无需额外的工序而解决填充问题。
[0073]进一步地，根据本发明的另外的实施方式，在显示器件中，当形成第二连接线时，可在接触孔区域中的像素电极上形成与第二连接线的材料相同的材料，因此可防止在像素电极与漏极电极之间的连接部中像素电极的断开，并且可防止由于像素电极的断开所导致的漏极电极的损坏。
[0074]对于本领域技术人员将显而易见的是，在不偏离本发明的精神或范围的情况下，能够对本发明做出各种改进和改变。因此，本公开内容意在覆盖落入所附权利要求书及其等同物的范围内的对本发明的改进和改变。
【主权项】
1.一种显示器件，包括: 基板； 薄膜晶体管； 在所述薄膜晶体管上形成的第一保护层； 在所述第一保护层上形成的第二保护层； 在所述第二保护层上形成的像素电极，所述像素电极通过所述第一保护层和所述第二保护层中形成的第一接触孔连接至所述薄膜晶体管的漏极电极； 在所述第二保护层上与所述薄膜晶体管的源极电极对应的位置处形成并且与第一像素电极分开的第一连接线，所述第一连接线在与所述像素电极同一层上形成； 在所述第一连接线上形成的第二连接线； 在所述第二连接线、所述像素电极以及所述第二保护层上形成的第三保护层；以及 在所述第三保护层上形成的公共电极，所述公共电极通过所述第三保护层中形成的第二接触孔连接至所述第二连接线。2.如权利要求1所述的显示器件，还包括在所述像素电极上的金属衬垫，其中所述金属衬垫由与所述第二连接线相同的材料形成。3.如权利要求1所述的显示器件，其中所述第一保护层和所述第三保护层是钝化层。4.如权利要求1所述的显示器件，其中所述第二保护层包括光丙烯酸。5.如权利要求1所述的显示器件，其中所述第一保护层和所述第三保护层是钝化层，并且所述第二保护层包括光丙烯酸。6.如权利要求1所述的显示器件，其中 所述公共电极包括狭缝；并且 所述公共电极和所述像素电极配置为与所述狭缝一起产生边缘场。7.如权利要求1所述的显示器件，其中所述显示器件具有集成触摸屏，在触摸驱动模式时，所述公共电极是触摸电极，而在显示驱动模式时，所述公共电极是显示驱动电极。
【专利摘要】本发明涉及一种显示器件以及其制造方法。所述显示器件包括薄膜晶体管、第一保护层、第二保护层、像素电极、连接线、第三保护层以及公共电极。
【IPC分类】G02F1/1343, G02F1/1362
【公开号】CN105242467
【申请号】CN201510671735
【发明人】禹允焕, 申熙善, 金景妿
【申请人】乐金显示有限公司
【公开日】2016年1月13日
【申请日】2012年10月19日
【公告号】CN103365007A, CN103365007B, US9252164, US20130249820