像素结构及显示面板的制作方法

文档序号:9546246阅读:413来源:国知局
像素结构及显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明是有关于一种半导体结构及半导体装置,且特别是有关于一种像素结构及显示面板。
【背景技术】
[0002]随着科技的进步,体积庞大的阴极射线管(Cathode Ray Tube,CRT)显示器已逐渐走入历史。体积精简的平面显示器,例如:液晶显示面板(Liquid Crystal Display,IXD)、有机发光二极管显示面板(Organic Light Emitting D1de display, OLED display)、电泳显不面板(Electro-Phoretic Display,EFO)、电楽显不面板(Plasma Display Panel,PDP)等,则取代阴极射线管显示器成为显示器的主流。
[0003]近年来,业界更提出将彩色滤光图案整合于像素阵列基板上(Color Filter onArray,C0A)的技术。组立C0A基板与另一对向基板,并于二者之间填入显示介质,便可形成显示面板。由于彩色滤光图案是直接形成在像素阵列基板上,因此彩色滤光图案与像素结构之间的对位精度不受组立C0A基板与对向基板的工艺能力限制。换言之,C0A技术很适合用来制造高分辨率的显示面板。
[0004]—般而言,在C0A基板中,位于彩色滤光图案上方的多个像素电极需穿过彩色滤光图案的多个开口,以和彩色滤光图案下方的薄膜晶体管电性连接。此外,C0A基板的彩色滤光图案还需预留另外多个开口,以露出像素电极与共享线的重迭区域。借此,激光方可顺利通过所述彩色滤光图案的开口熔接像素电极与共享线的重迭区域,进而完成像素结构的修补(即暗点化)。然而,上述多个开口之间需保持一定的规范距离,而使像素结构的布局(layout)受限。因此,在达成高分辨率的前提下,采用上述多个彩色滤光图案开口的设计十分不易设计出开口率高的显示面板。此外,在提高开口率的考虑下,让出像素电极与共享线重迭区域的彩色滤光图案开口的面积往往也设计的较小,但此举却使得像素结构修补不易(即激光不易通过较小的彩色滤光图案开口),而修补成功率偏低。

【发明内容】

[0005]本发明提供一种像素结构及显示面板,其开口率高。
[0006]本发明的一种像素结构包括数据线、扫描线、共享线、第一主动元件、第二主动元件、绝缘层、彩色滤光图案、第一像素电极、第二像素电极以及保护图案。扫描线与数据线交错。绝缘层覆盖第一主动元件以及第二主动元件。彩色滤光图案配置于绝缘层上且具有沟槽。沟槽沿着与扫描线平行的方向延伸且跨越数据线。第一像素电极配置于彩色滤光图案上且填入沟槽,以和第一主动元件电性连接。第一像素电极与共享线重迭的部位于沟槽中。第二像素电极配置于彩色滤光图案上且填入沟槽,以和第二主动元件电性连接。第二像素电极与共享线重迭的部份位于沟槽中。保护图案填入沟槽,以覆盖部份的第一像素电极与部份的第二像素电极。保护图案为绝缘透光材料。
[0007]本发明的另一种像素结构包括多条数据线、与数据线交错的多条扫描线、多条共享线、与数据线及扫描线电性连接的多个主动元件、覆盖主动元件的绝缘层、配置于绝缘层上且包括多个彩色滤光块的彩色滤光图案、以及分别配置于彩色滤光块上的多个像素电极以及多个保护图案。彩色滤光块沿着与数据线平行的方向排成多行且沿着与扫描线平行的方向排成多列。位于同一列的多个彩色滤光块彼此相接。相邻二列的彩色滤光块相隔开,以定义出多个沟槽。每一彩色滤光块具有与数据线平行的第一边、与扫描线平行的第二边以及连接第一边与第二边的一斜边。位于同一列且相邻的二个彩色滤光图案的第一边相接。相邻二个彩色滤光图案的二斜边分开,以定义出一缺口。缺口与对应的沟槽相通。每一像素电极填入对应的一个沟槽而与对应的一个主动元件电性连接。每一像素电极具有修补部。修补部与对应的一条共享线重迭且位于沟槽中。保护图案为绝缘透光材料。每一保护图案包括主体部与分支部。主体部填入对应的一个沟槽,以覆盖对应的一个像素电极的修补部。分支部与主体部连接且填入对应的一个缺口。
[0008]本发明的显示面板包括上述像素阵列基板、位于像素阵列基板对向侧的对向基板以及位于像素阵列基板与对向基板之间的显示介质。像素阵列基板包括多个像素结构,其中每一像素结构如上述像素结构。
[0009]在本发明的一实施例中,上述的第一像素电极与共享线重迭的部分与第二像素电极与共享线重迭的部分与共享线电性连接。
[0010]在本发明的一实施例中,上述的像素结构配置于第一基板上。像素结构更包括间隙物。间隙物配置于彩色滤光图案上。间隙物的顶点与第一基板的距离大于保护图案的顶面与第一基板的距离。保护图案与间隙物的材质相同。
[0011]在本发明的一实施例中,上述的第一像素电极与共享线重迭的部分以及第二像素电极与共享线重迭的部分位于第一扫描线的同一侧。
[0012]在本发明的一实施例中,上述的像素结构更包括分享开关元件以及分享电容。分享开关元件与第一主动元件电性连接。分享电容与分享开关元件电性连接。
[0013]在本发明的一实施例中,上述的分享电容包括第一电极以及第二电极。第一电极为分享开关元件的漏极。第二电极配置于绝缘层上且与第一电极重迭。第二电极填入绝缘层的接触窗而与共享线电性连接。接触窗位于沟槽的面积之内。
[0014]在本发明的一实施例中,上述的分享开关元件的漏极具有相对的第一侧与第二侦k第一像素电极与共享线重迭的部分位于分享开关元件的漏极的第一侧。第二像素电极与共享线重迭的部分以及数据线位于分享开关元件的漏极的第二侧。
[0015]在本发明的一实施例中,上述的第一像素电极与共享线重迭的部分、第二像素电极与共享线重迭的部分以及数据线位于分享开关元件的漏极的同一侧。
[0016]在本发明的一实施例中,上述的保护图案填满沟槽,且保护图案的边缘超出沟槽的边缘。
[0017]在本发明的一实施例中,上述的像素结构更包括间隙物。间隙物配置于彩色滤光图案上。间隙物抵顶对向基板,而保护图案与间隙物的材质相同。
[0018]在本发明的一实施例中,上述的对向基板包括遮光图案。遮光图案遮蔽彩色滤光图案的沟槽。
[0019]基于上述,在本发明一实施例的像素结构及显示面板中,彩色滤光图案具有沿着与第一扫描线平行的方向延伸且跨越数据线的沟槽。第一像素电极配置于彩色滤光图案上且填入彩色滤光图案的沟槽,以和第一主动元件电性连接。第二像素电极配置于彩色滤光图案上且填入彩色滤光图案的沟槽,以和第二主动元件电性连接。第一像素电极的与共享线重迭的第一修补部以及第二像素电极的与共享线重迭的第二修补部也位于沟槽中。换言之,第一像素电极以及第二像素电极需穿过彩色滤光图案的部分(例如:第一像素电极与第一主动元件的漏极接触的区域、第二像素电极与第二主动元件的漏极接触的区域)以及第一像素电极与第二像素电极需避开彩色滤光图案的部分(例如:第一、二修补部)均设置在同一开口(即,彩色滤光图案的同一沟槽)中。借此,不需像习知技术般,在彩色滤光图案中设置『多个』开口,因此,不需考虑习知技术中彩色滤光图案多个开口之间距离的规范,从而使像素结构的布局(layout)更具弹性,而有助于设计出开口率高的像素阵列基板及显示面板。
[0020]以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。
【附图说明】
[0021]图1为本发明一实施例的像素阵列基板的上视示意图。
[0022]图2为本发明一实施例的像素阵列基板的剖面示意图。
[0023]图3为本发明一实施例的像素阵列基板的剖面示意图。
[0024]图4为本发明一实施例的显示面板的剖面示意图。
[0025]图5为本发明另一实施例的像素阵列基板的上视示意图。
[0026]图6为本发明另一实施例的像素阵列基板的剖面示意图。
[0027]图7为本发明另一实施例的像素阵列基板的剖面示意图。
[0028]图8为本发明另一实施例的显示面板的剖面示意图。
[0029]图9为本发明另一实施例的像素阵列基板的上视示意图。
[0030]图10为本发明另一实施例的像素阵列基板的剖面示意图。
[0031]图11为本发明另一实施例的显示面板的剖面示意图。
[0032]图12示出本发明一实施例的像素阵列基板的彩色滤光图案及保护图案。
[0033]图13示出本发明一实施例的像素阵列基板的彩色滤光图案及保护图案。
[0034]其中,附图标记:
[0035]100、100A、100B:像素阵列基板
[0036]110:第一基板
[0037]120、120A、120B:像素结构
[0038]122、125、G1:绝缘层
[0039]122a、125a、122b、125b:开口
[0040]122c、125c:接触窗
[0041]124:彩色滤光图案
[0042]124a、124c:沟槽
[0043]124b:缺口
[0044]124ae:边缘
[0045]126a:保护图案
[0046]126al:主体部
[0047]126a2、126a3:分支部
[0048]126ae:边缘
[0049]l26b:间隙物
[0050]128:导电图案
[0051]200:对向基板
[0052]300:显示介质
[0053]400:共享电极
[0054]1000、1000A、1000B:显示面板
[0055]A-A,、B-B,、C-C,、D-D,、E-E,、F-F,、G-G,、H-H,、Ι-Γ:剖线
[0056]BM:遮光图案
[0057]C:列
[0058]CF:彩色滤光块
[0059]CFa、CFb、CFc:边
[0060]C1:第一储存电容
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