一种电润湿显示装置像素墙的制备工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及电润湿领域，具体涉及一种电润湿显示装置像素墙的制备工艺。
【背景技术】
[0002]电润湿显示装置包括流体腔室和电极结构，其中流体腔室包含不导电的第一流体(烷烃等)、导电的第二流体(水或盐溶液)，流体相互接触且不可混溶。如专利CN102792207A等中描述了一种电润湿显示装置，它包括两个支撑板，在其中一个支撑板上设置有壁图案即像素墙，像素墙围成的像素格所形成的区域就是显示区域，电润湿显示装置就在这个显示区上产生显示效果。不导电的第一流体便填充于像素墙所形成的显示区域内，其周围的像素墙用于阻挡第一流体流向周围像素格，从而得到稳定的显示结构。
[0003]像素墙图案的布置常用的方法为光刻胶类物质(比如SU8)经光刻工艺得到，包括传统的涂布、烘烤、曝光、显影等步骤，所用设备包括各种的涂布仪器(旋涂机、狭缝涂布机等)、热板、烘箱、曝光机、显影设备等，所用材料多为光刻胶类物质，比如SU8等，价格昂贵，工艺复杂，尤其对于产业而言，造成较高的设备、材料、人工成本。
【发明内容】
[0004]为解决上述问题，本发明提供一种电润湿显示装置像素墙的制备工艺，材料来源广泛，价格低廉，简化工艺的同时降低设备和人工成本。
[0005]本发明解决其技术问题的解决方案是:一种电润湿显示装置像素墙的制备工艺，包括
采用制图软件制作像素墙三维结构模型；
利用3D打印机软件的离散程序实现对所述像素墙三维结构模型的分割，将所述像素墙三维立体模型分割成多层片状结构；
采用聚合物材料，通过3D打印机在电润湿基底表面逐层喷涂或熔结打印出所述的片状结构，固化成型，制得所述的像素墙。
[0006]作为上述方案的进一步改进，所述像素墙的高度为5_50μπι，宽度5_20μπι，相邻像素墙的间距为100-1000μηι。
[0007]作为上述方案的进一步改进，所述像素格的形状为正方形、矩形或者其他任意多边形、圆形。
[0008]作为上述方案的进一步改进，所述片状结构的厚度为5_50μπι。
[0009]作为上述方案的进一步改进，所述聚合物材料为液态光敏树脂，采用紫外光固化的方法固化成型。
[0010]作为上述方案的进一步改进，所述聚合物材料为ABS树脂和PLA(聚乳酸)，采用熔积成型和分层实体制造的方法打印。
[0011]本发明的有益效果是:本发明通过采用3D打印的技术代替传统光刻工艺布置像素墙，节约了设备、材料、人工等各项成本，利于产业化的进行。
【附图说明】
[0012]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单说明。显然，所描述的附图只是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他设计方案和附图。
[0013]图1是本发明的制备方法的工艺流程图；
图2是本发明的一实施例的3D打印像素墙结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]以下将结合实施例和附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整的描述，以充分地理解本发明的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本发明的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本发明保护的范围。本发明创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
[0015]电润湿领域的像素墙结构一般具有5_50μπι的高度、5_20μπι的宽度，相邻像素墙的间距一般为100-1000μπι，即像素格的大小介于100-1000μπι。
[0016]本发明的电润湿显示装置像素墙的工艺流程如图1所示。
[0017]首先，采用制图软件制作像素墙三维结构模型。
[0018]制图软件可以采用常规可用的机械制图软件，如SoIid work、CAD、CAXA、Proe、UG、CAT IA等。但是这里需要注意的是，需要把3D建模后的文件保存成特定的3D打印程序能够识别的模型格式，如STL格式文件。
[0019]像素墙结构的模型根据科研或生产需要设计，一般具有5_50μπι的高度、5_20μπι的宽度，相邻像素墙的间距一般为100-1000μπι，即像素格的大小介于100-1000μπι，像素格多采用正方形、矩形或者其他多边形，甚至圆形。
[0020]其次，利用3D打印机软件的离散程序实现对所述像素墙三维结构模型的分割，将所述像素墙三维立体模型分割成多层片状结构。
[0021]对于具有较低高度的像素墙，可能不需要分割，如ΙΟμπι左右的像素墙高度;而对于较高像素墙，则需要多次分割。
[0022 ]作为本发明的优选实施例，片状结构的厚度为5_50μπι，便于3D打印件的精确打印。
[0023]作为本发明的优选实施例，将像素墙模型分割为厚度均等的片状，便于控制，打印精度高。
[0024]最后，采用聚合物材料，通过3D打印机在电润湿基底表面逐层喷涂或熔结打印出所述的片状结构，固化成型，制得所述的像素墙。
[0025]根据像素墙材料的不同，选择不同的打印方式得到像素墙结构，在本发明一实施例中，采用液态光敏树脂作为像素墙材料，则采用紫外光固化的方法固化成型，得到的像素墙结构如图2所示。
[0026]在本发明另一实施例中，采用ABS树脂和PLA(聚乳酸)作为像素墙材料，采用熔积成型和分层实体制造的方法打印。
[0027]以上对本发明的较佳实施方式进行了具体说明，但本发明创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可作出种种的等同变型或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
【主权项】
1.一种电润湿显示装置像素墙的制备工艺，其特征在于:包括 采用制图软件制作像素墙三维结构模型； 利用3D打印机软件的离散程序实现对所述像素墙三维结构模型的分割，将所述像素墙三维立体模型分割成多层片状结构； 采用聚合物材料，通过3D打印机在电润湿基底表面逐层喷涂或熔结打印出所述的片状结构，固化成型，制得所述的像素墙。2.根据权利要求1所述的电润湿显示装置像素墙的制备工艺，其特征在于，所述像素墙的高度为5-50μηι，宽度5-20μηι，相邻像素墙的间距为100-1000μηι。3.根据权利要求1所述的电润湿显示装置像素墙的制备工艺，其特征在于，所述像素格的形状为正方形、矩形或者其他任意多边形、圆形。4.根据权利要求1所述的电润湿显示装置像素墙的制备工艺，其特征在于，所述多层片状结构的厚度相等。5.根据权利要求1所述的电润湿显示装置像素墙的制备工艺，其特征在于:所述片状结构的厚度为5?50μπι。6.根据权利要求1所述的电润湿显示装置像素墙的制备工艺，其特征在于，所述聚合物材料为液态光敏树脂，采用紫外光固化的方法固化成型。7.根据权利要求1所述的电润湿显示装置像素墙的制备工艺，其特征在于，所述聚合物材料为ABS树脂和PLA(聚乳酸)，采用熔积成型和分层实体制造的方法打印。
【专利摘要】本发明公开了一种电润湿显示装置像素墙的制备工艺，包括采用制图软件制作像素墙三维结构模型；利用3D打印机软件的离散程序实现对所述像素墙三维结构模型的分割，将所述像素墙三维立体模型分割成多层片状结构；采用聚合物材料，通过3D打印机在电润湿基底表面逐层喷涂或熔结打印出所述的片状结构，固化成型，制得所述的像素墙。本发明的制备工艺材料来源广泛，价格低廉，简化工艺的同时降低设备和人工成本。
【IPC分类】G02B26/00
【公开号】CN105676443
【申请号】CN201610102358
【发明人】周国富, 朱智星, 窦盈莹, 李发宏, 水玲玲, 罗伯特·安德鲁·海耶斯
【申请人】深圳市国华光电研究院, 深圳市国华光电科技有限公司, 华南师范大学
【公开日】2016年6月15日
【申请日】2016年2月24日