评价中轻微地观察到擦拭的痕迹。高温高湿度试验中的折射 率变化小且小于0. 01。而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少了一半并且用三甲基甲 硅烷基将中空SiOgH颗粒和粘结剂的表面取代。
[0150] 实施例6
[0151] 实施例6中，以与实施例2中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由链状Si02细颗粒制成的多孔层，该玻璃基材具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚 度。以与实施例2中相同的方法，用Si0 2粘结剂涂布液4涂布生成的多孔层并且进行加热， 以致形成了其中用粘结剂将链状SiOgH颗粒粘结的多孔层。
[0152] 然后，以与实施例1中相同的方法，通过使用1，1，1，3, 3, 3-六甲基二硅氮烷进 行烷基硅烷化以制备光学部件，其中在基材上形成了具有1.24的折射率、47%的孔隙率、 118nm的膜厚度和115°的纯水接触角的多孔层。浸入纯水中10分钟后的水接触角为 114°，因此变化小。在耐磨性评价中轻微地观察到擦拭的痕迹。高温高湿度试验中的折射 率变化小且小于0. 01。而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少了一半并且用三甲基甲 硅烷基将中空SiOgH颗粒和粘结剂的表面取代。
[0153] 实施例7
[0154] 实施例7中，以与实施例1中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由中空Si02细颗粒制成的多孔层，该玻璃基材具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚 度。用Si0 2粘结剂涂布液3涂布生成的多孔层并且进行加热，以致形成了其中用粘结剂将 中空SiOgH颗粒粘结的多孔层。
[0155] 而且，除了将硅氮烷化合物变为1，1，3, 3-四甲基二硅氮烷以外，以与实施例1中 相同的方法进行烷基硅烷化。确认在15小时内使容器中放置的全部1，1，3, 3-四甲基二硅 氮烷蒸发。
[0156] 结果，制备光学部件，其中在基材上形成了具有1.24的折射率、47%的孔隙率、 123nm的膜厚度和126°的纯水接触角的多孔层。浸入纯水中10分钟后的水接触角为 109°，因此尽管值高，但变化大。在耐磨性评价中没有观察到变化并且高温高湿度试验中 的折射率变化小于〇. 01。而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少了一半并且用二甲基 甲硅烷基将中空SiOgH颗粒和粘结剂的表面取代。
[0157]
[0158] 1，1，3, 3-四甲基二硅氮烷
[0159]
[0160] 二甲基甲硅烷基
[0161] 实施例8
[0162] 实施例8中，以与实施例2中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由链状Si02细颗粒制成的多孔层，该玻璃基材具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚 度。用Si0 2粘结剂涂布液3涂布生成的多孔层并且进行加热，以致形成了其中用粘结剂将 链状SiOgH颗粒粘结的多孔层。
[0163] 而且，以与实施例7中相同的方法，通过使用1，1，3, 3-四甲基二硅氮烷进行烷基 硅烷化以制备光学部件，其中在基材上形成了具有1. 25的折射率、44%的孔隙率、118nm的 膜厚度和127°的纯水接触角的多孔层。浸入纯水中10分钟后的水接触角为108°，因此， 尽管值高，但变化大。在耐磨性评价中没有观察到变化并且高温高湿度试验中的折射率变 化小于0. 01。而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少了一半并且用二甲基甲硅烷基将 中空SiOgH颗粒和粘结剂的表面取代。
[0164] 实施例9
[0165] 实施例9中，以与实施例1中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由中空Si02细颗粒制成的多孔层，该玻璃基材具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚 度。用Si0 2粘结剂涂布液3涂布得到的多孔层并且进行加热，以致形成了其中用粘结剂将 中空SiOgH颗粒粘结的多孔层。
[0166] 而且，除了将硅氮烷化合物变为1，3-双（3, 3, 3-三氟丙基）-1，1，3, 3-四甲基二 硅氮烷以外，以与实施例1中相同的方法进行烷基硅烷化。考察到在15小时内容器中放置 的1，3-双（3, 3, 3-三氟丙基）-1，1，3, 3-四甲基二硅氮烷的蒸发量为0. 004g。由蒸发量计 算的容器中的硅氮烷化合物的浓度为6. 7mg/L。
[0167] 结果，制备光学部件，其中在基材上形成了具有1.25的折射率、44%的孔隙率、 122nm的膜厚度和112°的纯水接触角的多孔层。浸入纯水中10分钟后的水接触角为 110°，因此变化小。在耐磨性评价中没有观察到变化并且高温高湿度试验中的折射率变化 小且小于0. 01。而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少了一半并且用3, 3, 3-三氟丙基 ^甲基甲娃烷基对中空Si02细颗粒和粘结剂的表面进彳丁了烷基硅烷化。
[0168]
[0169] 1，3-双（3, 3, 3-三氟丙基）-1，1，3, 3-四甲基二硅氮烷
[0170]
[0171] 3, 3, 3-三氟丙基二甲基甲硅烷基
[0172] 实施例10
[0173] 实施例10中，以与实施例2中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由链状Si02细颗粒制成的多孔层，该玻璃基材具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚 度。用Si0 2粘结剂涂布液3涂布生成的多孔层并且进行加热，以致形成了其中用粘结剂将 链状SiOgH颗粒粘结的多孔层。
[0174] 而且，以与实施例9相同的方法，通过使用1，3-双（3, 3, 3-三氟丙 基）-1，1，3, 3-四甲基二硅氮烷进行烷基硅烷化。于是，制备光学部件，其中在基材上形成 了具有1. 26的折射率、42%的孔隙率、119nm的膜厚度和112°的纯水接触角的多孔层。浸 入纯水中10分钟后的水接触角为110°，因此，变化小。在耐磨性评价中没有观察到变化。 高温高湿度试验中的折射率变化小且小于0. 01。而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少 了一半并且用3, 3, 3-三氟丙基二甲基甲硅烷基将中空SiOgH颗粒和粘结剂的表面取代。
[0175] 实施例11
[0176] 实施例11中，以与实施例1中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由中空Si02细颗粒制成的多孔层，该玻璃基材具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚 度。用Si0 2粘结剂涂布液3涂布生成的多孔层并且进行加热，以致形成了其中用粘结剂将 中空SiOgH颗粒粘结的多孔层。
[0177] 而且，除了将硅氮烷化合物变为二甲基氨基三甲基硅烷以外，以与实施例1中相 同的方法进行烷基硅烷化。确认在15小时内使容器中放置的全部二甲基氨基三甲基硅烷 蒸发。
[0178] 结果，制备光学部件，其中在基材上形成了具有1.24的折射率、47%的孔隙率、 123nm的膜厚度和112°的纯水接触角的多孔层。浸入纯水中10分钟后的水接触角为 110°，因此变化小。在耐磨性评价中没有观察到变化并且高温高湿度试验中的折射率变化 小于0. 01。而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少了一半并且用三甲基甲硅烷基将中 空SiOgH颗粒和粘结剂的表面取代。
[0179]
[0180] 二甲基氨基三甲基硅烷
[0181]
[0182] 三甲基甲硅烷基
[0183] 实施例12
[0184] 实施例12中，以与实施例2中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由链状Si02细颗粒制成的多孔层，该玻璃基材具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚 度。用Si0 2粘结剂涂布液3涂布生成的多孔层并且进行加热，以致形成了其中用粘结剂将 链状SiOgH颗粒粘结的多孔层。
[0185] 而且，以与实施例11中相同的方法，通过使用二甲基氨基三甲基硅烷进行烷基硅 烷化以制备光学部件，其中在基材上形成了具有1. 25的折射率、44%的孔隙率、118nm的膜 厚度和114°的纯水接触角的多孔层。浸入纯水中10分钟后的水接触角为112°，因此，变 化小。在耐磨性评价中没有观察到变化。高温高湿度试验中的折射率变化小且小于0.01。 而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少了一半并且用三甲基甲硅烷基将中空Si0 2细颗 粒和粘结剂的表面取代。
[0186] 实施例13
[0187] 实施例13中，以与实施例1中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由中空Si02细颗粒制成的多孔层，该玻璃基材具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚 度。用Si0 2粘结剂涂布液3涂布生成的多孔层并且进行加热，以致形成了其中用粘结剂将 中空SiOgH颗粒粘结的多孔层。
[0188] 而且，除了称出0.005g的双（二甲基氨基）二甲基硅烷作为硅氮烷化合物以外， 以与实施例1中相同的方法进行烷基硅烷化。确认了在15小时内使容器内放置的全部双 (二甲基氨基）二甲基硅烷蒸发。由蒸发量计算的容器中的硅氮烷化合物的浓度为8. 4mg/ L。在多孔层上残留过量的硅氮烷化合物，因此用乙醇进行清洗。然后，用干燥空气进行鼓 风干燥。
[0189] 结果，制备光学部件，其中在基材上形成了具有1.27的折射率、40%的孔隙率、 122nm的膜厚度和122°的纯水接触角的多孔层。浸入纯水中10分钟后的水接触角为 12Γ，因此变化小。在耐磨性评价中没有观察到变化并且高温高湿度试验中的折射率变化 小于0. 01。而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少了一半并且用二甲基亚甲硅烷基将 中空SiOgH颗粒和粘结剂的表面取代。
[0190]
[0191] 双（二甲基氨基）二甲基硅烷
[0192]
[0193] 二甲基亚甲硅烷基
[0194] 实施例14
[0195] 实施例14中，以与实施例2中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由链状Si02细颗粒制成的多孔层，其具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚度。用Si0 2 粘结剂涂布液3涂布生成的多孔层并且进行加热，以致形成了其中用粘结剂将链状SiOgH 颗粒粘结的多孔层。
[0196] 而且，以与实施例13中相同的方法，通过使用双（二甲基氨基）二甲基硅烷进 行烷基硅烷化以制备光学部件，其中在基材上形成了具有1.28的折射率、38%的孔隙率、 117nm的膜厚度和123°的纯水接触角的多孔层。浸入纯水中10分钟后的水接触角为 122°，因此，变化小。在耐磨性评价中没有观察到变化。高温高湿度试验中的折射率变化 小且小于0. 01。而且由IR光谱确认：使硅烷醇基的峰减少了一半并且用二甲基亚甲硅烷 基将中空^〇2细颗粒和粘结剂的表面取代。
[0197] 实施例15
[0198] 实施例15中，以与实施例1中相同的方法，在玻璃基材（nd = 1. 77, v d = 50)上 形成了只由中空Si02细颗粒制成的多孔层，该玻璃基材具有30mm的直径（Φ)和1mm的厚 度。用Si0 2粘结剂涂布液3涂布生成的多孔层并且进行加热，以致形成了其中用粘结剂将 中空SiOgH颗粒粘结的多孔层。
[0199] 而且，除了称出0. 005g的2, 2, 4, 4, 6, 6-六甲基环三硅氮烷作为硅氮烷化合物以 外，以与实施例1中相同的方法进行烷基硅烷化。确认了在15小时内使容器内放置的全部 2, 2, 4, 4, 6, 6-六甲基环三硅氮烷蒸发。由蒸发量计算的容器中的硅氮烷化合