显示基板的制作方法和装置的制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种显示基板的制造方法和装置，方法包括：利用装载有配向液的全涂覆APR转印版对预设基板进行整面涂覆，形成位于预设基板上的配向膜层；其中，预设基板包括行列间隔分布的多个显示区域；任意两个相邻的显示区域之间的区域为非显示区域；在所述配向膜层上覆盖遮挡层；遮挡层包括多个遮挡区域和非遮挡区域，所述遮挡区域与所述显示区域对应，非遮挡区域与非显示区域对应；对遮挡层覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。本发明提供的方法，使得不同产品可以共用一张全涂覆APR转印版，不但节约了成本而且提高了产能。
【专利说明】
显示基板的制作方法和装置
技术领域
[0001]本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板的制作方法和装置。
【背景技术】
[0002]液晶屏成盒的具体步骤为:先在一张玻璃基板的四周涂覆封框胶，然后在另一张玻璃基板中央使用滴下法滴加液晶。通过真空贴合两张玻璃基板，最后进行封框胶的固化，从而完成成盒工艺。在液晶显示面板的生产过程中，为了使液晶分子能够正常取向，需要在阵列基板和彩膜基板的表面涂上一层聚酰亚胺膜，然后在聚酰亚胺膜上进行摩擦工艺，以实现液晶分子的取向。因此，阵列基板与彩膜基板的聚酰亚胺膜涂布是非常重要的一部工艺过程，聚酰亚胺膜涂布的核心是APR转印，APR转印版的设计与固定对取向膜的转印效果有着重要的影响。
[0003]目前在形成聚酰亚胺膜时使用的APR转印版如图1所示，a为APR转印版上的图案，a表示有效涂覆区域。其中APR转印版的图案与显示面板的设计一一对应，不同型号的显示产品需要设计不同样式的APR转印版。这样，不但增加APR转印版的设计和制作成本，而且使得产线需要常常更换和清洗APR转印版，进而导致产能的降低。
【发明内容】
[0004]针对现有技术中的缺陷，本发明提供一种显示基板的制作方法和装置，使得不同产品可以共用一张全涂覆APR转印版，不但节约了成本而且提高了产能。
[0005 ]为解决上述技术问题，本发明提供以下技术方案:
[0006]第一方面，本发明提供了一种显示基板的制造方法，包括:
[0007]利用装载有配向液的全涂覆APR转印版对预设基板进行整面涂覆，形成位于所述预设基板上的配向膜层;其中，所述预设基板包括行列间隔分布的多个显示区域;任意两个相邻的显示区域之间的区域为非显示区域；
[0008]在所述配向膜层上覆盖遮挡层;所述遮挡层包括多个遮挡区域和非遮挡区域，所述遮挡区域与所述显示区域对应，所述非遮挡区域与所述非显示区域对应；
[0009]对所述遮挡层覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0010]优选地，所述对所述遮挡层覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜，包括:
[0011]在所述遮挡层表面释放等离子体，使等离子体将所述非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0012]优选地，所述对所述遮挡层覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜，包括:
[0013]在所述遮挡层表面照射紫外光，使紫外光将所述非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0014]优选地，所述全涂覆APR转印版上设置有一个矩形凹槽图案，所述矩形凹槽图案用于装载配向液，所述矩形凹槽图案的大小与所述预设基板的大小匹配。
[0015]优选地，所述配向液包括聚酰亚胺溶液。
[0016]第二方面，本发明还提供了一种显示基板的制造装置，包括:全涂覆APR转印版、遮挡板和去除单元；
[0017]其中，所述全涂覆APR转印版用于在装载配向液后对预设基板进行整面涂覆，以形成位于所述预设基板上的配向膜层;其中，所述预设基板包括行列间隔分布的多个显示区域;任意两个相邻的显示区域之间的区域为非显示区域；
[0018]所述遮挡板用于覆盖在所述配向膜层上;所述遮挡板包括多个遮挡区域和非遮挡区域，所述遮挡区域与所述显示区域对应，所述非遮挡区域与所述非显示区域对应；
[0019]所述去除单元，用于对所述遮挡板覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0020]优选地，所述去除单元包括:等离子源，所述等离子源位于所述遮挡板远离所述配向膜层的一侧；
[0021]所述等离子源用于制造并在所述遮挡板远离所述配向膜层的一侧释放等离子体，使等离子体将所述非遮挡区域对应的配向膜层部分去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0022]优选地，所述去除单元包括:紫外灯，所述紫外灯位于所述遮挡板远离所述配向膜层的一侧；
[0023]所述紫外灯用于在所述遮挡板远离所述配向膜层的一侧发射紫外光，使紫外光将所述非遮挡区域对应的配向膜层部分去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0024]优选地，所述全涂覆APR转印版上设置有一个矩形凹槽图案，所述矩形凹槽图案用于装载配向液，所述矩形凹槽图案的大小与所述预设基板的大小匹配。
[0025]优选地，所述配向液包括聚酰亚胺溶液。
[0026]由上述技术方案可知，本发明提供的显示基板的制造方法，首先采用全涂覆APR转印版对预设基板进行整面涂覆，形成位于所述预设基板上的配向膜层，其中，预设基板包括行列间隔分布的多个显示区域，任意两个相邻的显示区域之间的区域为非显示区域;然后在配向膜层上覆盖遮挡层，遮挡层包括多个遮挡区域和非遮挡区域，遮挡区域与预设基板的显示区域对应，非遮挡区域与预设基板的非显示区域对应;最后对遮挡层覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜，从而完成预设基板上的配向膜的涂布和成型。可见，本发明采用全涂覆APR转印版对预设基板进行整面涂覆的方式，彻底解放了APR转印版，使得不同产品可以共用一张APR转印版，节约成本也释放了产能。此外，在形成位于所述预设基板上的整层配向膜层后，采用带有遮挡区域和非遮挡区域的遮挡层覆盖整层配向膜，使得遮挡层将预设基板的显示区域上的配向膜保护起来，然后将预设基板的非显示区域上的配向膜去除，从而只保留显示区域上的配向膜，进而完成了预设基板上的配向膜的制作流程。本实施例中采用带有遮挡区域和非遮挡区域的遮挡层覆盖整层配向膜然后去除非遮挡区域对应的配向膜的方式，可以较容易地完成定点去除和定点保留工艺，解决了目前在窄边框产品的开发过程中，因采用带有图案的APR版，而容易出现的配向膜印刷误差最大值(EM)过大进而导致的配向膜与框胶叠加而产生的不良问题。
【附图说明】
[0027]为了更清楚地说明本实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1是现有技术中的APR转印版的设计示意图；
[0029]图2是本发明实施例一提供的显示基板的制造方法的流程图；
[0030]图3是本发明实施例提供的全涂覆APR转印版的一种设计示意图；
[0031 ]图4是采用全涂覆APR转印版形成配向膜的工艺过程示意图；
[0032]图5是采用等离子体去除非遮挡区域对应的配向膜层的示意图；
[0033]图6是采用等紫外光去除非遮挡区域对应的配向膜层的示意图；
[0034]图7是采用全涂覆APR转印版和带有遮挡区域和非遮挡区域的遮挡层进行取向膜涂布和成型的不意图；
[0035]图8是本发明实施例提供的全涂覆APR转印版的另一种设计示意图；
[0036]图9是本发明实施例二提供的显示基板的制造装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0037]为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0038]实施例一
[0039]图2示出了本发明实施例一提供的显示基板的制造方法的流程图。参见图2，本发明实施例一提供的显示基板的制造方法，包括如下步骤:
[0040]步骤101:利用装载有配向液的全涂覆APR转印版对预设基板进行整面涂覆，形成位于所述预设基板上的配向膜层;其中，所述预设基板包括行列间隔分布的多个显示区域；任意两个相邻的显示区域之间的区域为非显示区域。
[0041]在本步骤中，利用装载有配向液的全涂覆APR转印版对预设基板进行整面涂覆后形成的配向膜为液体状的，此时需要对液体状的配向膜进行预固化处理，目的是去除配向液中的溶剂，使之成为固态的配向膜。关于预固化的处理工艺，可以采用加热方式实现，例如加热温度为85 ± 20°C，加热时间为100 土 50s。
[0042]步骤102:在所述配向膜层上覆盖遮挡层;所述遮挡层包括多个遮挡区域和非遮挡区域，所述遮挡区域与所述显示区域对应，所述非遮挡区域与所述非显示区域对应。
[0043]步骤103:对所述遮挡层覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0044]参见图3和图4，图3为本实施例提供的全涂覆APR转印版，从图3可以看出，本实施例提供的APR转印版采用全涂覆的设计，APR转印版上没有图案，各种型号产品之间可以通用。图4为采用全涂覆APR转印版形成配向膜的工艺过程示意图。由图3和图4可知，本实施例提供的显示基板的制造方法，首先采用全涂覆APR转印版对预设基板(可以为阵列基板或彩膜基板)进行整面涂覆，形成位于所述预设基板10上的配向膜层20，其中，预设基板10包括行列间隔分布的多个显示区域仏，任意两个相邻的显示区域之间的区域为非显示区域B2;然后在配向膜层20上覆盖遮挡层30，遮挡层30包括多个遮挡区域A1和非遮挡区域A2,遮挡区域A1与预设基板10的显示区域B1对应，非遮挡区域A2与预设基板10的非显示区域B2对应;最后对遮挡层30覆盖的配向膜层20进行处理，使得非遮挡区域A2对应的配向膜层去除，遮挡区±或^对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域A1对应的显示区域扮的表面形成相应的配向膜，从而完成预设基板上的配向膜的涂布和成型。可见，本实施例采用全涂覆APR转印版对预设基板进行整面涂覆的方式，彻底解放了 APR转印版，使得不同产品可以共用一张APR转印版，节约成本也释放了产能。此外，在形成位于所述预设基板上的整层配向膜层后，采用带有遮挡区域和非遮挡区域的遮挡层覆盖整层配向膜，使得遮挡层将预设基板的显示区域上的配向膜保护起来，然后将预设基板的非显示区域上的配向膜去除，从而只保留显示区域上的配向膜，进而完成了预设基板上的配向膜的制作流程。本实施例中采用带有遮挡区域和非遮挡区域的遮挡层覆盖整层配向膜然后去除非遮挡区域对应的配向膜的方式，可以较容易地完成定点去除和定点保留工艺，解决了目前在窄边框产品的开发过程中，因采用带有图案的APR版，而容易出现的配向膜印刷误差最大值(EM)过大进而导致的配向膜与框胶叠加而产生的不良问题。
[0045]在一种可选的实施方式中，参见图5，上述步骤103通过如下方式实现:
[0046]采用等离子源Y在所述遮挡层30表面释放等离子体，使等离子体将所述非遮挡区域对应的配向膜层20去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0047]等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。由于该离子化气体状物质的正负电荷总量相等，因此它是近似电中性的，所以就叫等离子体。等离子体本身为高能物质，具有轰击能力，可以轰击没有被遮挡层30保护的配向膜。参见图5，等离子源Y用于制造和释放等离子体，I表示等离子体中的正性成分;2表示等离子体中的负性成分，3表示等离子体中的中性成分。离子体通过遮挡层30的非遮挡区域进入预设基板10非显示区域的配向膜，非显示区域的配向膜在等尚子体的轰击下分子链断裂，形成小分子量的有机物，这些小分子量的有机物在后续加热固化工艺中挥发，从而去除了非显示区域的配向膜。本实现方式中，采用等离子体轰击方式可以实现非显示区域配向膜的定点精确去除，定点清除后可以精确控制误差最大值EM的大小，防止EM外扩造成的不良。
[0048]在一种可选的实施方式中，参见图6，上述步骤103通过如下方式实现:
[0049]采用紫外灯Z在所述遮挡层表面照射紫外光，使紫外光将所述非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0050]参见图6，紫外灯Z用于发射紫外光。紫外光通过遮挡层30的非遮挡区域进入预设基板10非显示区域的配向膜，非显示区域的配向膜在紫外光的照射下发生光降解，然后通过加热即可挥发，从而可以去除非显示区域的配向膜。
[0051]本实现方式中，采用紫外光照射方式可以实现非显示区域配向膜的定点精确去除。
[0052]参见图7可知，采用全涂覆APR转印版20和带有遮挡区域和非遮挡区域的遮挡层30即可对预设基板10进行取向膜涂布和成型。其中，遮挡层30的遮挡区域与预设基板10的显示区域对应，遮挡层30的非遮挡区域与预设基板10的非显示区域对应。本发明实施例采用全涂覆APR转印版进行涂覆的方式，不再需要根据不同型号的预设基板10设计不同图案的APR转印版，使得不同型号产品可以共用一张APR转印版，从而节约成本也释放了产能。
[0053]在一种可选的实施方式中，参见图8，所述全涂覆APR转印版上设置有一个矩形凹槽图案J，所述矩形凹槽图案J用于装载配向液，所述矩形凹槽图案的大小与所述预设基板的大小匹配。优选地，所述配向液包括聚酰亚胺溶液。
[0054]实施例二
[0055]本发明实施例二提供了一种显示基板的制造装置，参见图9，包括:全涂覆APR转印版100、遮挡板200和去除单元300;
[0056]其中，所述全涂覆APR转印版100用于在装载配向液后对预设基板进行整面涂覆，以形成位于所述预设基板上的配向膜层;其中，所述预设基板包括行列间隔分布的多个显示区域;任意两个相邻的显示区域之间的区域为非显示区域；
[0057]所述遮挡板200用于覆盖在所述配向膜层上;所述遮挡板200包括多个遮挡区域和非遮挡区域，所述遮挡区域与所述显示区域对应，所述非遮挡区域与所述非显示区域对应；
[0058]所述去除单元300，用于对所述遮挡板200覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0059]在一种可选实施方式中，所述去除单元300包括:等离子源Y，所述等离子源Y位于所述遮挡板200远离所述配向膜层的一侧；
[0060]所述等离子源Y用于制造并在所述遮挡板200远离所述配向膜层的一侧释放等离子体，使等离子体将所述非遮挡区域对应的配向膜层部分去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0061]在一种可选实施方式中，所述去除单元300包括:紫外灯Z，所述紫外灯Z位于所述遮挡板200远离所述配向膜层的一侧；
[0062]所述紫外灯Z用于在所述遮挡板200远离所述配向膜层的一侧发射紫外光，使紫外光将所述非遮挡区域对应的配向膜层部分去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。
[0063]在一种可选实施方式中，所述全涂覆APR转印版上设置有一个矩形凹槽图案，所述矩形凹槽图案用于装载配向液，所述矩形凹槽图案的大小与所述预设基板的大小匹配。优选地，所述配向液包括聚酰亚胺溶液。
[0064]本实施例所述的显示基板的制造装置，可以用于执行上述实施例所述的显示基板的制造方法，其原理和技术效果类似，此处不再赘述。
[0065]在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接;可以是机械连接，也可以是电连接;可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
[0066]还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0067]以上实施例仅用于说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
【主权项】
1.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括: 利用装载有配向液的全涂覆APR转印版对预设基板进行整面涂覆，形成位于所述预设基板上的配向膜层;其中，所述预设基板包括行列间隔分布的多个显示区域;任意两个相邻的显示区域之间的区域为非显示区域； 在所述配向膜层上覆盖遮挡层;所述遮挡层包括多个遮挡区域和非遮挡区域，所述遮挡区域与所述显示区域对应，所述非遮挡区域与所述非显示区域对应； 对所述遮挡层覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述遮挡层覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜，包括: 在所述遮挡层表面释放等离子体，使等离子体将所述非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述遮挡层覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜，包括: 在所述遮挡层表面照射紫外光，使紫外光将所述非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。4.根据权利要求1?3任一项所述的方法，其特征在于，所述全涂覆APR转印版上设置有一个矩形凹槽图案，所述矩形凹槽图案用于装载配向液，所述矩形凹槽图案的大小与所述预设基板的大小匹配。5.根据权利要求1?3任一项所述的方法，其特征在于，所述配向液包括聚酰亚胺溶液。6.—种显示基板的制造装置，其特征在于，包括:全涂覆APR转印版、遮挡板和去除单元； 其中，所述全涂覆APR转印版用于在装载配向液后对预设基板进行整面涂覆，以形成位于所述预设基板上的配向膜层;其中，所述预设基板包括行列间隔分布的多个显示区域;任意两个相邻的显示区域之间的区域为非显示区域； 所述遮挡板用于覆盖在所述配向膜层上；所述遮挡板包括多个遮挡区域和非遮挡区域，所述遮挡区域与所述显示区域对应，所述非遮挡区域与所述非显示区域对应； 所述去除单元，用于对所述遮挡板覆盖的配向膜层进行处理，使得非遮挡区域对应的配向膜层去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述去除单元包括:等离子源，所述等离子源位于所述遮挡板远离所述配向膜层的一侧； 所述等离子源用于制造并在所述遮挡板远离所述配向膜层的一侧释放等离子体，使等离子体将所述非遮挡区域对应的配向膜层部分去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述去除单元包括:紫外灯，所述紫外灯位于所述遮挡板远离所述配向膜层的一侧； 所述紫外灯用于在所述遮挡板远离所述配向膜层的一侧发射紫外光，使紫外光将所述非遮挡区域对应的配向膜层部分去除，遮挡区域对应的配向膜层保留，以在各遮挡区域对应的显示区域的表面形成相应的配向膜。9.根据权利要求6?8任一项所述的装置，其特征在于，所述全涂覆APR转印版上设置有一个矩形凹槽图案，所述矩形凹槽图案用于装载配向液，所述矩形凹槽图案的大小与所述预设基板的大小匹配。10.根据权利要求6?8任一项所述的装置，其特征在于，所述配向液包括聚酰亚胺溶液。
【文档编号】G02F1/1337GK105954941SQ201610567210
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年7月18日
【发明人】周永山, 覃锋, 覃一锋, 李建
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司