情况。
[0051]在又一具体实施例中，参见图3所示的阵列基板的俯视结构示意图，阵列基板11还设置有位于显示区域12和绑定区域13之间的过渡区域15，且参见图4所示的阵列基板的结构示意图，至少部分平坦层14位于过渡区域15的图案厚度小于或等于平坦层14位于显示区域12的图案厚度。
[0052]在具体实施例中，过渡区域为显示区域和绑定区域之间的区域。一般地，过渡区域包括显示区域的栅线或者数据线的引出线等布线层，以及布线层之间的过孔，使得过渡区域不平坦，因此平坦层分布于过渡区域，起到了平坦过渡区域的作用，同时过渡区域位于显示区域和绑定区域之间，通过过渡区域的图案厚度，在显示区域和绑定区域的图案厚度差之间起到了过渡的作用。
[0053]在具体实施例中，平坦层可以分布于整个过渡区域，也可以在过渡区域的部分区域，即过渡区域的部分区域的平坦层图案厚度为零或接近于零。
[0054]可选的，至少部分平坦层位于过渡区域的图案厚度小于或等于平坦层位于显示区域的图案厚度。
[0055]可选的，至少部分平坦层位于过渡区域的图案厚度可以大于平坦层位于绑定区域的图案厚度，也可以小于或等于平坦层位于绑定区域的图案厚度。
[0056]可选的，平坦层位于过渡区域的图案厚度小于或等于平坦层位于显示区域的图案厚度，且平坦层位于过渡区域的图案厚度大于平坦层位于绑定区域的图案厚度。
[0057]可选的，平坦层位于过渡区域的图案厚度小于或等于平坦层位于显示区域的图案厚度，至少部分平坦层位于过渡区域的图案厚度大于平坦层位于绑定区域的图案厚度，且至少部分平坦层位于过渡区域的图案厚度等于平坦层位于绑定区域的图案厚度。
[0058]在一具体实施例中，参见图5所示，平坦层14位于过渡区域15的图案厚度从显示区域到绑定区域呈连续递减趋势或阶梯状减小趋势变化。
[0059]在又一实施例中，参见图6，平坦层14位于过渡区域15的图案厚度大于平坦层14位于绑定区域13的图案厚度。
[0060]需要说明的是，平坦层位于显示区域、过渡区域和绑定区域的图案厚度差异可以根据实际情况设置。
[0061]可选的，平坦层位于绑定区域的图案厚度是平坦层位于显示区域图案厚度的1/5-1/20。例如:平坦层位于绑定区域的图案厚度0.25微米，平坦层位于显示区域图案厚度是2.5微米。
[0062]可选的，平坦层位于绑定区域的图案厚度是平坦层位于过渡区域的图案厚度的I/4-1/10。例如:平坦层位于绑定区域的图案厚度0.25微米，平坦层位于过渡区域的图案厚度是I微米。
[0063]可选的，平坦层位于绑定区域的图案厚度是零，平坦层位于过渡区域的图案厚度与平坦层位于显示区域的图案厚度相同或接近相同。
[0064]需要说明的是，本实施例中对平坦层位于显示区域、绑定区域和/或过渡区域的图案厚度进行的调整均可以在制作工艺中完成，例如:构图工艺、印刷、打印等制作工艺。本实施例中对平坦层位于显示区域、绑定区域和/或过渡区域的图案厚度进行的调整可以是在同一次或不同次制作工艺完成。例如:通过在同一次构图工艺中刻蚀步骤完成。当然，平坦层在同一区域的厚度也可以在同一次或不同次制作工艺完成。例如:位于显示区域的平坦层可以通过一次或多次构图工艺形成，因此平坦层位于显示区域的图案厚度也非绝对相等。
[0065]平坦层位于过渡区域的图案位置、数量和形状，本实施例不作具体限定。
[0066]可选的，平坦层位于过渡区域的图案可以位于Gate边和/或Data边。进一步的，平坦层靠近显示区域的至少部分栅线或数据线，或者位于显示区域的栅线或数据线周围。当然，Gate边和/或Data边的平坦层的图案形状或数量，均可以相同或不相同。
[0067]可选的，平坦层位于过渡区域为非连续结构。例如，平坦层间隔分布，如图7-图9。
[0068]可选的，平坦层位于过渡区域的图案可以为连续结构。例如，平坦层呈块状，如图10。
[0069]可选的，平坦层位于过渡区域的图案可以设置成有序的排列结构，例如多个平坦层图案排列成矩阵结构，或者将多个平坦层图案连续排列成一行，或者平坦层相互图案之间错位排列，本实施例不作具体限定。
[0070]在一具体实施例中，平坦层位于过渡区域的图案为对位标记。
[0071]在具体实施例中，为了保证阵列基板与对位基板结合(例如彩膜基板)的精准度，一般在阵列基板中设置对位标记。本实施例中将平坦层位于过渡区域的图案作为对位标记。即将对位标记作为标志，提高了阵列基板和对位基板的对位精准度。
[0072]可选的，对位标记的图案为正方形、或长方形、或圆形。
[0073]在具体实施例中，平坦层位于过渡区域的图案作为对位标记，且对位标记的图案可以为多个或者一个，对位标记的图案可以为各种图形，参见图7，对位标记的图案16可以为正方形，参见图8，对位标记的图案16可以为长方形，或者参见图9，对位标记的图案16可以为圆形，或者参见图10，对位标记的图案16可以分布在整个过渡区域。
[0074]需要说明的是，对位标记的图案可以为其他任意形状，本实施例不作具体限定。
[0075]可选地，对位标记的图案为多个。
[0076]在具体实施例中，对位标记的图案可以为一个或者多个，且过渡区域的对位标记图案为多个时，同一个阵列基板中的多个对位标记图案可以相同，或者不同，在此不作具体限定。
[0077]可选地，对位标记图案靠近显示区域的至少部分栅线或数据线，或者位于显示区域的栅线或数据线周围。
[0078]在具体实施例中，过渡区域中包括显示区域的栅线或者数据线的引出线，以及连接线层之间的过孔，对位标记图案可以位于显示区域的栅线或数据线周围。例如:在Gate边的过渡区，对位标记图案位于显示区域的栅线与栅线的引出的连接处;在Data边的过渡区，对位标记图案位于显示区域的数据线与数据线的引出线的连接处。
[0079]可选的，对位标记图案位于显示区域的栅线与栅线的引出线的连接处的pad(该Pad是显示区域的栅线的引出pad，便于显示区域的栅极线与栅极线的连接线稳定连接)，如此，可不额外设置对位标记，充分利用阵列基板空间。
[0080]可选地，多个对位标记图案呈矩阵排列。
[0081]在具体实施例中，对位标记图案为多个时，可以将对位标记图案设置成有序的排列结构，例如多个对位标记图案排列成矩阵结构，或者将多个对位标记图案连续排列成一行，或者相互图案之间错位排列，本实施例不作具体限定。
[0082 ] 在具体实施例中，参见图11，对位标记图案16为多个时，多个对位标记图案16可以呈矩阵排列。参见图12，对位标记图案16排成一行或者一列。
[0083]在又一实施例中，平坦层位于过渡区域的图案为防止过渡区域静电击穿的防静电保护层。
[0084]在具体实施例中，在过渡区域，例如:栅极线层与数据线层过孔连接的位置处，设置平坦层作为防静电保护层，可以防止过孔结构在工艺过程中因聚集静电荷而被击穿。需要说明的是，栅极线层与数据线层可以是通过过孔直接连接，也可以是过孔处通过其他导电层(例如像素电极ΙΤ0)连接。即防静电保护层可以位于过孔位置的上方，也可以是过孔贯穿防静电保护层。
[0085]可选地，参见图13，阵列基板还包括在过渡区域15的对位标记图案16上的支撑物17。
[0086]其中图13为阵列基板的俯视图，且支撑物在过渡区域的投影为圆形，其中支撑物的形状仅是以圆形为例进行画图，不仅限于将支撑物设置为圆形。参见图14所示阵列基板的截面示意图，支撑物17位于过渡区域的平坦层图案上，且支撑物的形状不作具体限定。
[0087]在具体实施例中，在过渡区域中的设置的对位标记图案结构上设置支撑物(PS)结构，支撑物可以为主支撑物，也可以为辅支撑物。在过渡区域中的标记图案为多个时，支撑物可以设置在每个对位标记图案上，或者设置在一部分对位标记图案上。因此，在通过对位标记图案实现阵列基板和彩膜基板对位精准度的同时，在对位标记图案上设置支撑物，又可以支撑盒厚，避免因制备或搬运过程中阵列基板弯折造成的显示不良。
[0088]需要说明的是，阵列基板中平坦层对位标记图案上的支撑物的制作工艺可以与阵列基板的一起完成，例如采用阵列基板的导电层(例如源漏电极层，像素电极层)或非导电层(例如绝缘层)，在此不再赘述。
[0089]可选地，所述支撑物为多个。
[0090]在具体实施例中，一个阵列基板中的支撑物可以为多个或者一个。当过渡区域中的平坦层图案布满整个过渡区域时，支撑物可以位于平坦层图案中间隔排布，或者分布在过渡区域的两端。本实用新型不作具体限定。
[0091 ]在又一实施例中，平坦层可以为树脂层或彩膜层。
[0092]在具体实施例中，本实施例中平坦层可以为树脂层，或者彩膜层。将树脂材料作为平坦层，当树