专利名称：等离子体显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种等离子体显示装置，特别是设计一种具有均匀放电特性(uniform discharge characteristic)的等离子体显示装置。
背景技术：
近年来，各种新型平面显示器(flat panel display；FPD)不断的开发设计出来，例如液晶显示器(liquid crystal display；LCD)、有机发光显示器(organic light emitting diode，OLED)及等离子体显示器，有渐渐取代传统阴极射线管(cathode ray tube；CRT)的趋势。其中，等离子体显示器是一种藉由气体放电来产生发光的平面显示器，其最大的特色是轻、薄、易于大型化且无视角问题。
等离子体显示面板主要是利用电极放电累积电荷的方式来显示画面，由于其具有大屏幕、高容量以及能够显示全彩色(full-color)影像等特点，且等离子体显示面板技术已渐渐被研究并发展出可悬挂于户外的大型平面显示面板，被喻为是未来最具潜力的平面显示器技术之一。
请参考图1，图1示出传统等离子体显示器10的剖面结构示意图。传统等离子体显示器10的结构主要由平行设置的一前基板12与一后基板14所构成。前基板12表面上包含多个横向电极20用来作为维持电极(sustaining electrode)。此外，前基板12表面上包含一保护层26覆盖住维持电极20。
后基板14上则设置有多个阻隔壁(barrier rib)28，其平行且等距地设置于后基板14上的介电层的表面上。前、后基板12、14之间存在一间隙，而所述多个阻隔壁(barrier rib)28用来将该间隙分隔成多个放电空间16，且通常一红色放电空间、一绿色放电空间以及一蓝色放电空间被称为一放电空间组。后基板14还包含多个纵向电极22，其形成于两个阻隔壁28之间的下基板14的表面上，用来作为数据电极(data electrode)，而所述介电层覆盖于该纵向电极22上。此外，一荧光层29涂布于放电空间16内，通常为了使等离子体显示器10达到全彩化的目的，会分别将具有红、蓝、绿发光特性的荧光层形成于不同放电空间的后基板14表面与阻隔壁28侧壁上。此外，该后基板14还具有一通气孔50，以利进行后续的抽气、灌入放电气体(如Ar、Xe)以及封管工艺。
上述位于前基板12及后基板14间的横向电极20、放电空间16、纵向电极22、阻隔壁28及荧光层29被称为等离子体显示单元30，而在该等离子体显示器10中所有的等离子体显示单元30构成一显示区域32，参见图2，图2示出传统等离子体显示器10的结构。在完成等离子体显示器的显示区域的制造过程后，封合材料40形成于两基板的四周，来封合该等离子体显示器10。接着，参见图3，等离子体显示器10利用该基板的通气孔50及气体泵60进行后续的抽气及灌入放电气体的工艺。
在传统等离子体显示器的制造过程中，如在形成阻隔壁或是封合材料的过程中，有机溶剂的使用及废气的产生往往是不可避免的。然而，在等离子体显示器的抽气及封管的过程中，杂质易于被气流带至通气孔50附近，且残留于显示区域32中，如此一来，会严重影响通气孔附近等离子体显示单元30的放电特性，导致局部区域出现画质及显示特性不均及异常的现象。
因此，降低等离子体显示器内残留杂质与放电气体的比例，以避免等离子体显示单元放电特性异常的现象发生，是等离子体显示技术中一项急待研究的目标。
发明内容
有鉴于此，为了解决上述问题，本发明之主要目的在于在显示区域及通气孔之间配置一抽气灌气缓冲层，使得在抽气-灌气或封管过程中所产生得杂质被集中于该抽气灌气缓冲层及封合壁之间，并利用一吸附层加以吸收，进而避免杂质造成等离子体显示单元的放电特性异常，以防止等离子体显示器局部区域画质不均的现象。
为获得上述目的，本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，包括一第一基板，其中该第一基板具有一第一表面，且该第一基板可为等离子体显示装置的前板；该等离子体显示装置还具有一第二基板，而该第二基板配置于该第一基板之上，并以第二表面与所述第一表面相对，此外，该第二基板可为等离子体显示装置的后板。在该第一基板与该第二基板的四周具有一封合壁，而该封合壁用来封合该第一基板与该第二基板。在该第一基板的所述第一表面及第二基板的所述第二表面之间具有一显示区域，该显示区域包含多个等离子体显示单元。此外，该等离子体显示装置同时还具有一个或多个通气孔，这些通气孔贯通于该显示区域之外的第二基板，并具有一个或多个抽气灌气缓冲层，这些缓冲层形成于该显示区域与相对应的通气孔之间的第二表面上。而该等离子体显示装置还具有一个或多个吸附层，该吸附层形成于该显示区域之外的该第一基板的所述第一表面上。
根据本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，其中该抽气灌气缓冲层与封合壁之间的第二表面构成一第一区域，而抽气灌气缓冲层及第一区域与第一表面相对应的区域构成一第二区域，且该吸附层也可部份或全部形成于该第一表面的该第二区域内。
根据本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，其中该抽气灌气缓冲层与封合壁之间的第二表面构成一第一区域，而抽气灌气缓冲层及该第一区域与该第一表面相对应的区域系构成一第二区域，且该吸附层也可与该第一表面的该第二区域相连。
本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置也可以另一方式实施，其至少包括一第一基板，而该第一基板具有一第一表面，且该第一基板可为等离子体显示装置的前板。该等离子体显示装置还包含一第二基板，而该第二基板配置于该第一基板之上，并以第二表面与所述第一表面相对，且该第二基板可为等离子体显示装置的后板。此外，在该第一基板与该第二基板的四周还具有一封合壁，而该封合壁用来封合该第一基板与该第二基板。在该第一基板的所述第一表面及该第二基板的所述第二表面之间具有一显示区域，该显示区域包含多个等离子体显示单元。此外，该等离子体显示装置也同时具有一个或多个通气孔，其贯通于该显示区域之外的第二基板，并具有一个或多个抽气灌气缓冲层，其形成于该显示区域与相应的通气孔之间的该第二基板的第二表面上，其中，该抽气灌气缓冲层与封合壁之间的第二表面构成一第一区域，而抽气灌气缓冲层及该第一区域与第一表面相对应的区域构成一第二区域。然而，在该第一基板的第一表面上，还具有一保护吸附层，且该保护吸附层对应于该显示区域，并延伸至第二区域的边界。
根据本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，其中该保护吸附层延伸到该第二区域内。
根据本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，其中进一步包括一个或多个吸附层，其形成于该保护吸附层与该封合壁之间的该第一基板的第一表面上。
为使本发明之上述目的、特征能更明显易懂，下文特举出优选实施例，并配合附图作详细说明如下图1是示出传统等离子体显示器的剖面结构示意图；图2是示出传统等离子体显示器的结构透视图；图3是示出传统等离子体显示器抽气-灌气过程示意图；图4是示出根据本发明所述的等离子体显示装置的优选实施例的结构透视图；图5是示出根据本发明所述的等离子体显示器的优选实施例的剖面结构示意图；图6是示出图4所示的等离子体显示器的局部放大图；图7a至图7b是示出根据本发明所述的等离子体显示器的优选实施例的部分结构示意图；图8a至图8e是示出根据本发明所述的等离子体显示器的其它优选实施例的部分结构示意图；图9a至图9c是示出根据本发明所述的等离子体显示器的其它优选实施例的部分结构示意图；以及图10a至图10b是示出根据本发明所述的等离子体显示器的其它优选实施例的部分结构示意图。
具体实施例方式
本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，其特点在于形成一抽气灌气缓冲层，该抽气灌气缓冲层配置于第二基板的显示区域及通气孔之间，并在第一基板上配置一吸附层，当该抽气灌气缓冲层及该吸附层的相互关系符合本发明所述的等离子体显示装置的结构时，可有效地将在等离子体显示装置制造过程、抽气-灌气及封管过程中所产生的杂质(impurity)集中并吸附于显示区域之外，以保持等离子体显示装置内等离子体显示单元的正常工作。以下，将配合附图并以等离子体显示装置为例，来详细说明本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置。
首先，请参考图4及图5，它们示出本发明所述的等离子体显示器的优选实施例，用来进一步解释本发明及各部件的相对关系。如图4所示，该等离子体显示装置100具有一第一基板102；以及一第二基板104，第二基板104平行地设置于该第一基板102之下，而该第一基板102及该第二基板104之间具有一由多个等离子体显示单元所组成的显示区域132；一封合壁140，其用来封装并连结该第一基板102及该第二基板104；以及一个或多个通气孔150，其贯通于该显示区域之外的第二基板104。其中，如图5所示，本发明所述的等离子体显示单元130包括一横向电极120，其形成于该第一基板102上；一保护层126，其覆盖于该横向电极120；一纵向电极122，其形成于该第二基板104上；一介电层124，其覆盖于该纵向电极122上；一对阻隔壁128，其形成于该纵向电极122的两侧；一荧光层129，其形成于阻隔壁128及介电层124上；及一放电空间144。请参考图6，图6为第4图的局部放大图，具有均匀放电特性的等离子体显示装置100特征在于一抽气灌气缓冲层160，该缓冲层160形成于该显示区域132与相对应的通气孔150之间的第二基板104上，且一吸附层162形成于该显示区域132与该封合壁140之间的第一基板102上。其中，该抽气灌气缓冲层160用来集中在抽气-灌气及封管过程中所产生的杂质，以避免该杂质扩散至显示区域132，其材料可为一封合材料，且该抽气灌气缓冲层160也可以与该封合壁为相同的材料，例如为玻璃胶；该吸附层162用来吸收由该抽气灌气缓冲层所集中的杂质，其材料可以可为镁化物、铝化物或是锆化物，而在本发明的优选实施例中，该吸附层可与该保护层为相同的材质，例如为氧化镁。请参考图5，该抽气灌气缓冲层160与该封合壁140在第二基板104上构成一第一区域164，而该抽气灌气缓冲层160与该第一区域164对应于第一基板102的区域构成一第二区域166，在此优选实施例中，该吸附层162部分形成于该第二基板的第二区域166内。在本发明的另一优选实施例中，该吸附层162也可完全形成于该第二基板的第二区域166内，如图7a所示；而在本发明其它优选实施例中，该吸附层162也可与该第二基板的第二区域166相连，如图7b所示。
本发明所述的抽气灌气缓冲层的形状以及其与通气孔和吸附层的相对位置可按照需要而加以设计及改变。请参照图8a至图8c，图中示出本发明的其它优选实施例的剖面示意图。该抽气灌气缓冲层160在第二基板104上所构成的区域除了可以为长条形外，还可视需要设计为其它形状，例如可为L型，如图8a所示；在本发明的另一优选实施例中，该抽气灌气缓冲层160在该第二基板104上所构成的区域也可为一阶梯型，如图8b及图8c所示。此外，本发明所述的该吸附层162还可视需要设计为多个区块，如图8d所示；而该吸附层162也可进一步包含于对应于该通气孔150的第一基板102，如图8e所示。
此外，本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，由于该吸附层可进一步由与该显示区域的保护层相同的材料构成，因此在本发明的某些优选实施例中，在第一基板102上形成一保护吸附层170以同时取代保护层及吸附层，请参照图9a至图9c，换言之，该保护吸附层170不但形成于该显示区域132所在的该第一基板102上，也同时形成于该显示区域132与该封合壁140之间的第一基板102上。在一优选实施例中，该保护吸附层170的至少一个边界172可位于该第二区域166内，如图9a所示；而在另一优选实施例中，该保护吸附层170的至少一个边界172也可与该第二区域的边界相连，如图9b所示；在其它优选实施例中，该保护吸附层170除了为长方形外，还可视需要设计为其它形状，如图9c所示。
此外，请参照图10a及图10b，本发明所述的具有保护吸附层170的等离子体显示装置100，除了利用保护吸附层170来吸附杂质之外，还可视需要搭配一个或多个吸附层162，该吸附层162形成于该保护吸附层170与该封合壁140之间的第一基板102上。其中该吸附层162的至少一个边界可位于该第二区域内，如图10a所示，还可与该第二区域166的边界相连，如图10b所示。
综上所述，本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，藉由针对吸附层、抽气灌气缓冲层及通气孔之间相互关系的设计，有效地将在抽气-灌气或封管过程中所产生的杂质集中于显示区外，并利用吸附层加以吸收，避免杂质污染显示区域而影响等离子体显示单元的放电特性，以得到均匀放电特性的等离子体显示装置。
此外，本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，该吸附层可进一步与该保护层在相同的步骤中以相同的材料形成，也就是形成一保护吸附层，用来同时取代吸附层及保护层；而且，该抽气灌气缓冲层也可与该封合壁在相同的步骤中以相同的材料形成，因此，也可在公知的图形化保护层及封合壁的步骤中对上述两者加以设计，不需额外的工艺步骤及设备，就可实现本发明所述的具有均匀放电特性的等离子体显示装置，如此一来，可以在不增加任何制造时间及成本的前提下，大幅提升等离子体显示装置的效能。
上面本发明虽然以优选实施例公开，但是其并非用来限定本发明的范围，本领域技术人员在不脱离本发明之精神和范围内可以做出各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视后附的权利要求书限定者为准。
权利要求
1.一种等离子体显示装置，包括第一基板，具有一第一表面；第二基板，配置于该第一基板之上，并以一第二表面与该第一基板的第一表面相对；封合壁，其位于该第一基板与该第二基板的四周，用以封合该第一基板与该第二基板显示区域，形成于该第一基板的第一表面及该第二基板的第二表面之间；至少一通气孔，其贯通于该显示区域之外的第二基板；至少一抽气灌气缓冲层，其形成于该显示区域与相对应的通气孔之间的第二基板的第二表面上；以及至少一吸附层，形成于该显示区域之外的第一基板的第一表面上。
2.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，该抽气灌气缓冲层与封合壁之间的第二基板的第二表面构成一第一区域，而抽气灌气缓冲层及该第一区域对应于第一基板的第一表面的区域构成一第二区域，且该吸附层部分或全部形成于该第一表面的该第二区域内。
3.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，该抽气灌气缓冲层与封合壁之间的第二基板的第二表面构成一第一区域，而抽气灌气缓冲层及该第一区域对应于第一表面的区域构成一第二区域，且该吸附层与该第一表面的第二区域相连。
4.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，该吸附层的材料为镁化物、铝化物或是锆化物。
5.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，吸附层的材料为氧化镁。
6.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，显示区域还包括一保护层，其形成于该第一基板的第一表面上，且该保护层的材料与该吸附层的材料相同。
7.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，显示区域还包括一保护层，其形成于第一基板的第一表面上，且该保护层与该吸附层相连。
8.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，抽气灌气缓冲层在第二基板的第二表面上所构成的区域为长条形、L形或是阶梯形。
9.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，抽气灌气缓冲层的材料为一封合材料。
10.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，该抽气灌气缓冲层的材料为玻璃胶。
11.如权利要求1所述的等离子体显示装置，其中，该抽气灌气缓冲层的材料与封合壁的材料相同。
12.一种等离子体显示装置，包括第一基板，具有一第一表面；第二基板，其配置于该第一基板之上，并以一第二表面与该第一基板之第一表面相对；封合壁，其位于该第一基板与该第二基板的四周，用以封合该第一基板与该第二基板显示区域，其形成于该第一基板的第一表面及该第二基板的第二表面之间；至少一通气孔，贯通于该显示区域之外的第二基板；至少一抽气灌气缓冲层，其形成于该显示区域与相对应的通气孔之间的第二基板的第二表面上，且该抽气灌气缓冲层与封合壁之间的的第二表面构成一第一区域，而抽气灌气缓冲层及该第一区域对应于该第一基板的第一表面的区域构成一第二区域；以及保护吸附层，其形成于该第一基板的第一表面上，且对应于该显示区域，并延伸至该第二区域的边界。
13.如权利要求12所述的等离子体显示装置，其中，该保护吸附层的材料为氧化镁。
14.如权利要求12所述的等离子体显示装置，其中，抽气灌气缓冲层在第二基板的第二表面上所构成的区域为长条形、L形或是阶梯形。
15.如权利要求12所述的等离子体显示装置，其中，抽气灌气缓冲层的材料为封合材料。
16.如权利要求12所述的等离子体显示装置，其中，抽气灌气缓冲层的材料为玻璃胶。
17.如权利要求12所述的等离子体显示装置，其中，抽气灌气缓冲层的材料与该封合壁的材料相同。
18.如权利要求12所述的等离子体显示装置，其中，保护吸附层延伸到第二区域内。
19.如权利要求12所述的等离子体显示装置，还包括一个或多个吸附层，其形成于保护吸附层与封合壁之间的第一基板的第一表面上。
20.如权利要求19所述的等离子体显示装置，其中，吸附层的材料为镁化物、铝化物或是锆化物。
21.如权利要求19所述的等离子体显示装置，其中，吸附层的材料为氧化镁。
22.如权利要求19所述的等离子体显示装置，其中，吸附层的材料与该保护吸附层的材料相同。
全文摘要
本发明公开了一种具有均匀放电特性的等离子体显示装置。主要目的在于在显示区域及通气孔之间配置一抽气灌气缓冲层，使在抽气－灌气或封管过程中所产生的杂质被集中于该抽气灌气缓冲层及封合壁之间，并利用吸附层加以吸收，进而避免杂质造成等离子体显示单元的放电特性异常，以防止等离子体显示器局部区域画质不均的现象。
文档编号H01J17/49GK1545123SQ20031011643
公开日2004年11月10日 申请日期2003年11月21日 优先权日2003年11月21日
发明者陈柏丞, 吴俊翰 申请人:友达光电股份有限公司