化学气相沉积装置的制作方法

文档序号:3400916阅读:502来源:国知局
专利名称:化学气相沉积装置的制作方法
技术领域
本发明提供一种化学气相沉积装置,特别是一种使用防漏伸缩管结构接合反应器排气端与排气管的化学气相沉积装置。
背景技术
所谓的化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition;CVD),乃是利用化学反应的方式在反应器内将反应物(通常为气体)生成固态的生成物,并沉积在芯片表面的一种薄膜沉积技术。而等离子辅助化学气相沉积(Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition;PECVD),是利用等离子技术将反应气体离子化,借以达到降低反应温度的化学气相沉积技术。无论化学气相沉积或是等离子辅助化学气相沉积,其反应器中会产生许多制作工艺废气,应将其废气排出以提高制作工艺质量。
请参阅图1;图1为反应器10与排气管12接合的示意图。每一个反应器10有两个排气端,连接于排气管(exhaust pipe)12,以将制作工艺废气排出。而反应器10的排气端与排气管12之间必须有一个防漏伸缩管40,其两端必须配合反应器10排气端与排气管12接口的结构,以使泵(pump)所抽出的制作工艺废气不会因衔接不当而泄漏,造成整个设备的污染。另外,防漏伸缩管40的材质均为铝合金材质,在排出制作工艺废气时不易残留污染物质于管壁中。
请参阅图2;图2为传统技术中防漏伸缩管40的示意图。防漏伸缩管40由两套管20、30接合而成。请一并参阅图3与图4,其分别为构成防漏伸缩管40的两套管20、30的示意图。图3中的套管20包括多个贯穿孔24。套管20为中空设计,中空部份以22标示之,中空部分22内还具有一凹槽26,用来放置一全氟化O型环(perfluor O-ring)。图4中的套管30为中空设计且包括多个螺牙34,套管30可套入图3中的套管20的中空部分22,并借由螺栓42与弹簧44将套管20、30相连接,如图2所示。
如前所述,防漏伸缩管40由两个套管20、30接合而成,由于两套管20、30相接合时管壁32与中空部分22并非完全密闭,为了避免气体自两套管20、30的接合处外漏,因此套管20的中空部分22内设有一凹槽26,用来放置一全氟化O型环,利用全氟化O型环于接合处作气密设计。然而,于长期使用后,O型环易受反应器10温度及气体腐蚀而产生劣化,因而泄漏出废气,污染整个设备。

发明内容
本发明提供一种化学气相沉积装置,以解决上述的问题。
本发明公开一种化学气相沉积装置,其包括一反应器、一防漏伸缩管结构以及一排气管。该反应器具有一排气端,该防漏伸缩管结构包括一压缩性本体,一套筒以及一垫圈。该压缩性本体具有一波纹管,该套筒设置于该波纹管内,该套筒的一端连接该反应器的排气端,该垫圈设置于该本体的一端,该排气管连接于该防漏伸缩管结构的垫圈,用以排出废气。


图1为反应器与排气管接合的示意图。
图2为传统防漏伸缩管的示意图。
图3与图4分别为图2中构成防漏伸缩管的两套管的示意图。
图5为本发明化学气相沉积装置的示意图。
图6为本发明防漏伸缩管的示意图。
图7为本发明防漏伸缩管的套筒的示意图。
图8为本发明防漏伸缩管的本体的示意图。
主要组件符号说明10反应器12排气管22中空部分 24贯穿孔26凹槽 32管壁34螺牙 52压缩性本体54垫圈 55套筒的一端56套筒 57锁沟58焊接型波纹管 59锁杆20、30套管
40、50防漏伸缩管42、51螺栓44、53弹簧具体实施方式
请参阅图5;图5为本发明化学气相沉积装置的示意图。每一个反应器10有两个排气端,其借由防漏伸缩管50连接于排气管12,以将制作工艺废气排出。
请参阅图6;图6为本发明防漏伸缩管50的示意图。防漏伸缩管50主要结构分为一压缩性本体52、一套筒(bushing)56以及一垫圈(ring)54。压缩性本体52可压缩部份为一焊接型波纹管(welded bellows)58,使整个防漏伸缩管50形成可压缩性。
请参阅图7;图7为本发明防漏伸缩管50的套筒56的示意图。套筒56的一端55其宽度较大,这是因为套筒56设置于压缩性本体52内部后,其一端55突出于压缩性本体52外,用来连接反应器10的排气端。套筒56设置于压缩性本体52内部可避免制作工艺废气接触到焊接型波纹管58而残留于波纹管58的管壁内。由于套筒56的材质为铝合金(aluminum alloy),而且反应器10的排气端亦为铝合金材质,其热膨胀系数相同,因此在制作工艺过程中反应器10加热至高温时,套筒56的一端55与反应器10的排气端会互相贴紧,以使废气排出的过程中不会将污染物漏出。
垫圈54设置于压缩性本体52的一端,用来连接排气管12。请参阅图8;图8为本发明防漏伸缩管50的本体52的示意图。压缩性本体52设置垫圈54的地方设有一锁杆59,垫圈54借由一锁沟57与压缩性本体52上的锁杆59锁合,以固定于压缩性本体52上。压缩性本体52的周围另设有多个弹簧(spring)53,将多个螺栓(bolt)51套入各弹簧53中,可协助垫圈54密合于排气管12。当排气管12施压力于垫圈54时,弹簧53可提供弹力于垫圈54,以使垫圈54与排气管12更加密合。垫圈54的材质为特氟龙(teflon)材质,其特性耐高温且硬度大,因此可承受排气管12的压力与弹簧53的弹力。
传统技术中利用两个铝合金的套管20、30相接合并使用全氟化O型环作气密设计,仍有废气泄漏的问题发生。而本发明防漏伸缩管50的压缩性本体52系以一体成型的方式形成,因此可避免废气自压缩性本体52中泄漏出来。另外,压缩性本体52以不锈钢(stainless steel)材质制成,焊接型波纹管58也是不锈钢材质,相较传统技术所使用的铝合金材质,本发明所使用的不锈钢材质可延长防漏伸缩管50的使用寿命。铝合金套筒56可防止废气直接与波纹管58接触,以避免污染物残留于波纹之间。此外,本发明可压缩性本体52可为其它任何具有压缩性的管状物。
相较于传统技术,本发明一体成型的防漏伸缩管50可解决传统技术中泄漏废气的问题。另外,本发明的设计可延长防漏伸缩管50的使用寿命、增加防漏伸缩管50与排气管12的密合度,因而提升制作工艺的质量。
以上所述仅为本发明的优选实施例,凡依本发明所做的均等变化与修饰,均应属本发明的涵盖范围。
权利要求
1.一种化学气相沉积装置,其包括一反应器,具有一排气端;一防漏伸缩管结构,其包括一压缩性本体,具有一波纹管;一套筒,设置于该波纹管内,该套筒的一端连接该反应器的排气端;以及一垫圈,设置于该本体的一端;以及一排气管,连接于该防漏伸缩管结构的垫圈,用以排出废气。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置,其特征在于,其中该波纹管为一焊接型波纹管。
3.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置,其特征在于,其中该套筒为一铝合金套筒。
4.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置,其特征在于,其中该垫圈为一特氟龙垫圈。
5.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置,其特征在于,其中该本体为一不锈钢本体。
6.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置,其特征在于,其中该本体还包括一弹簧,该防漏伸缩管结构还包括一螺栓,套接于该弹簧中,用来在该排气管施压于该垫圈时,提供一弹力于该垫圈以增加该垫圈与该排气管的密合度。
7.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置,其特征在于,其中该本体还包括一锁杆,该垫圈具有一锁沟,用来与该锁杆相锁合,以结合该垫圈及该本体。
8.一种防漏伸缩管结构,应用于化学气相沉积装置,其包括一压缩性本体,具有一波纹管;一套筒,设置于该波纹管内,该套筒的一端连接一反应器的排气端;以及一垫圈,设置于该本体的一端,用来连接一排气管。
9.根据权利要求8所述的防漏伸缩管结构,其特征在于,其中该波纹管为一焊接型波纹管。
10.根据权利要求8所述的防漏伸缩管结构,其特征在于,其中该套筒为一铝合金套筒。
11.根据权利要求8所述的防漏伸缩管结构,其特征在于,其中该垫圈为一特氟龙垫圈。
12.根据权利要求8所述的防漏伸缩管结构,其特征在于,其中该本体为一不锈钢本体。
13.根据权利要求8所述的防漏伸缩管结构,其特征在于,其中该本体还包括一弹簧,该防漏伸缩管结构还包括一螺栓,套接于该弹簧中,用来于该排气管施压于该垫圈时,提供一弹力于该垫圈以增加该垫圈与该排气管的密合度。
14.根据权利要求8所述的防漏伸缩管结构,其特征在于,其中该本体还包括一锁杆,该垫圈具有一锁沟,用来与该锁杆相锁合,以结合该垫圈及该本体。
全文摘要
化学气相沉积装置,包括一反应器、一防漏伸缩管结构以及一排气管。该防漏伸缩管结构包括一压缩性本体,一套筒以及一垫圈。该垫圈设置于该本体的一端,用来连接该排气管。该套筒设置于该本体内,该套筒的一端与该反应器相连接,该套筒可避免废气直接接触该本体而残留于该本体内。另外,由于该压缩性本体以一体成型的方式形成,在废气排出的过程中,可避免废气自该压缩性本体中泄漏出,因此可提高制作工艺的质量。
文档编号C23C16/00GK1970831SQ200510126889
公开日2007年5月30日 申请日期2005年11月25日 优先权日2005年11月25日
发明者柯志伟, 庄仁吉, 范世衡 申请人:中华映管股份有限公司
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