专利名称：研磨机台、承载治具及承载治具的操作方法
技术领域：
本发明是有关于一种承载治具及其操作方法，且特别是有关于一种置放基板以供进行研磨工艺的承载治具及其操作方法。
背景技术：
一般在液晶显示器的制造过程中，通常会将液晶显示器中的玻璃基板先进行研磨工艺的处理，以避免后续的工艺受到玻璃基板应力集中的影响。一般常见用以置放玻璃基板的承载治具，均是由一定盘(stage)承载一定尺寸的玻璃基板来进行研磨工艺。然而，由于定盘为固定尺寸，此时若有不同尺寸的基板需进行研磨工艺，则必须更换相对应的定盘，如此一来便需增加额外的定盘费用。此外，由于定盘需要由手动更换，不但会浪费许多时间，而且也有可能在更换之后造成其水平度不佳的情形，使得研磨的精准度偏移太多。
因此，有必要提出一种承载治具，以节省定盘更换的时间及费用，并减少定盘在更换之后可能造成水平度偏移的情形发生，让操作者在更换不同尺寸的基板进行研磨工艺时，可更有效率且方便地操作。
发明内容
本发明的目的在于提供一种研磨机台、承载治具及承载治具的操作方法，可依基板的尺寸调整宽度，并可依工艺需求旋转基板。
本发明的一技术方案是关于一种承载治具，该承载治具供置放一承载物，其包含一中央平台、一第一托盘以及一第二托盘。第一托盘以及第二托盘均用以辅助支撑承载物，并分别设置于中央平台的二侧，且各自于邻近中央平台的一侧呈相对应的互补结构，由相对地移动调整以辅助支撑承载物。
本发明的另一技术方案是关于一种研磨机台，该研磨机台包含一承载治具以及二研磨砂轮。承载治具供置放一基板，并包含一中央平台以及二托盘，其中二托盘用以辅助支撑基板，并分别设置于中央平台的二侧，且各自于邻近中央平台的一侧呈相对应的互补结构，由相对地移动调整以辅助支撑基板。而二研磨砂轮则是分别设置于承载治具的二侧。
本发明的另一技术方案是关于一种如上述承载治具的操作方法，其包含下列步骤移动调整第一托盘以及第二托盘至一第一支撑宽度，使得第一托盘以及第二托盘各别辅助支撑承载物的一第一边；升上中央平台以抬高承载物；旋转中央平台以改变承载物的置放方向；移动调整第一托盘以及第二托盘至一第二支撑宽度；以及降下中央平台以放低承载物，使得第一托盘以及第二托盘各别辅助支撑承载物的一第二边。
由上所述，根据本发明的技术内容，应用前述承载治具及其操作方法可减少已知定盘更换的费用及时间，并更有弹性地对不同尺寸的基板进行研磨工艺。
图1A本发明实施例的一种研磨机台的俯视图。
图1B如体1A所示的研磨机台的侧视图。
图1C本发明的另一种研磨机台实施例的俯视图。
图2A如图1A所示的研磨机台中，中央平台上升及旋转且两托盘相对地移动调整后的俯视图。
图2B如图2A所示的研磨机台的侧视图。
图2C如图2B所示的研磨机台其中央平台下降后的侧视图。
图3如图1A所示的研磨机台中承载治具的操作方法的流程图。
附图标号100研磨机台112第二托盘102承载治具114缺口部104研磨砂轮116真空孔洞106承载物 118凸缘108、108a中央平台 120凹槽110第一托盘122电荷耦合装置300～312步骤具体实施方式
图1A为本发明的一种研磨机台实施例的俯视图。研磨机台100包含一承载治具102以及两组研磨砂轮104。承载治具102用以置放承载物106，例如液晶显示器中的玻璃基板，以供进行研磨工艺，并包含中央平台108、第一托盘110以及第二托盘112。中央平台108是用以对承载物106进行升降以及旋转的动作。在本实施例中，中央平台108呈一圆形结构，而在另一实施例中，中央平台108则是呈一「十」字形结构。第一托盘110以及第二托盘112分别设置于中央平台108的二侧，用以辅助支撑承载物106，并各自于邻近中央平台108的一侧呈现相对应的互补结构，且可由相对地移动调整来辅助支撑承载物106。两组研磨砂轮104则是分别设置于承载治具102的二侧，用以对承载物106进行研磨的动作。图1B是绘示如图1A所示的研磨机台的侧视图。图1C是绘示本发明的另一种研磨机台实施例的俯视图。相较于图1A而言，中央平台108a是呈现「十」字形结构。
另外，研磨机台100也可包含二电荷耦合装置(Charge Coupled Device，CCD)122，分别设置于承载治具102的二侧，用以侦测承载物106的置放方向是否发生偏移的情形。当承载物106的置放方向发生偏移的情形时，可将中央平台108稍微地旋转，以修正承载物106的置放方向。若是无任何偏移的情形发生，则可进行承载物106的研磨工艺。
此外，第一托盘110以及第二托盘112在对应中央平台108(或108a)之处各具有一缺口部114，其中此缺口部114的设计相对于第一托盘110或第二托盘112其它用以辅助支撑承载物106的部分来得短小，类似一凹陷的结构，以避免当两托盘在进行相对地移动调整时干涉中央平台108(或108a)。第一托盘110以及第二托盘112的表面均可密布真空孔洞116，用以吸着固定承载物106的边缘部分，并可由电磁阀的分段控制来决定承载物106的边缘部分受吸附的范围。
如图1A所示，在本实施例中，第一托盘110以及第二托盘112所呈现的相对应的互补结构分别为一齿状结构，且两托盘的齿状结构包含复数个凸缘118以及形成于每二凸缘118间的凹槽120，且第一托盘110齿状结构的复数个凸缘118对应于第二托盘112齿状结构的复数个凹槽120，以在相对地移动调整后使得各自呈现的齿状结构相互配合，进而辅助支撑承载物106。此种具延伸平面的齿状结构也使得两托盘在相对地移动调整后，与中央平台108之间不会有悬空支撑承载物106的情形发生，如此一来，承载物106便不会受应力影响而产生弯曲的问题。
图2A是绘示如图1A所示的研磨机台中，中央平台上升及旋转且两托盘相对地移动调整后的俯视图。图2B是绘示如图2A所示的研磨机台的侧视图。请参照图1A及图2A，在图1A中，第一托盘110以及第二托盘112是由相对地移动调整至一支撑宽度，以各别辅助支撑承载物106的短边，使得承载物106的短边可供两组研磨砂轮104进行研磨的动作。在图2A中，当承载物106的长边需进行研磨的动作时，此时先将中央平台108升至一定高度并旋转，使得承载物106的置放方向旋转90度角，而第一托盘110以及第二托盘112则是由相对地移动调整至另一支撑宽度，以各别辅助支撑承载物106的长边，使得承载物106的长边可供两组研磨砂轮104再进行研磨的动作。另外，请参照图2C，其绘示如图2B所示研磨机台其中央平台下降后的侧视图。此时，在第一托盘110以及第二托盘112相对地移动调整之后，便可将中央平台108降下，使得承载物106可恰好置放于中央平台108、第一托盘110以及第二托盘112之上，而后便可由两组研磨砂轮104对承载物106的长边进行研磨的动作。
图3是绘示如图1A所示的研磨机台进行研磨时承载治具的操作流程图。首先，将第一托盘110以及第二托盘112移动调整至第一支撑宽度(步骤300)，使得第一托盘110以及第二托盘112可各别辅助支撑承载物106的第一边，例如承载物106的短边。接着，置放欲进行研磨的承载物106于中央平台108、第一托盘110以及第二托盘112之上(步骤302)，使得承载物106的第一边可由第一托盘110以及第二托盘112各别辅助支撑，并供两组研磨砂轮104进行研磨(如图1A所示)。
在完成研磨承载物106的第一边之后，接着将中央平台108升上一定高度以抬高承载物106(步骤304)，然后再将中央平台108旋转(步骤306)，以改变承载物106的置放方向(如图2B所示)。以本实施例而言，中央平台是被旋转90度角。而后，将第一托盘110以及第二托盘112移动调整至一第二支撑宽度(步骤308)，使得第一托盘110以及第二托盘112可各别辅助支撑承载物106的第二边，例如承载物106的长边(如图2A所示)。然后，再将中央平台108降下以放低承载物106(步骤310)，使得承载物106的第二边可由第一托盘110以及第二托盘112各别辅助支撑，并供两组研磨砂轮104进行研磨。在另一实施例中，操作者也可先对承载物106的长边进行研磨，然后再依相同的方法操作承载治具，而后对承载物106的短边进行研磨。
此外，操作者更可由电荷耦合装置(Charge Coupled Device，CCD)侦测判别承载物106的置放方向是否发生偏移。当承载物106的置放方向发生偏移的情形时，则可稍微旋转中央平台108以修正承载物106的置放方向。若是无任何偏移的情形发生，则可接续研磨承载物106的步骤。
由上述本发明的实施例可知，应用此研磨机台、其承载治具以及承载治具的操作方法可节省定盘更换的费用及时间，并更有弹性地对不同尺寸的基板进行研磨工艺。此种设计也可减少定盘在更换之后可能造成其水平基准面差异过大，不易调整的问题。此外，由托盘的相对应互补的结构，可使得托盘与中央平台之间不会有悬空支撑承载物的情形发生，如此一来，承载物便不会受应力影响而产生弯曲的问题。
虽然本发明已以具体实施例揭示，但其并非用以限定本发明，任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和范围的前提下所作出的等同组件的置换，或依本发明专利保护范围所作的等同变化与修饰，皆应仍属本专利涵盖之范畴。
权利要求
1.一种承载治具，供置放一承载物，其特征在于该承载治具包含一中央平台；一第一托盘，用以辅助支撑该承载物；一第二托盘，用以辅助支撑该承载物，其中该第一托盘以及该第二托盘分别设置于所述中央平台的二侧，并各自于邻近该中央平台的一侧呈相对应的互补结构，且该第一托盘以及该第二托盘是由相对地移动调整以辅助支撑该承载物。
2.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于该第一托盘以及该第二托盘在对应该中央平台之处各具有一缺口部，该缺口部比该第一托盘以及该第二托盘其它用以辅助支撑该承载物的部分短小。
3.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于该第一托盘以及该第二托盘是由相对地移动调整至一支撑宽度以各别辅助支撑该承载物的一短边。
4.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于该第一托盘以及该第二托盘是由相对地移动调整至一支撑宽度以各别辅助支撑该承载物的一长边。
5.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于该第一托盘以及该第二托盘至少其中之一托盘的表面密布孔洞。
6.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于该中央平台呈一圆形结构或一「十」字形结构。
7.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于该第一托盘以及该第二托盘所呈现的相对应的互补结构分别为一齿状结构。
8.如权利要求7所述的承载治具，其特征在于该第一托盘以及该第二托盘各自呈现的该齿状结构包含相对应的凸缘以及凹槽结构，以在相对地移动调整后使得各自呈现的该齿状结构相互配合以辅助支撑该承载物。
9.一种研磨机台，其特征在于该研磨机台包含一承载治具，供置放一基板，承载治具包含一中央平台；二托盘，用以辅助支撑该基板，并分别设置于该中央平台的二侧且各自于邻近该中央平台的一侧呈相对应的互补结构，该些托盘是由相对地移动调整以辅助支撑该基板；二研磨砂轮，分别设置于该承载治具的二侧。
10.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于该些托盘在对应该中央平台之处各具有一缺口部，该缺口部比该些托盘其它用以辅助支撑该基板的部分短小。
11.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于该些托盘是由相对地移动调整至一支撑宽度以各别辅助支撑该承载物的一短边。
12.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于该些托盘是由相对地移动调整至一支撑宽度以各别辅助支撑该承载物的一长边。
13.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于该些托盘的表面均密布孔洞。
14.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于该中央平台呈一圆形结构或一「十」字形结构。
15.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于该些托盘所呈现的相对应的互补结构分别为一齿状结构。
16.如权利要求15所述的研磨机台，其特征在于该些托盘各自呈现的该齿状结构包含相对应的凸缘以及凹槽结构，以在相对地移动调整后使得各自呈现的该齿状结构相互配合以辅助支撑该承载物。
17.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于该研磨机台更包含二电荷耦合装置，分别设置于该承载治具的二侧，用以侦测该基板的置放方向是否发生偏移。
18.一种如权利要求1所述的承载治具的操作方法，该方法包含移动调整该第一托盘以及该第二托盘至一第一支撑宽度，使得该第一托盘以及该第二托盘各别辅助支撑该承载物的一第一边；升上该中央平台以抬高该承载物；旋转该中央平台以改变该承载物的置放方向；移动调整该第一托盘以及该第二托盘至一第二支撑宽度；降下该中央平台以放低该承载物，使得该第一托盘以及该第二托盘各别辅助支撑该承载物的一第二边。
19.如权利要求18所述的操作方法，其特征在于该方法更包含侦测判别该承载物的置放方向是否偏移；当该承载物的置放方向偏移时，旋转该中央平台以修正该承载物的置放方向。
全文摘要
本发明为一种承载治具，供置放承载物，该承载治具包含中央平台、第一托盘以及第二托盘。第一托盘以及第二托盘均用以辅助支撑承载物，并分别设置于中央平台的二侧，且各自于邻近中央平台的一侧呈相对应的互补结构，由相对地移动调整以辅助支撑承载物。在此也揭露一种研磨机台及承载治具的操作方法。
文档编号B24B41/06GK101077566SQ20071013908
公开日2007年11月28日 申请日期2007年7月25日 优先权日2007年7月25日
发明者陈弘国 申请人:友达光电股份有限公司