专利名称：镀膜装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及镀膜技术，特别涉及一种镀膜装置。
背景技术：
目前，镀膜装置一般包括一个镀膜腔体、一个抽气系统及一个靶材。镀膜腔体包括 一个竖直方向的中轴。靶材一般沿中轴方向放置在镀膜腔体的中央，而多个待镀膜的基板 沿中轴方向放置，环布在靶材的周围(镀膜腔体的边缘部分)。抽气系统一般通过一个导管 连通到镀膜腔体沿中轴方向的中部。镀膜开始时，抽气系统将镀膜腔体抽成真空，然后再往 镀膜腔体中通入反应气体以进行镀膜。在镀膜过程中，抽气系统用于持续抽走镀膜腔体中 的反应气体以将镀膜腔体维持在一定的气压，进而保持镀膜的均勻性。然而，抽气过程中， 镀膜腔体内靠近导管的部位(中部)抽气速率比远离导管部位(镀膜腔体高度方向的上部 及下部)的抽气速率高，造成了镀膜腔体中部的气体浓度比上下部的气体浓度小，进而造 成了膜层的不均勻。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种提高镀膜均勻性的镀膜装置。一种镀膜装置，其用于对多个基板进行镀膜，该镀膜装置包括一个镀膜腔体及一 个抽气系统。该镀膜腔体具有一个竖直方向的中轴。该抽气系统连通至该镀膜腔体顶部的 中央，并位于该中轴上。该多个基板沿平行该中轴的方向放置，且环布在该中轴的周围。如此，所述多个基板所处位置的抽气速率大致相同，处于一个气体浓度相对均勻 的环境中，镀膜的均勻性好。
图1为本发明较佳实施方式的镀膜装置的截面示意图。图2为图1的镀膜装置沿线II-II的截面示意图。主要元件符号说明
权利要求
1.一种镀膜装置，用于对多个基板进行镀膜，该镀膜装置包括一个镀膜腔体及一个抽 气系统，该镀膜腔体具有一个竖直方向的中轴，其特征在于该抽气系统连通至该镀膜腔体 顶部的中央，并位于该中轴上，该多个基板沿平行该中轴的方向放置，且环布在该中轴的周 围。
2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，该镀膜腔体包括一个顶面、一个底面及 一个连接该顶面与该底面的且平行于该中轴的侧面。
3.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，该抽气系统包括一个抽气机及一个导 管；该顶面的中央开设有一个沿该中轴对称的开口，该导管连通该抽气机及该开口。
4.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，该侧面沿该中轴方向开设有三个气孔， 每个进气口连接至一个供气装置。
5.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，该镀膜装置还包括一个圆筒状靶材及 一个冷却单元；该圆筒状靶材沿该中轴方向设置于该镀膜腔体的中央；该冷却单元包括一 个管体及在该管体内循环的冷却液；该管体设置在该靶材内且与该靶材的内壁接触。
全文摘要
本发明提供一种镀膜装置，其用于对多个基板进行镀膜，该镀膜装置包括一个镀膜腔体及一个抽气系统。该镀膜腔体具有一个竖直方向的中轴。该抽气系统连通至该镀膜腔体顶部的中央，并位于该中轴上。该多个基板沿平行该中轴的方向放置，且环布在该中轴的周围。如此，所述多个基板所处位置的抽气速率大致相同，处于一个气体浓度相对均匀的环境中，镀膜的均匀性好。
文档编号C23C14/34GK102108488SQ20091031245
公开日2011年6月29日 申请日期2009年12月29日 优先权日2009年12月29日
发明者凌维成, 吴佳颖, 廖名扬, 张庆州, 洪新钦, 王仲培, 简士哲, 魏朝沧, 黄建豪 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司