专利名称：薄膜及其制备方法
技术领域：
本发明涉及一种薄膜及其制备方法。
背景技术：
目前的电子设备的金属外壳表面一般会镀薄膜，不但可以保护金属外壳，而且使金属外壳的表面具有高金属质感及绚丽的色彩。电子设备在使用过程中，金属外壳表面的薄膜与外界物体经常发生摩擦，因此如何提高薄膜的耐磨性就成为亟待解决的问题。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种耐磨性较佳的薄膜及其制备方法。一种薄膜，其附着在一个由不锈钢制成的基板的表面，且包括依次堆叠在所述基板表面的一附着层、一应力缓冲层及一颜色层。所述附着层由铬制成。所述应力缓冲层由钛与铬的混合物制成。所述颜色层由钛与铬的混合物制成。一种变色薄膜的制备方法，其包括如下步骤提供一个基板，所述基板由不锈钢制成；将所述基板放入一个第一真空镀膜腔内，在所述基板的表面镀上一附着层，所述附着层由铬制成；将镀上所述附着层后的基板放入一个第二真空镀膜腔内，并在所述附着层的表面镀上一应力缓冲层，所述应力缓冲层由钛与铬的混合物制成；将镀上应力缓冲层后的基 板放入一个第三真空镀膜腔内，并在所述应力缓冲层的表面镀上一颜色层，所述颜色层由钛与铬的混合物制成。本发明的薄膜及其制备方法，通过将所述附着层由铬制成，将所述应力缓冲层由铬与钛制成，使得所述薄膜在由不锈钢制成的基板的表面的附着力较好，具有较好的耐磨性。
图I是本发明较佳实施方式的薄膜的结构示意图。图2是图I的薄膜的制备方法的流程图。主要元件符号说明
薄膜j loo
基板 —200 ~
应力缓冲层 30颜色层 150
如下具体实施方式
将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施例方式请参阅图1，本发明实施方式提供的一种薄膜100，其附着在一个基板200的表面，且包括依次堆叠在所述基板200表面的一个附着层10、一个应力缓冲层30及一个颜色层50。在本实施方式中,所述基板200为一电子装置的外壳。所述基板200由不锈钢制成。所述附着层10由铬制成。所述附着层10的厚度为O. 2^0. 25um。所述应力缓冲层30由钛与铬的混合物制成，且钛与铬的质量比为I :1。所述应力缓冲层30的厚度为O. 3 O. 35um。所述颜色层50由钛与铬的混合物制成，且钛与铬的质量比为3 :1。所述颜色层50的厚度为O. 4^0. 5um。如图2所示，本发明的薄膜的制备方法包括如下步骤
Si:提供一个由不锈钢制成的基板。具体的，所述基板为一金属外壳。 S2 :将所述基板放入第一真空镀膜腔内采用直流磁控溅射方法进行溅镀，使所述基板的表面镀上一附着层。具体的，所述第一真空镀膜腔内的真空压力为O. 5^0. 8Pa，以铬(Cr)作为靶材，离子轰击源的功率是1(T12KW，偏压电源的电压是20(T220V，真空溅镀的时间是600s(秒)。所述附着层的厚度为0.2 0. 25um。以氩气(Ar)作为工作气体，所述氩气(Ar)的流量为500sccm (晕升/分钟)。S3:将镀上所述附着层的基板放入第二真空镀膜腔内采用直流磁控溅射方法进行溅镀，使所述基板的表面镀上一应力缓冲层。具体的，所述第二真空镀膜腔内的真空压力为O. 5、. 8Pa，在所述第二真空腔内同时放置一个钛(Ti)靶材及一个铬(Cr)靶材。所述钛(Ti)靶材与所述铬(Cr)靶材进行离子轰击源的功率均是1(T12KW，偏压电源的电压均为12(T130V，真空溅镀的时间均为600s，从而使得所述应力缓冲层中钛与铬含量的质量比为I :1。所述应力缓冲层的厚度为O. 3^0. 35um。以氩气(Ar)作为工作气体，所述氩气(Ar)的流量为500sccm。S4:将镀上所述应力缓冲层的基板放入第三真空镀膜腔内采用直流磁控溅射方法进行溅镀，使所述基板的表面镀上一颜色层。具体的，所述第三真空镀膜腔内的真空压力为
O.5、. 8Pa，在所述第三真空腔内同时放置一个钛(Ti)靶材及一个铬(Cr)靶材。所述钛(Ti)靶材与所述铬(Cr)靶材进行离子轰击的偏压电源的电压均为8(T85V，真空溅镀的时间均为2700s，所述钛(Ti)靶材进行离子轰击的功率是3(T36KW，所述铬(Cr)靶材进行离子轰击的功率是1(T12KW，从而使得所述应力缓冲层中钛与铬的质量比为3 :1。所述颜色层的厚度为O. 4、. 5um。以氩气(Ar)及氧气(O2)作为工作气体，所述氩气(Ar)与氧气(O2)的流量比为I :3。所述氩气(Ar)的流量为200SCCm，所述氧气(O2)的流量为600sCCm。可以理解，在其他实施方式中，所述第一、第二、第三真空镀膜腔也可为同一个镀膜腔，只需要在镀完一个膜之后，将该镀膜腔抽真空，然后接着镀下一个膜。本发明的薄膜及其制备方法，通过将所述附着层由铬制成，将所述应力缓冲层由铬钛制成，使得所述薄膜在由不锈钢制成的基板表面的附着力较好，具有较好的耐磨性。同时铬钛膜设置在由铬制成的附着层及由铬钛制成的颜色层之间还能起到颜色过渡的作用，增加色彩的柔和度。可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种薄膜，其附着在一个由不锈钢制成的基板的表面，且包括依次堆叠在所述基板表面的一个附着层、一个应力缓冲层及一个颜色层，所述附着层由铬制成；所述应力缓冲层由钛与铬的混合物制成；所述颜色层由钛与铬的混合物制成。
2.如权利要求I所述的薄膜，其特征在于，所述应力缓冲层中钛与铬的质量比为I:1。
3.如权利要求I所述的薄膜，其特征在于，所述颜色层中钛与铬的质量比为3:1。
4.如权利要求I所述的薄膜，其特征在于，所述附着层的厚度为O.2^0. 25um。
5.如权利要求I所述的薄膜，其特征在于，所述应力缓冲层的厚度为O.3^0. 35um。
6.如权利要求I所述的薄膜，其特征在于，所述颜色层的厚度为O.Γ0. 5um。
7.一种薄膜的制备方法，其包括如下步骤提供一个由不锈钢制成的基板；将所述基板放入一个第一真空镀膜腔内，在所述基板的表面镀上一附着层，所述附着层由铬制成；将镀上所述附着层的基板放入一个第二真空镀膜腔内，并在所述附着层的表面镀上一应力缓冲层，所述应力缓冲层由钛与铬的混合物制成；将镀上应力缓冲层的基板放入一个第三真空镀膜腔内，并在所述应力缓冲层的表面镀上一颜色层，所述颜色层由钛与铬的混合物制成。
8.如权利要求7所述的薄膜的制备方法，其特征在于，所述第一真空镀膜腔内的真空压力为O. 5^0. 8Pa，以铬作为靶材，离子轰击源的功率是1(T12KW，偏压电源的电压是20(T220V，真空溅镀的时间是600s，所述附着层的厚度为O. 2^0. 25um,以氩气作为工作气体，所述IS气的流量为500sccm。
9.如权利要求7所述的薄膜的制备方法，其特征在于，所述第二真空镀膜腔内的真空压力为O. 5^0. 8Pa，在所述第二真空腔内同时放置一个钛靶材及一个铬靶材，所述钛靶材与所述铬靶材进行离子轰击源的功率均是1(T12KW，偏压电源的电压均为12(T130V，真空溅镀的时间均为600s，所述应力缓冲层的厚度为O. 3^0. 35um，以氩气作为工作气体，所述氩气的流量为500sccm。
10.如权利要求7所述的薄膜的制备方法，其特征在于，所述第三真空镀膜腔内的真空压力为O. 5^0. 8Pa，在所述第三真空腔内同时放置一个钛靶材及一个铬靶材，所述钛靶材与所述铬靶材进行离子轰击的偏压电源的电压均为8(T85V，真空溅镀的时间均为2700s，所述钛靶材进行离子轰击的功率均是3(T36KW，所述铬靶材进行离子轰击的功率均是1(T12KW，所述颜色层的厚度为O. 4^0. 5um，以氩气及氧气作为工作气体，所述氩气与氧气的流量比为I :3，所述氩气的流量为200SCCm，所述氧气的流量为600SCCm。
全文摘要
一种薄膜，其附着在一个由不锈钢制成的基板的表面，且包括依次堆叠在所述基板表面的一附着层、一应力缓冲层及一颜色层。所述附着层由铬制成。所述应力缓冲层由钛与铬的混合物制成；所述颜色层由钛与铬的混合物制成。本发明的薄膜在所述基板表面的附着力较好，具有较好的耐磨性。本发明还涉及一种薄膜的制备方法。
文档编号C23C14/35GK102886929SQ20111020361
公开日2013年1月23日 申请日期2011年7月20日 优先权日2011年7月20日
发明者王仲培 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司