类金刚石膜层的表面处理方法及制品与流程

技术特征：
1.一种类金刚石膜层的表面处理方法，其包括如下步骤：提供基体；采用离子束辅助磁控溅射沉积技术，在基体表面形成类金刚石膜层；对该类金刚石膜层进行离子源渗透处理，在类金刚石膜层内掺杂硅元素和氟元素，并于该基体与该类金刚石膜层之间形成扩散层，该扩散层中含有碳化硅、碳化铁、硅铁固溶体及氟铁固溶体，该离子源渗透处理的温度为400～600℃。2.如权利要求1所述的类金刚石膜层的表面处理方法，其特征在于：该基体的材质为不锈钢、高速钢或硬质合金。3.如权利要求1所述的类金刚石膜层的表面处理方法，其特征在于：所述形成类金刚石膜层的工艺参数为：以石墨为靶材，设置该石墨靶的功率为10～18kW；提供一离子源，向离子源中通入氩气，同时还通入甲烷、乙...