类金刚石膜层的表面处理方法及制品与流程

本发明涉及一种类金刚石膜层的表面处理方法及制品。

背景技术：
类金刚石(Diamond-likeCarbon，简写为DLC)膜层具有高硬度、高弹性模量、优异的耐磨性能、化学稳定性及生物相容性，具有非常广泛的应用前景。但内应力大、膜/基之间的结合力差，且DLC膜层的硬度(一般在2300HV左右)与氮化钛、氮化铬等硬质膜层的硬度相比偏低等缺点限制了DLC膜层的应用。通过离子束辅助磁控溅射沉积技术，形成掺杂有金属和/或非金属元素DLC膜层，虽然可改善DLC膜层的硬度，但掺杂元素的加入易于使DLC膜层的内应力变大、膜/基之间的结合力降低。

技术实现要素：
鉴于此，有必要提供一种降低类金刚石膜层的内应力、提高基体与类金刚石膜层之间的结合力的类金刚石膜层的表面处理方法。另外，还提供一种经上述类金刚石膜层的表面处理方法制得的制品。一种类金刚石膜层的表面处理方法，其包括如下步骤：提供基体；采用离子束辅助磁控溅射沉积技术，在基体表面形成类金刚石膜层；对该类金刚石膜层进行离子源渗透处理，在类金刚石膜层内掺杂硅元素和氟元素，并于该基体与该类金刚石膜层之间形成扩散层，该扩散层中含有碳化硅、碳化铁、硅铁固溶体及氟铁固溶体，该离子源渗透处理的温度为400～600℃。一种制品，其包括基体及形成于基体上的类金刚石膜层，该类金刚石膜层中含有硅元素和氟元素。本发明类金刚石膜层的表面处理方法，通过所述离子源渗透处理，可使Si、F离子渗透至类金刚石膜层内部及基体上靠近类金刚石膜层的部分区域，如此可提高所述类金刚石膜层的硬度；同时由于离子源渗透在400～600℃的高温条件下进行，基体与类金刚石膜层之间会发生固相扩散，可有效降低基体与类金刚石膜层之间的内应力，提高基体与类金刚石膜层之间的结合力。附图说明图1是本发明较佳实施例的表面形成有DLC膜层的基体的示意图。图2是本发明较佳实施例的制品的示意图。主要元件符号说明制品10基体...