专利名称：透明导电膜卷绕镀膜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种卷绕镀膜设备，特别是涉及一种用于柔性透明导电膜的卷绕镀膜装置。
背景技术：
真空卷绕镀膜技术是在真空室内通过热蒸发或者磁控溅射等方法在柔性基材表面制备一层或者多层具有一定功能的薄膜的技术。真空卷绕镀膜设备主要技术特征是其一，被镀基材为柔性基材，即具有可卷绕性；其二，镀膜过程具有连续性，即在一个工作周期内镀膜是连续进行的；其三，镀膜过程在一定的真空环境中进行。所以真空卷绕镀膜设备的基本结构必须有卷绕转动，有基材的放卷和收卷。在放卷和收卷过程中基材被镀上薄膜。镀膜的结构就是真空卷绕镀膜设备的工作部。它位于基材的收放卷之间。镀膜部分的工作原理可以是电阻蒸发、感应蒸发、电子束蒸发、磁控溅射或者是其它真空镀膜方法中的任意一种。传统的柔性透明导电膜生产的控制技术仅仅是对电源参数的控制，对于过程的可控性不高。
实用新型内容
基于此，有必要提供一种生产控制程度较高的透明导电膜卷绕镀膜装置。一种透明导电膜卷绕镀膜装置，包括依次相连的放卷室、镀膜室及收卷室以及真空获得系统，所述放卷室将柔性基材运送到所述镀膜室内镀膜，形成透明导电膜，所述收卷室用于接收所述透明导电膜，所述真空获得系统安装于所述镀膜室，用于获得镀膜所需的真空状态，所述透明导电膜卷绕镀膜装置还包括控制系统，所述控制系统包括气体分析仪，设于所述镀膜室内，用于分析所述镀膜室内的气体成分和含量，其中的气体有 Ar, O2, H2O, H2, N2, CO, CO2 等；真空计，设于所述镀膜室内，用于测量所述镀膜室内的气压，镀膜工作气压一般在I (T4 I (T3Torr ；气体流量计，设于所述镀膜室的进气管道上，用于控制所述镀膜室的进气量；张力控制系统，设于放卷室、镀膜室及收卷室内，用于控制柔性基材的平稳运行；及计算机,与所述在线气体分析仪、真空计及气体流量计相连。在其中一个实施例中，所述控制系统还包括设于所述镀膜室内并与所述计算机相连的电阻仪，用于检测透明导电膜的电阻。在其中一个实施例中，所述控制系统还包括设于所述镀膜室内并与所述计算机相连的在线透过率测试仪，用于实时检测透明导电膜的透过率。上述透明导电膜卷绕镀膜装置通过在线监控镀膜室的工作参数，实时调整镀膜室的进气量，因此生产控制程度较高，进而提高了生产效率。
图1为一实施方式的透明导电膜卷绕镀膜装置的结构示意图。
具体实施方式为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式
做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。请参阅图1，一实施方式的透明导电膜卷绕镀膜装置100包括依次相连的放卷室10、镀膜室20，收卷室30以及真空获得系统(图未示，安装于所述镀膜室20，用于获得镀膜所需的真空状态)。放卷室10内设有放卷装置11，用于将基材12运送到镀膜室20内镀膜。基材12为柔性基材，例如PET (聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PEN (聚萘二甲酸乙二醇酯)、PC (聚碳酸酯)，PI (聚酰亚胺)，PMMA (聚甲基丙烯酸甲酯)等。放卷室10内设有多个进料导向辊22。多个进料导向辊22之间还设有用于加热基材12的加热源221。加热源221优选为红外加热器，其放置于基材12附近，用于去除附着于基材表面的水汽、有机物等。由于是真空放卷室，所以用红外加热器通过红外热辐射进行加热可以达到很好的去除PET表面水汽、有机物等吸附物质的效果。镀膜室20内抽真空，并通过设于镀膜室20内壁上的进气管道21通入工艺气体，例如 02、Ar、N2、H20，H2 等。镀膜室20内设有主加热辊23及离子源222。主加热辊23的两侧还分别设有两个靶材231。靶材231工作时能够将底层及导电层沉积在基材表面，形成透明导电膜32。底层可以是 MgF2, TiO2, SiO2, Al2O3, Nb2O5, Ta2O5, ZrO2 中的一种或几种；导电层可以是 ΙΤΟ, ΑΖ0,石墨烯(Graphene)中的一种,两种。收卷室30包括出料导向辊24和收卷装置31，用于接收来自镀膜室20的透明导电膜32。镀膜室20内还设有气体分析仪25、真空计26、气体流量计27及电阻仪28及透过率测试仪29。透明导电膜卷绕镀膜装置100还包括计算机(图未示)，气体分析仪25、真空计26、气体流量计27、电阻仪28及透过率测试仪29及计算机构成一控制系统。气体分析仪25设于镀膜室20的侧壁上，用于分析镀膜室20内的气体成分和含量。例如，可以通过气体分析仪25将待测气体的质谱图显示出来，并与标准数据库进行对t匕，就可确定气体的成分和含量。真空计26设于镀膜室20的与气体分析仪25相对的侧壁上，用于测量镀膜室20内的气压。气体流量计27，设于进气管道21上，用于控制进气量。电阻仪28设于多个出料导向辊24的附近，用于实时检测透明导电膜32的电阻。透过率测试仪29设于多个出料导向辊24的附近，用于实时检测透明导电膜32的透过率。使用时，基材12从放卷室10的放卷装置11进入镀膜室20，并沿多个进料导向辊22运动，经加热源221加热后，进入主加热辊23。靶材231将导电层，沉积在基材表面，形成透明导电膜32。透明导电膜32沿多个出料导向辊24运动，最后背输送到收卷室30的收卷装置31内收集成卷。在镀膜的过程中，计算机通过气体分析仪25、真空计26及电阻仪及透过率测试仪28实时采集并监控镀膜室20的工作状况。例如，通过真空计26和气体分析仪25分析杂质气体(例如水蒸气、氮气、一氧化碳等)的含量(通过相应软件将杂质气体的分压等数据反馈到计算机上，实时反应真空腔室内杂质气体的含量)，通过电阻仪28及透过率测试仪29得到透明导电膜32的电阻及透过率(通过相应的软件在计算机上实时显示)。一般正常情况下水气的分压在f 2. 5X IO-6Torr,当杂质气体的含量增加时，控制气体流量计27减少镀膜室20工艺气体的进气量。例如，当水气的分压增加了 O. 5X 10_6Torr时，将氧气的供给量降低O. Γ0. 2sccm0同理，当杂质气体的含量减少时，控制气体流量计27增加镀膜室20工艺气体的进气量。通过调整氧气的供给量，达到对镀膜时靶材电压的可控，保证靶材在较高的速率下溅射，实现生产的高效、可控；同时通过调整氧气的供给量，可以实时调整膜层的质量，保证溅射膜层的致密性及附着性；通过调整氧气的供给量，保证溅射膜层的最佳光电性能。上述透明导电 膜卷绕镀膜装置100通过在线监控镀膜室的工作参数，实时调整镀膜室20的进气量，因此生产控制程度较高，提高了产品品质(如光、电等性能)的可控性，进而提闻了广品良率及生广效率。以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
权利要求1.一种透明导电膜卷绕镀膜装置，包括依次相连的放卷室、镀膜室、收卷室以及真空获得系统，所述放卷室将柔性基材运送到所述镀膜室内镀膜，形成透明导电膜，所述收卷室用于接收所述透明导电膜，所述真空获得系统安装于所述镀膜室，用于获得镀膜所需的真空状态，其特征在于，所述透明导电膜卷绕镀膜装置还包括控制系统，所述控制系统包括 气体分析仪，设于所述镀膜室内，用于分析所述镀膜室内的气体成分和含量； 真空计，设于所述镀膜室内，用于测量所述镀膜室内的气压； 气体流量计，设于所述镀膜室的进气管道上，用于控制所述镀膜室的进气量； 张力控制系统，设于放卷室、镀膜室及收卷室内，用于控制柔性基材的平稳运行；及 计算机，与所述在线气体分析仪、真空计及气体流量计相连。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜卷绕镀膜装置，其特征在于，所述控制系统还包括设于所述镀膜室内并与所述计算机相连的在线电阻仪，用于实时检测透明导电膜的电阻值。
3.根据权利要求1所述的透明导电膜卷绕镀膜装置，其特征在于，所述控制系统还包括设于所述镀膜室内并与所述计算机相连的在线透过率测试仪，用于实时检测透明导电膜的透过率。
专利摘要一种透明导电膜卷绕镀膜装置，包括依次相连的放卷室、镀膜室及收卷室，还包括控制系统，所述控制系统包括气体分析仪，设于所述镀膜室内，用于分析所述镀膜室内的气体成分和含量；真空计，设于所述镀膜室内，用于测量所述镀膜室内的气压；气体流量计，设于所述镀膜室的进气管道上，用于控制所述镀膜室的进气量；张力控制系统，设于放卷室、镀膜室及收卷室内，用于控制柔性基材的平稳运行；及计算机，与所述在线气体分析仪、真空计、气体流量计及在线电阻仪及在线透过率测试仪相连。上述透明导电膜卷绕镀膜装置通过在线监控镀膜室的工作参数，实时调整镀膜室的进气量，因此生产控制程度较高，产品性能可控，进而提高了生产效率。
文档编号C23C14/54GK202865329SQ20122049639
公开日2013年4月10日 申请日期2012年9月26日 优先权日2012年9月26日
发明者江成军, 夏国涛, 李章国, 钟欣, 柳锡运 申请人:深圳南玻显示器件科技有限公司