技术特征：
1.一种边磁铁框架，其环绕设置在反应腔室的侧壁一侧，且位于靠近用于承载晶片的下电极的位置处，其特征在于，所述边磁铁框架包括环形支撑件，在所述环形支撑件上设置有沿其周向间隔设置的多个安装组件，每个安装组件用于可选择地将所述边磁铁固定在所述环形支撑件的径向上的不同位置处。2.根据权利要求1所述的边磁铁框架，其特征在于，所述环形支撑件包括上环板、下环板和多个支撑柱，其中，所述上环板和下环板在所述环形支撑件的轴向上相对且间隔设置；每个安装组件包括设置在所述上环板上，且沿所述环形支撑件的径向间隔排列的至少两个上安装孔，以及设置在所述下环板上，且沿所述环形支撑件的径向间隔排列的至少两个下安装孔；各个上安装孔与各个下安装孔一一对应；并且，在所述边磁铁的上端和下端分别设置有两个连接部，通过可选择地使所述两个连接部与其中一个上安装孔和与之相对应的下安装孔相配合，而将所述边磁铁固定在所述上安装孔所在位置处；所述多个支撑柱可拆卸地连接在所述上环板和下环板之间，且沿所述环形支撑件的周向间隔分布，用以支撑所述上环板和下环板。3.根据权利要求1所述的边磁铁框架，其特征在于，所述环形支撑件包括上环板、下环板和多个支撑柱，其中，所述上环板和下环板在所述环形支撑件的轴向上相对且间隔设置；每个安装组件包括：滑轨，设置在所述上环板或者下环板上，且沿所述环形支撑件的径向延伸；可沿所述滑轨移动的滑动件，所述滑动件与所述边磁铁连接；固定件，用于在所述边磁铁沿所述滑轨滑动至所述环形支撑件的径向上所需的位置处时，将所述滑动件固定在该位置处；所述多个支撑柱可拆卸地连接在所述上环板和下环板之间，且\t沿所述环形支撑件的周向间隔分布，用以支撑所述上环板和下环板。4.根据权利要求1所述的边磁铁框架，其特征在于，所述环形支撑件包括上环板、下环板和多个支撑柱，其中，所述上环板和下环板在所述环形支撑件的轴向上相对且间隔设置；每个安装组件包括：两个滑轨，分别设置在所述上环板和下环板上，且沿所述环形支撑件的径向延伸；可同时沿所述两个滑轨移动的滑动件，所述滑动件与所述边磁铁连接；固定件，用于在所述边磁铁沿所述滑轨滑动至所述环形支撑件的径向上所需的位置处时，将所述滑动件固定在该位置处；所述多个支撑柱可拆卸地连接在所述上环板和下环板之间，且沿所述环形支撑件的周向间隔分布，用以支撑所述上环板和下环板。5.根据权利要求1所述的边磁铁框架，其特征在于，所述环形支撑件包括相互独立的至少两个子支撑环，各个子支撑环的内径不同；每个所述安装组件包括数量与所述子支撑环相对应的子安装组件，且各个子安装组件一一对应地设置在各个子支撑环上；可选择地将其中一个子支撑环环绕设置在反应腔室的侧壁一侧，且位于靠近下电极的位置处，并且所述边磁铁通过该子支撑环上的子安装组件固定在该子支撑环上。6.根据权利要求5所述的边磁铁框架，其特征在于，每个子支撑环包括子上环板、子下环板和多个子支撑柱，其中，所述子上环板和子下环板在所述环形支撑件的轴向上相对且间隔设置；每个子安装组件包括设置在所述子上环板上的上安装孔，以及设置在所述子下环板上的下安装孔；所述上安装孔和下安装孔相对应；并且，在所述边磁铁的上端和下端分别设置有两个连接部，二者通过分别与所述上安装孔和与之相对应的下安装孔相配合，而将所述边磁铁固定在所述子支撑环上；所述多个子支撑柱可拆卸地连接在所述子上环板和子下环板之间，且沿所述环形支撑件的周向间隔分布，用以支撑所述子上环板和子下环板。7.根据权利要求5所述的边磁铁框架，其特征在于，每个所述子支撑环由沿其周向分割形成的多个分体组成，相邻的两个分体采用可拆卸的方式连接。8.根据权利要求2-4任意一项所述的边磁铁框架，其特征在于，所述上环板由沿其周向分割形成的多个上分体组成，相邻的两个上分体采用可拆卸的方式连接；所述下环板由沿其周向分割形成的多个下分体组成，相邻的两个下分体采用可拆卸的方式连接。9.根据权利要求8所述的边磁铁框架，其特征在于，所述上分体和下分体各自的数量均与所述支撑柱的数量相等，且各个相邻的两个上分体之间的连接处与各个相邻的两个下分体之间的连接处一一对应；并且，各个支撑柱一一对应地位于各个相邻的两个上分体之间的连接处，每个支撑柱的上端分别与相对应的两个上分体螺纹连接；每个支撑柱的下端分别与相对应的两个下分体螺纹连接。10.一种磁控溅射设备，其包括反应腔室，在所述反应腔室内设置有下电极，用以承载晶片；在反应腔室的侧壁一侧，且位于靠近下电极的位置处环绕设置有边磁铁框架，用以固定边磁铁；其特征在于，所述边磁铁框架采用权利要求1-9任意一项所述的边磁铁框架。