1.一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，由磁控溅射装置和反馈控制装置组成，磁控溅射装置包括反应气体存储装置(1)和真空室(4)，反应气体存储装置(1)通过导气管和真空室(4)连通，真空室(4)内设有磁电管(8)，磁电管(8)上设有放电等离子体(3)；反馈控制装置由光探头(11)、光谱仪(10)、控制器(9)和电磁阀(2)组成，光探头(11)位于所述真空室(4)内，光谱仪(10)通过光纤(5)和光探头(11)相连，控制器(9)和光谱仪(10)电连接，控制器(9)和电磁阀(2)电连接。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，光谱仪(10)包括单色仪(6)和光电倍增器(7)，光探头(11)和单色仪(6)通过光纤(5)相连，单色仪(6)和光电倍增器(7)通过光纤(5)相连，光电倍增器(7)和所述控制器(9)电连接。
3.根据权利要求2所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，所述电磁阀(2)的型号为：ZCK。
4.根据权利要求3所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，所述光谱仪(10)具有显示屏。
5.根据权利要求3所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，所述控制器(9)上具备串口RS232/485的通讯接口。
6.权利要求2至5任一项所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统的使用方法，其特征在于，用于控制反应磁控溅射法镀膜时反应气体的喷射速率，包括下述方法：通过光探头(11)采集真空室(4)内溅射过程中发出的光线，光探头(11)将采集到的光线导向单色仪(6)，单色仪(6)将采集到的光线过滤成单色光；通过光电倍增器(7)将单色光转换放大为电信号，然后将所述电信号发送给控制器(9)；控制器(9)根据收到的电信号控制电磁阀(2)开启、关闭、增大开度或减小开度。
7.根据权利要求6所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统的使用方法，其特征在于，通过光谱仪(10)的显示屏显示所述采集到的光线的光强信号设定值、实际值、光电倍增器(7)高压输出电压值以及设定值与实际值的偏差。