技术总结
本实用新型属于磁控溅射领域，针对靶材散热技术，特别涉及一种溅射靶材自循环冷却装置。该装置包括靶材和散热结构，靶材采用合成射流方法降温，靶材对接密封在金属阴极上端，合成射流发生器固定在合成射流腔体内部，产生间歇射流气体，射流气体由合成射流腔体储存，沿喷嘴喷出，喷出的射流气体冲击靶材内侧肋片达到降温作用，升温后的气体进入散热通道，经降温的气体重新回到合成射流腔体循环使用。
技术研发人员：乔宪武
受保护的技术使用者：乔宪武
文档号码：201620646998
技术研发日：2016.06.21
技术公布日：2016.11.30