本实用新型涉及一种真空镀膜机，属于镀膜机技术领域。
背景技术：
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
现有的真空镀膜机在进行支架传输时比较困难，而且浪费时间，工作效率低，操作复杂。
技术实现要素：
针对上述问题，本实用新型要解决的技术问题是提供一种真空镀膜机。
本实用新型的一种真空镀膜机，它包含机架、第一过渡腔、镀膜腔、第二过渡腔、真空隔离阀、真空抽泵、过渡门、支架传输轨、镀膜支架、电弧溅射源机构、气液分离器、单向气阀；机架的内部分别设置有第一过渡腔、镀膜腔、第二过渡腔，第一过渡腔、镀膜腔、第二过渡腔之间依次通过真空隔离阀连接，镀膜腔、第二过渡腔的内部安装有镀膜支架，第一过渡腔的一侧安装有过渡门，真空吸泵安装在机架的侧面，且真空吸泵通过管道分别与第一过渡腔、镀膜腔、第二过渡腔的抽真空口连接，且抽真空口上安装有单向气阀，气液分离器安装在真空吸泵的管道上，电弧溅射源机构安装在镀膜腔的内部，支架传输轨安装在机架的内部，且支架传输轨与镀膜腔、第二过渡腔连接。
作为优选，所述的真空抽泵为大功率真空抽泵。
作为优选，所述的机架的底部安装有支撑脚。
本实用新型的有益效果为：便于实现快速抽真空与真空镀膜，同时传输快速，节省时间。
附图说明：
为了易于说明，本实用新型由下述的具体实施及附图作以详细描述。
图1为本实用新型的结构示意图。
图中：1-机架；2-第一过渡腔；3-镀膜腔；4-第二过渡腔；5-真空隔离阀；6-真空抽泵；7-过渡门；8-支架传输轨；9-镀膜支架；10-电弧溅射源机构；11-气液分离器；12-单向气阀。
具体实施方式：
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面通过附图中示出的具体实施例来描述本实用新型。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。
如图1所示，本具体实施方式采用以下技术方案：它包含机架1、第一过渡腔2、镀膜腔3、第二过渡腔4、真空隔离阀5、真空抽泵6、过渡门7、支架传输轨8、镀膜支架9、电弧溅射源机构10、气液分离器11、单向气阀12；机架1的内部分别设置有第一过渡腔2、镀膜腔3、第二过渡腔4，第一过渡腔2、镀膜腔3、第二过渡腔4之间依次通过真空隔离阀5连接，镀膜腔3、第二过渡腔4的内部安装有镀膜支架9，第一过渡腔2的一侧安装有过渡门7，真空吸泵6安装在机架1的侧面，且真空吸泵6通过管道分别与第一过渡腔2、镀膜腔3、第二过渡腔4的抽真空口连接，且抽真空口上安装有单向气阀12，气液分离器11安装在真空吸泵6的管道上，电弧溅射源机构10安装在镀膜腔3的内部，支架传输轨8安装在机架1的内部，且支架传输轨8与镀膜腔3、第二过渡腔4连接。
进一步的，所述的真空抽泵6为大功率真空抽泵。
进一步的，所述的机架1的底部安装有支撑脚。
本具体实施方式的工作原理为：第一过渡腔中的镀膜支架装上被镀工件，真空吸泵6实现抽真空，同时对第一过渡腔中的工件进行加热与离子清洗，打开真空隔离阀5，镀膜支架进入镀膜腔进行镀膜，完成后，通过支架传输轨8将镀膜支架传输到第二过渡腔7内，第二过渡腔7内的工件通过打开真空隔离阀5传输到镀膜腔内，能节省时间，操作简便。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。