1.一种太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，包括真空室体，以及分别与真空室体连接的真空系统、充气系统和电控系统，其特征在于，真空室体内放置有放卷装置、加热清洗装置、托辊装置、溅射单元、冷却装置、纠偏装置和收卷装置，所述溅射单元设有多个，相邻溅射单元之间设有气氛隔离单元；所述溅射单元包括安装于带材下方的磁控溅射靶和安装于磁控溅射靶上方的挡板，所述带材位于磁控溅射靶和挡板之间。
2.如权利要求1所述的太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，其特征在于，所述溅射单元还包括固定在真空室体底面上的至少一个由质量流量计分段控制的充气管和安装在真空室体侧壁上的防扰射挡板。
3.如权利要求1或2所述的太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，其特征在于，所述气氛隔离单元包括狭缝上挡板、狭缝下挡板和狭缝中间隔离板，狭缝上挡板、狭缝下挡板和狭缝中间隔离板组成隔离狭缝，隔离狭缝的两侧分别设有一分子泵。
4.如权利要求3所述的太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，其特征在于，所述溅射单元和气氛隔离单元均安装有盖板。
5.如权利要求4所述的太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，其特征在于，所述加热清洗装置包括用于对带材进行加热的真空加热辊和用于对带材进行清洗的线性离子源。
6.如权利要求1或5所述的太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，其特征在于，所述真空室体内还放置有张力控制装置。
7.如权利要求6所述的太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，其特征在于，张力控制装置为张力测量辊。
8.如权利要求1或7所述的太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，其特征在于，所述托辊装置为多个依次顺序排列的托辊。
9.如权利要求8所述的太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，其特征在于，所述真空室体为整体式结构或分体式结构。
10.如权利要求9所述的太阳光谱选择性吸收涂层向上溅射卷对卷镀膜生产线，其特征在于，所述真空室体为分体式结构时，包括用于放置放卷装置的第一真空室体，用于放置加热清洗装置的第二真空室体，用于放置张力控制装置、托辊装置、溅射单元和气氛隔离单元的第三真空室体，用于放置冷却装置和纠偏装置的第四真空室体，以及用于放置收卷装置的第五真空室体。