技术总结
本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的线蒸镀源或者面蒸镀源在蒸镀过程中对待蒸镀基板上不同蒸镀区域的蒸镀膜层厚度不均匀的问题。包括蒸镀坩埚，还包括设置在蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个蒸镀喷嘴至少排列为一排。蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通蒸镀材料空腔的贯通腔，蒸镀喷嘴包括喷头以及与喷头固定连接的活动部，喷头通过贯通腔与蒸镀材料空腔相连通，活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，以使得喷头在活动部的带动下摆动。
技术研发人员：上官荣刚;王欣欣
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
文档号码：201710145014
技术研发日：2017.03.10
技术公布日：2017.06.13