1.一种微分混合式化学气相沉积装置，其特征在于：由箱体、流道板、绝缘密封垫片、反应室、支柱、基座、加热系统和射频系统组成；所述反应室为进行化学气相沉积的反应空间；流道板设置在反应室上方，流道板内流道由A入口、B入口、A主流道、B主流道、A分流道、B分流道、A支流道、B支流道、汇集流道、混合流道和喷头组成；射频系统的电极安装在流道板上方；箱体位于流道板下方，其与流道板所包围空间即为所述反应空间，箱体的底面设置有均匀排布的多个抽气孔，抽气孔与抽气管相连通，并连通到抽气装置；绝缘密封垫片上表面和下表面分别与流道板和箱体接触，绝缘密封垫片、流道板与箱体固定；基座位于反应室内，由立柱支撑；基座上方放置基板，基板可用于沉积薄膜或放置待沉积品。
2.根据权利要求1所述的一种微分混合式化学气相沉积装置,其特征在于：所述流道板的A入口与B入口位于流道板的两侧，A入口与A主流道连通，B入口与B主流道连通，A主流道与B主流道平行设置；A主流道与多个A分流道连通，各A分流道与A主流道垂直，B主流道与多个B分流道连通，各B分流道与B主流道垂直,各A分流道与各B分流道为“A-B-A-B”式的交叉排列；每个A分流道分别与多个A支流道连通，每个B分流道分别与多个B支流道连通，对应的各A支流道与B支流道在汇集流道汇合，各汇集流道连通混合流道，混合流道连通喷头。
3.根据权利要求1所述的一种微分混合式化学气相沉积装置,其特征在于：所述流道板的A主流道于A分流道的断面深度；B主流道的断面深度大于B分流道的断面深度。
4.根据权利要求1所述的一种微分混合式化学气相沉积装置,其特征在于：所述流道板的混合流道截面形状由矩形变为圆形，并且截面面积迅速减小。
5.根据权利要求1所述的一种微分混合式化学气相沉积装置,其特征在于：所述流道板可以由上板、中板、下板三块金属板组装而成，上板、中板、下板由螺栓固定；上板内流道为A入口、B入口、A分流道、B分流道以及A主流道和B主流道的上半部分；中板内流道为A支流道、B支流道以及A主流道和B主流道的下半部分；下板内流道为汇集流道、混合流道和喷头。
6.根据权利要求1所述的一种微分混合式化学气相沉积装置,其特征在于：所述流道板由金属3D打印方法加工成型。
7.根据权利要求1所述的一种微分混合式化学气相沉积装置,其特征在于：其加热系统为电磁感应加热方式，加热线圈位于基座内，加热线圈排布方式为环形排布或点阵式排布。