技术特征：
技术总结
本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的蒸镀坩埚在蒸镀材料气化蒸发使得内部扩散空间增大进而导致蒸发速率下降而影响蒸镀效果的问题。包括：蒸镀坩埚；活动台，设置在蒸镀坩埚内，活动台至少包括底板，用于放置蒸镀材料，活动台与蒸镀坩埚的侧面以及上表面包围形成蒸发空腔；移动机构，带动活动台在蒸镀坩埚内沿垂直于底板的方向移动。其中，在蒸镀坩埚的上表面设置有蒸镀材料出口。
技术研发人员：孙力
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
技术研发日：2017.06.01
技术公布日：2017.07.28