本实用新型涉及一种镀膜装置，具体涉及一种磁控溅射仪。
背景技术：
溅射镀膜是目前薄膜制备中应用最为广泛的方法之一,这是由于溅射法制膜具有许多优点,如可通过控制反应气体的种类、浓度、溅射功率、衬底 温度、溅射压强等条件,较容易地控制膜的组分和结晶状态。同时,溅射制膜易于大规模工业化生产,制备工艺简单,薄膜造价较低等。现有的磁控溅射仪存在明显不足，由于分子泵工作时需要通过水进行冷却，当停水或者低水压时，如果溅射仪还在继续工作，分子泵将会没有得到冷却从而被烧毁。这就使得在任何时刻都必须有工作人员对其进行监控，这将浪费大量人力、物力。这就造成工作效率较为低下。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种在缺水或者停水状态下能够自动停止工作的磁控溅射仪，解决现有磁控溅射仪在缺水或者停水的时候会将分子泵烧毁的问题。
本实用新型所采取的技术方案为：一种磁控溅射仪，包括溅射室、预处理室、磁力传递杆、机械泵、分子泵和冷却水管，溅射室和处理室之设有阀板，预处理室和磁力传递杆相连，预处理室还与机械泵和分子泵相连，分子泵与冷却水管相连，冷却水管进水处设有水位检测开关，所述水位检测开关包括壳体、壳体内设有水管，水管上设有一受其内水压可上下运动的活塞，活塞上端部设有一具有导电能力的顶针，顶针上方设有一具有导电能力的弹片，顶针和弹片串接在分子泵的电源线的L线上，这种磁控溅射仪在使用过程中，冷却水管内的水正常时，水流通过水位检测开关，活塞受到水的压强作用向上浮起，顶针与弹片连通，分子泵通电正常工作，当冷却水管内的水不够或者断流的时候，活塞受重力影响而落下，顶针和弹片断开，分子泵就停止工作，通过水位检测开关检测冷却水是否正常，从而控制分子泵的开关，防止分子泵被烧毁。
所述壳体和活塞均为绝缘体，防止漏电，增强了设备的安全性。
附图说明
图1为本实用新型磁控溅射仪的结构示意图。
具体实施方式
现在结合说明书附图对本实用新型进一步详细说明。
如图1所示：一种磁控溅射仪，包括溅射室1、预处理室2、磁力传递杆3、机械泵4、分子泵5和冷却水管6，溅射室1和预处理室2之设有阀板7，预处理室2和磁力传递杆3相连，预处理室2还与机械泵4和分子泵5相连，分子泵5与冷却水管6相连，冷却水管6进水处61设有水位检测开关7，所述水位检测开关7包括壳体71、壳体71内设有水管72，水管72上设有一受其内水压可上下运动的活塞73，活塞73上端部设有一具有导电能力的顶针74，顶针74上方设有一具有导电能力的弹片75，顶针74和弹片75串接在分子泵5的电源线51的L线上，这种磁控溅射仪在使用过程中，冷却水管内的水正常时，水流通过水位检测开关，活塞受到水的压强作用向上浮起，顶针与弹片连通，分子泵通电正常工作，当冷却水管内的水不够或者断流的时候，活塞受重力影响而落下，顶针和弹片断开，分子泵就停止工作，通过水位检测开关检测冷却水是否正常，从而控制分子泵的开关，防止分子泵被烧毁。
所述壳体71和活塞73均为绝缘体，防止漏电，增强了设备的安全性。