技术总结
一种圆形平面靶磁控溅射基片运动装置，其特征在于：其包括真空室，所述真空室内上部设置有一行星基片架，真空室侧壁底部设置有一抽气孔和一充气孔，所述行星基片架包括自转电机、公转电机、减速装置、公转轴、中齿轮一、中齿轮二、连接轴、小齿轮、若干自转齿轮、若干自转轴、公转盘以及若干工件夹。本实用新型结构简单，安装方便，通过使用自转基片与溅射靶的偏心布置有效的增大膜层的面积，采用基片的自转加公转的复合运动形式大大的提高了膜厚的均匀性，并且可通过自行设计合适的公自转转速比，从而改变基片上的运动轨迹，以达到在基片的较大面积范围内能得到均匀膜层的目的，有效的提高了镀膜效率。
技术研发人员：侯则良
受保护的技术使用者：福建省诺希科技园发展有限公司
文档号码：201720087192
技术研发日：2017.01.23
技术公布日：2017.09.19