本实用新型涉及立式真空溅射镀膜机膜厚调节装置。
背景技术：
传统的立式真空溅射镀膜设备炉内上下膜厚均匀度很难保证其一致，基本是通过减少装炉量和只取中间位置来操作，解决这一难题将会使成本降低，产能提高。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种立式真空溅射镀膜机膜厚调节装置，其上下膜厚均匀。
为实现上述目的，本实用新型的技术方案是设计一种立式真空溅射镀膜机膜厚调节装置，包括立式炉体、若干设置于所述立式炉体内的靶材、垂直设置于所述立式炉体内的中空充气架，所述中空充气架的中心线与所述立式炉体的中心线相重合，所述中空充气架的侧壁上开设有若干正对所述靶材的出气孔，所述中空充气架的两端闭合，所述中空充气架通过送气管道与气体控制柜上的气体调节阀相连通。
进一步改进的是：所述送气管道上设置有用于监测气体充入多少的流量控制阀。
进一步改进的是：所述中空充气架的横截面呈矩形。
本实用新型的优点和有益效果在于：提供一种立式真空溅射镀膜机膜厚调节装置，其上下分布均匀，充气稳定、效率高、操作方便。
附图说明
图1是本实用新型的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
本实用新型具体实施的技术方案是：
如图1所示，一种立式真空溅射镀膜机膜厚调节装置，包括立式炉体1、若干设置于所述立式炉体1内的靶材6、垂直设置于所述立式炉体1内的中空充气架2，所述中空充气架2的中心线与所述立式炉体1的中心线相重合，所述中空充气架2的侧壁上开设有若干正对所述靶材6的出气孔3，所述中空充气架2的两端闭合，所述中空充气架2通过送气管道与气体控制柜上的气体调节阀5相连通，所述送气管道上设置有用于监测气体充入多少的流量控制阀4。
本实施例中进一步优化的实施方式为，所述中空充气架2的横截面呈矩形。
通过多方位出气孔3进入的氩离子轰击靶材6，得到均匀的膜厚，解决了传统膜厚上下不均的问题。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。