一种托盘离心式抛光机的制作方法

本实用新型涉及到一种抛光机，尤其是涉及到一种防止工件撞击陶瓷环的托盘离心式抛光机。

背景技术：

抛光机主要是通过对金属工件表面进行干加工或者是湿加工的方法来达到精细表面处理的目的，抛光时，将需抛光或去毛刺的产品与磨料一起倒入工作容器中，利用托盘的旋转使产品与磨料做旋涡装的翻滚从而达到抛光的效果，主要应用于珠宝、医疗器械等行业，主要分湿加工与干加工两种机型。

而现有的托盘离心式抛光机由钣金机架、电气箱、皮带盘、托盘、工作容器、磨料筛以及磨料周转箱组成，在托盘与工作容器之间设置有一陶瓷环，陶瓷环是粘接在工作容器上，陶瓷环有一段斜面是外露的，抛光时磨料与产品会撞击到陶瓷环，产品的撞击有可能破坏产品表面以及陶瓷环表面的质量，这种加工现象在珠宝、医疗器械等行业是绝不允许的。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题：针对上述现有技术存在的问题，提供一种防止工件撞击陶瓷环的托盘离心式抛光机。

一种托盘离心式抛光机，包括一钣金机架，在所述钣金机架的上端设置有电气箱，在所述钣金机架上设置有一皮带盘，在所述皮带盘上设置有电机和托盘，在所述托盘上设置有一工作容器以及一用于翻转的翻转拉杆，在所述钣金机架的下部位于所述工作容器的下方设置有一磨料筛，在所述磨料筛的下方设置有若干个磨料周转箱，其特征在于，在所述托盘上设置有一陶瓷环，所述陶瓷环与所述托盘上的耐磨层平齐；在所述工作容器上设置有一用于防止加工工件撞击所述陶瓷环的防撞环。

在本实用新型的一个优选实施例中，所述防撞环设置为可脱卸式，在所述防撞环上并以其圆心为基准周向设置有若干个呈30°分布的螺栓固定通孔，在所述螺栓固定通孔上同轴设置有螺栓固定沉孔，在所述防撞环的一侧还设置有一装配槽，另一侧设置有一定倾斜角度的内斜面，所述防撞环的上端有第一台阶，在所述防撞环的下端设置有第二台阶。

由于采用上述技术方案，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构简单、设计合理，防撞环用螺栓固定在工作容器上，陶瓷环粘接在托盘上，与托盘上的耐磨层平齐，从上往下看几乎见不到陶瓷环，避免了产品的撞击，防撞环采用可脱卸式，易更换，降低了设备的维护成本。

附图说明

图1为本实用新型一种托盘离心式抛光机的结构示意图。

图2为本实用新型一种托盘离心式抛光机的防撞环安装局部放大图。

图3为本实用新型一种托盘离心式抛光机的防撞环的结构示意图。

图4为图3的A-A视图。

图5为图4的B处放大示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

参见图1至图5所示的一种托盘离心式抛光机，包括一钣金机架100，在钣金机架100的上端设置有电气箱200，在钣金机架100上设置有一皮带盘300，在皮带盘300上设置有电机310和托盘320，在托盘320上设置有一工作容器321以及一用于翻转的翻转拉杆322，在钣金机架100的下部位于工作容器321的下方设置有一磨料筛400，在磨料筛400的下方设置有若干个磨料周转箱500。

在工作容器321上设置有一用于防止加工工件撞击陶瓷环700的防撞环600，在本实施例中，防撞环600设置为可脱卸式，由铝基体610和耐磨层620组成，耐磨层610设置在铝基体620上，在铝基体610上并以防撞环600的圆心为基准周向设置有若干个呈30°分布的螺栓固定通孔611，用于固定在工作容器321上；在螺栓固定通孔611上同轴设置有螺栓固定沉孔612，用于避免螺栓的突起干涉,保证安装平面的平整，在铝基体610的一侧还设置有一装配槽613，这一侧面是卡在工作容器321的内台阶上，另一侧设置有耐磨层620，抛光时，直接与加工工件接触，由于工作中在整个容器里防撞环承受的冲击力最大，因此最容易磨损，所以防撞环设计成可脱卸式，具有良好的耐磨性，并且容易更换，降低了设备的维护成本；

耐磨层620向防撞环600圆心一侧的侧面的上部设置为具有一定角度的内斜面620a，内斜面下部为垂直于陶瓷环700的垂直面并与陶瓷环700的内侧面平齐，遮挡住陶瓷环，耐磨层620的上端设置有第一台阶621，其中一水平面621a与铝基体610平齐，利用铝基体610上的螺栓固定通孔611安装在工作容器321的内台阶上，在耐磨层620的下端设置有第二台阶622，第二台阶622的面与面之间采用一斜面过渡，第二台阶622的前端面622a与陶瓷环700的内侧面平齐，遮挡住陶瓷环，第二台阶622的后端面622b与铝基体610的平齐。

在托盘320上设置有一陶瓷环700，陶瓷环700与托盘320上的耐磨层323平齐，由于防撞环的遮挡，从上往下看几乎见不到陶瓷环，避免了抛光时产品会撞击陶瓷环的现象，提高产品的抛光质量。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及同等物界定。