膜层制备装置及LPCVD设备的制作方法

文档序号:13788143阅读:581来源:国知局
膜层制备装置及LPCVD设备的制作方法

本实用新型涉及太阳能电池的制造辅助工具,尤其涉及一种膜层制备装置及LPCVD设备。



背景技术:

LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition):低压化学气相沉积,是在27~270Pa的反应压力下利用气态物质通过化学反应在基片表面形成固态薄膜的一种成膜技术。广泛用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉积。在薄膜太阳能电池行业中,透明导电薄膜(TCO)发挥着重要作用。其中,采用LPCVD制备的BZO、AZO、FZO透明导电薄膜在薄膜太阳能电池行业占有主导地位。

图1为现有技术中的膜层制备装置的结构主剖视图,如图1所示,通过LPCVD设备进行的气相沉积,其工艺室主要包括喷淋装置1′、玻璃基板2′和加热装置3′。将玻璃基板2′传输到位后落在加热装置3′的上表面,然后通过喷淋装置1′向玻璃基板2′的表面喷淋反应气体,当气体遇到高温的玻璃基板2′就会沉积到玻璃基板2′的表面形成膜层。

现有技术中的加热装置的上表面为一个水平面,当玻璃基板落到加热装置表面,由于玻璃基板有一定的厚度,玻璃基板边缘与加热装置上表面就形成了一个高度差。当气体垂直的喷淋到玻璃基板表面时,由于玻璃基板边缘的高度差,玻璃基板四周边缘的气体的流动特性就会发生改变,进而影响玻璃基板边缘沉积膜层的均匀性。



技术实现要素:

本实用新型的目的是提供一种膜层制备装置及LPCVD设备,以解决现有技术中的问题,改善玻璃基板边缘沉积膜层的均匀性。

本实用新型提供了一种膜层制备装置,包括喷淋装置和加热装置,玻璃基板设置在所述加热装置的上表面,其中,所述加热装置的上表面设置有用于对所述玻璃基板形成限位的凸起部,所述凸起部相对于所述加热装置的上表面向上凸起,且所述凸起部的上表面与所述玻璃基板的上表面平齐。

如上所述的膜层制备装置,其中,优选的是,所述凸起部与所述加热装置为分体组装成型。

如上所述的膜层制备装置,其中,优选的是,所述凸起部与所述加热装置为一体成型。

如上所述的膜层制备装置,其中,优选的是,所述凸起部为固定设置在所述加热装置上的压条。

如上所述的膜层制备装置,其中,优选的是,所述压条通过螺钉固定在所述加热装置的上表面。

如上所述的膜层制备装置,其中,优选的是,所述压条为不锈钢条。

如上所述的膜层制备装置,其中,优选的是,所述压条的形状为长方形。

本实用新型还提供了一种LPCVD设备,其中,包括本实用新型提供的膜层制备装置。

本实用新型提供的膜层制备装置及LPCVD设备,通过在加热装置的上表面设置凸起部,从而使玻璃基板的边缘位置没有了高度差,当气体垂直的喷淋向玻璃基板表面时,基板边缘与其他中心区域的气体流动特性是一致的,由此提高了玻璃基板边缘沉积膜层与中心区域的一致性,进而改善了整体膜层的质量与均匀性。

附图说明

图1为现有技术中的膜层制备装置的结构主剖视图;

图2为本实用新型实施例提供的膜层制备装置的结构主剖视图。

附图标记说明:

1′-喷淋装置 2′-玻璃基板 3′-加热装置

1-喷淋装置 2-玻璃基板 3-加热装置 4-凸起部

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本实用新型,而不能解释为对本实用新型的限制。

图2为本实用新型实施例提供的膜层制备装置的结构主剖视图,本实用新型实施例提供了一种膜层制备装置,包括喷淋装置1和加热装置3,玻璃基板2设置在加热装置3的上表面。

喷淋装置1和玻璃基板2与现有技术中的结构相同,在此不再赘述。与现有技术相比,本实用新型实施例提供的膜层制备装置的改进点主要在于,在加热装置3的上表面设置有用于对玻璃基板2形成限位的凸起部4,该凸起部4相对于加热装置3的上表面向上凸起,且该凸起部4的上表面与玻璃基板2的上表面平齐。

设置了凸起部4的加热装置3,形成四周高、中间低的形状,凸起部4的高度与玻璃基板2的厚度相当,从而当玻璃基板2被运送到位后,玻璃基板2落入到凸起部4围成的环形空间,环形平面向四周延伸的宽度与喷淋装置1四周外侧的出气孔位置相当。玻璃基板2就位后,玻璃基板2的上表面与凸起部4处于同一个水平面。由于玻璃基板2边缘没有了高度差,当气体垂直的喷淋向玻璃基板2表面时,玻璃基板2的边缘与其他中心区域的气体流动特性是一致的。由此提高了玻璃基板2边缘沉积膜层与中心区域的一致性,进而改善了整体膜层的质量与均匀性。

本领域技术人员可以理解的是,凸起部4可以是与加热装置3为一体成型的结构,也可以是分体安装在加热装置3上的压条,由此可以方便拆卸,以对压条表面产生的沉积膜层进行清洗和维护。可以将现有技术中的常用的压条进行厚度上的改进,使其与玻璃基板2的厚度相当,从而降低了物料成本。压条可通过螺钉固定在加热装置3的上表面,也可以通过其他机械连接的方式固定在加热装置3上。

根据玻璃基板2的厚度不同来设置压条的厚度尺寸,优选地,压条的厚度与玻璃基板的厚度相同,压条的形状优选为长方形,材质为不锈钢。

本实用新型实施例还提供了一种LPCVD设备,其中,包括本实用新型任意实施例提供的膜层制备装置。该装置位于LPCVD设备的工艺腔中,改善了膜层的质量与均匀性。

以上依据图式所示的实施例详细说明了本实用新型的构造、特征及作用效果,以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,但本实用新型不以图面所示限定实施范围,凡是依照本实用新型的构想所作的改变,或修改为等同变化的等效实施例,仍未超出说明书与图示所涵盖的精神时,均应在本实用新型的保护范围内。

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