一种研磨抛光机多角度传动机构的制作方法

本实用新型涉及研磨抛光机，具体涉及的是一种研磨抛光机多角度传动机构。

背景技术：

研磨抛光是工业和日常生活中一个非常常见，应用范围相当广的工序，尤其是在工业生产上，研磨抛光机常常用作机械式研磨抛光、抛光及打蜡。针对手机玻璃等抛光要求高的产品的研磨抛光机，市场上现有的主要部件是传动机构、机箱、调节盘气路液路系统以及程序控制部分等，其中传动机构是研磨抛光机的关键部件，一般只能研磨抛光一些二维平面的玻璃、陶瓷或者五金镜面等，无法对一些有弧度，产品形状比较复杂的产品进行研磨抛光，因此需要一种新的主轴机构代替。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于克服现有技术存在的以上问题，提供一种研磨抛光机多角度传动机构，制作方便，成本低廉。

为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种研磨抛光机多角度传动机构，包括主轴机构及相互垂直设置且均可独立运动的X轴、Y轴和Z轴，所述X轴上设置有旋转机构，所述主轴机构连接在所述旋转机构上。

优选的，所述旋转机构包括角度调整板、调节盘、柱塞和固定块，所述柱塞设置在所述调节盘上，所述固定块设置在所述角度调整板上且设于所述调节盘边缘。

优选的，所述固定块设置在所述调节盘的两侧边缘。

优选的，所述主轴机构包括主轴、轴外圈、轴承、轴承盖板，所述主轴设于所述轴外圈内并通过所述轴承进行支撑，所述轴外圈的两端均设有所述轴承盖板，位于所述轴外圈外壁中部，贯穿所述轴外圈外壁与所述轴外圈内壁开设有腐蚀性研磨抛光液入口，且所述主轴为中空结构，且正对所述腐蚀性研磨抛光液入口开设有开口，所述主轴一端还设有腐蚀性研磨抛光液出口，腐蚀性研磨抛光液通过所述腐蚀性研磨抛光液入口进入，并可从设置在所述主轴上的所述开口进入至所述主轴内部，并从所述腐蚀性研磨抛光液出口流出。

优选的，所述Z轴与所述角度调整板连接，且把所述主轴通过连接板A、旋转柱塞和固定块固定在所述角度调整板上。

优选的，所述Y轴通过所述连接板B与所述Z轴连接。

本实用新型的有益效果是：本实用新型设计新颖，结构简单，主轴机构采用X、Y、Z轴独立运动，可在调节范围内任意调节主轴的位置，本实用新型的主轴机构上加上特别设计的可在YZ平面旋转的机构，可在调节范围内任意改变主轴方向，让研磨抛光头可以研磨抛光一些特殊产品的任何位置，因此针对有弧度，产品形状比较复杂的产品进行研磨抛光。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型整体结构示意图；

图2为本实用新型原理图；

图3为本实用新型主轴机构剖切示意图；

图中标号说明：1、主轴机构；10、旋转机构；11、压环；12、轴外圈；13、密封圈；14、轴承；15、主轴；16、轴承盖板；17、侧入口；171、上入口；18、侧开口；181、上开口；19、研磨抛光液出口；2、X轴；3、柱塞；4、固定块；5、角度调整板；6、调节盘；7、Z轴；8、Y轴；91、连接板A；92、连接板B。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本实用新型作进一步解说。

参照图1所示，一种研磨抛光机多角度传动机构，包括主轴机构1、X轴、旋转机构10、2、柱塞3、固定块4、角度调整板5、连接板A6、Z轴7、Y轴8和连接板B92。

所述旋转机构10包括角度调整板5、调节盘6、柱塞3和固定块4，所述柱塞3设置在所述调节盘6上，所述固定块4设置在所述角度调整板5上且设于所述调节盘6边缘。

参照图1所示，所述Z轴7与所述角度调整板5连接后，把所述主轴1通过所述连接板A91和所述柱塞3固定在所述角度调整板5上，之后再安装所述连接板B92，安装所述Y台8。

参照图1所示，所述主轴机构可在一定范围内在X、Y、Z轴独立运动，通过调整所述柱塞3可以调整主轴头的角度，从而可实现在一定范围内主轴头任意方位的调整。本实用新型设计新颖，结构简单，主轴机构1采用X、Y、Z轴独立运动，可在调节范围内任意调节主轴的位置，本实用新型的主轴机构上加上特别设计的可在YZ平面旋转的机构，可在调节范围内任意改变主轴方向，让研磨抛光头可以研磨抛光一些特殊产品的任何位置，因此针对有弧度，产品形状比较复杂的产品进行研磨抛光。

参照图2所示，原理上主轴头可实现任意方向研磨抛光，从而让研磨抛光头可以研磨抛光一些特殊产品的任何位置，因此可针对有弧度，产品形状比较复杂的产品进行研磨抛光。

所述固定块4是的作用是对柱塞3调整固定后的角度进行进一步加固，以保证研磨抛光过程中主轴的转动稳固不晃动，保证加工精度与质量。

如图3所示，本实用新型实施例提供的研磨抛光机主轴机构1，包括：主轴15、轴外圈12、轴承14、轴承盖板16，所述主轴15设于所述轴外圈12内并通过所述轴承14进行支撑，所述轴外圈12的两端均设有所述轴承盖板16，贯穿所述轴外圈12外壁与所述轴外圈12内壁，以及所述主轴15的顶端均开设有腐蚀性研磨抛光液侧入口17、上入口171，且所述主轴15为中空结构，且正对所述腐蚀性研磨抛光液侧入口17、上171开设有侧开口18及上开口181，所述主轴15底端还设有腐蚀性研磨抛光液出口19，腐蚀性研磨抛光液通过所述腐蚀性研磨抛光液侧入口17、171进入，并可从设置在所述主轴15上的所述侧开口18及上开口181进入至所述主轴15内部，并从所述腐蚀性研磨抛光液出口19流出。所述轴外圈12的两端均设有所述轴承盖板16。由于在本实用新型研磨抛光机主轴机构1中，所述主轴15为中空结构，研磨抛光液在主轴旋转的离心力的作用下，从研磨抛光装置的中心向外流出，大大提高了研磨抛光效率。另外采用双重保护高分子自润滑密封圈双重保护，在主轴高速旋转下，提高了使用寿命，避免了经常更换密封圈而影响生产效率的情况发生。

优选地，X轴2、Y轴8和所述Z轴7均可采用程序控制电机和气缸控制位移移动，当然，也可以采用现有的其他机械结构来控制，达到X、Y、Z三轴独立运动的效果，提高了生产效率和研磨抛光质量。

参照图2所示，原理上主轴头可实现任意方向研磨抛光，从而让研磨抛光头可以研磨抛光一些特殊产品的任何位置，因此可针对有弧度，产品形状比较复杂的产品进行研磨抛光。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。