掩膜板、显示基板的制备方法、显示基板及显示装置与流程

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种掩膜板、显示基板的制备方法、显示基板及显示装置。

背景技术：

随着显示技术的提升，对显示产品的外观要求也越来越多样化，如圆角手机、圆形手表、手环等边缘不规则的显示产品，由于像素单元一般呈矩阵式排布，显示产品的部分边缘区域无法放置完整像素，导致显示产品边缘锯齿感明显，影响显示效果。

针对上述边缘显示锯齿感明显的问题，现有技术中提出了逐渐降低靠近边缘区域的n行(或n列)像素的灰阶，以减少显示区与其周边的不发光区域的亮度差异，从而缓解显示产品边缘显示锯齿感明显的问题。

而现有技术中，显示产品通常包括lcd显示产品和oled显示产品。其中，lcd产品是通过背光源控制亮度，可以通过黑矩阵控制发光面积来实现边缘灰阶的逐级控制；而oled产品是电流驱动型器件，其发光亮度由电流密度决定，若蒸镀面积减小，电流密度会更高，灰阶会更高，故无法通过调整像素单元的的蒸镀面积来实现灰阶的调节。而现有技术中也没有其它方法能够有效改善上述边缘显示锯齿感明显的问题。

技术实现要素：

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种能够改善显示基板边缘显示锯齿感，提高用户观看体验的掩膜板。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种掩膜板，包括掩膜区，用以对应显示基板的显示区；所述显示基板的显示区包括主显示区和环绕主显示区的边缘显示区；所述掩膜区包括：开口区和环绕所述开口区的遮挡区；

其中，所述开口区用以对应所述显示基板的主显示区，所述遮挡区用以对应所述显示基板的边缘显示区。

优选的，所述边缘显示区的外轮廓至少部分位置为弧形。

优选的，所述开口区的形状与所述掩膜区的外轮廓的形状相同。

进一步优选的，所述开口区的形状包括圆形或者椭圆形。

优选的，所述遮挡区的材质包括金属。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板的制备方法，所述显示基板的显示区包括主显示区和环绕主显示区的边缘显示区；

所述显示基板的制备方法包括：

利用掩膜板，通过构图工艺在基底的主显示区形成辅助发光结构；其中，所述掩膜板为上述任意一种掩膜板。

优选的，所述利用掩膜板，通过构图工艺在基底的主显示区形成辅助发光结构的步骤包括：

将掩膜板与基底进行对位，其中所述掩膜板的开口区与基底的主显示区对应；

通过蒸镀工艺在基底的主显示区形成辅助发光结构。

优选的，所述边缘显示区的外轮廓至少部分位置为弧形。

优选的，所述显示基板为oled基板；所述辅助发光结构为oled器件的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层中的至少一者。

优选的，所述辅助发光结构为oled器件的空穴传输层。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，所述显示基板的显示区分为主显示区和环绕主显示区的边缘显示区；

所述主显示区设置有辅助发光结构，所述边缘显示区无所述辅助发光结构。

优选的，所述边缘显示区的外轮廓至少部分位置为弧形。

进一步优选的，所述边缘显示区的外轮廓的形状包括圆形或者椭圆形。

进一步优选的，所述主显示区的外轮廓的形状与所述边缘显示区的外轮廓的形状相同。

优选的，所述显示基板的为oled显示基板；

所述辅助发光结构为oled器件的空穴传输层。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示装置，包括上述任意一种显示基板。

附图说明

图1为本发明的实施例的掩膜板的结构示意图；

图2为本发明的实施例的显示基板的制备方法的流程图；

图3为本发明的实施例的显示基板的结构示意图；

其中附图标记为：1、掩膜板；11、开口区；12、遮挡区；21、主显示区；22、边缘显示区；3、像素单元。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

在本发明实施例所提供的显示基板的显示区中包括主显示区和环绕主显示区的边缘显示区。本实施例特别适用于边缘显示区的外轮廓的至少部分位置为弧形的显示基板，但并不局限于这种情况；其中，显示区是指用于形成像素单元3(例如：红、绿、蓝亚像素)的区域；边缘显示区的外轮廓也即显示区的整体轮廓。

而显示基板的整体形状(轮廓形状)在本实施例中不做任何限制，可以是与显示区的轮廓相同的形状，也可以是与显示区的轮廓不同的形状。

对于本实施例中的显示区的轮廓形状具体可以是，具有圆弧倒角的矩形、扇形、椭圆形、圆形等。而在下述的具体实施例中为了方便理解，故以显示区域为圆形显示区域的显示基板为例进行说明，但并不构成对本发明实施例的限制。

其中，由于显示装置逐渐窄边框化，故优选的将显示基板的轮廓设计为与显示区的轮廓相同的形状，因此，在下述的具体实施例中均是以显示基板的轮廓与显示区域的轮廓相同为例进行说明的，也即显示基板与显示区的轮廓均为圆形，但并不构成对本发明实施例的限制。

实施例1：

如图1至图3所示，本实施例提供一种掩膜板1，可用于显示基板的制备。其中，显示基板的形状可为圆形，且显示区也为圆形。本实施例中的掩模板包括掩膜区，掩膜区在显示基板的制备过程中与显示基板的显示区对应，且形状、大小与显示区的形状、大小相同。具体的，掩膜区包括：开口区11和环绕开口区11的遮挡区12；其中，开口区11用以对应显示基板的主显示区21，遮挡区12用以对应显示基板的边缘显示区22。

本实施例提供的掩膜板1可用于制备显示基板的提高发光效率的层结构(辅助发光结构)，例如oled基板的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层等结构。

利用本实施例提供的掩膜板1制备显示基板时，可利用开口区11只在显示基板的主显示区21中形成辅助发光结构，而利用遮挡区12使显示基板的边缘显示区22不会形成该辅助发光结构。从而最终使显示基板的边缘显示区22的发光效率低于主显示区21的发光效率，也即当显示基板进行显示时，显示基板的主显示区21的亮度大于边缘显示区22的亮度，以减小边缘显示区22与非显示区的亮度差异，进而实现oled显示基板由显示区到非显示区的亮度过渡，改善显示基板中由于像素单元3无法排布完全而导致的边缘锯齿显示现象。

本实施例中，掩膜板1的开口区11的形状可通过遮挡区12的内轮廓限制出来。由于现有技术中的掩膜板1通常不包括本实施例中对应边缘显示区22的遮挡区12，而是开口区11直接对应显示基板整体显示区，故本实施例中的掩膜板1可通过在现有技术中掩膜板1的基础上，增加遮挡区12来实现，从而无需制备新的掩膜板1，进而节约显示基板的制备成本。优选的，遮挡区12的材质可包括金属。当然，可以理解的是，掩膜板1也可是直接重新制备而成的，此时，遮挡区12可和掩膜板1的主体结构优选采用同种材料形成的一体结构。

具体的，开口区11的形状可以根据实际需求进行设计，例如方形，圆形等各种形状。优选的，开口区11的形状与掩膜区的外轮廓的形状相同，也即，掩膜板1的开口区11的形状与显示基板的显示区的形状相同。如图3所示，由于开口区11的形状为圆形的，而显示基板的像素单元3通常为阵列排布的方形结构，故显示区中有一部分像素单元3的部分区域对应开口区11，部分区域对应遮挡区12。从而，利用该掩膜板1制备显示基板时，会在上述这些像素单元3中对应开口区11处形成部分辅助发光结构(也即辅助发光结构不能覆盖完整的像素单元3)。

也就是说，在利用本实施例提供的掩膜板1所形成的显示基板中，完全位于主显示区21的像素单元3中形成有完整的辅助发光结构，位于主显示区21与边缘显示区22的交界处的像素单元3中形成有部分辅助发光结构，完全位于边缘显示区22的像素单元3中没有辅助发光结构。从而，在显示基板进行显示时，完全位于主显示区21的像素单元3的亮度会大于完全位于边缘显示区22的像素单元3的亮度，而主显示区21与边缘显示区22的交界线处的像素单元3的小于完全位于主显示区21的像素单元3的亮度，且大于完全位于边缘显示区22的像素单元3的亮度，进而，可在改善显示基板的边缘锯齿显示现象的同时，使显示基板的亮度差异过渡更平缓，用户的视觉体验效果更好。

实施例2：

如图2所示，本实施例提供一种显示基板的制备方法，其中，以显示基板为oled基板，其形状为圆形，且其显示区也为圆形为例进行说明。显示基板的显示区包括主显示区21和环绕主显示区21的边缘显示区22。本实施例提供的显示基板的制备方法中，利用实施例1提供的掩膜板1来制备oled基板的辅助发光器件，例如oled器件的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层中的至少一者。为了对本实施例进行清楚地说明，下述内容中以利用实施例1提供的掩膜板1来制备空穴传输层为例进行说明，但不构成对本发明实施例的限制。可以理解的是，实施例1提供的掩膜板1也可用于上述的其它辅助发光器件。

该显示基板的制备方法包括：

s1、在基底上形成oled器件的阳极。

具体的，本步骤中可通过溅射等工艺形成阳极。具体的，阳极大的厚度可为10nm-150nm，其材料可为al、mg、ag、ito、izo等。

s2、在基底上形成空穴注入层。

具体的，步骤s2中可采用真空蒸镀工艺制备形成空穴注入层。空穴子注入层的材料可为有磷光掺杂剂(p)掺杂的有机材料或聚合物。

s3、利用掩膜板1，通过构图工艺在基底的主显示区21形成辅助发光结构；其中，掩膜板1实施例1中提供的掩膜板1。

步骤s3可包括：

s31、将掩膜板1与基底进行对位，使掩膜板1位于基底待成膜一侧，且掩膜板1的开口区11与基底的主显示区21对应；s32、通过蒸镀工艺在基底的主显示区21形成空穴传输层。具体可将放置有掩膜板1的基底置于真空蒸镀腔室中进行蒸镀，从而在基底上对应开口区11的位置(主显示区21)形成空穴传输层。

s4、在基底上依次形成发光层、电子传输层、电子注入层等oled器件的有机功能层结构。

具体的，步骤s3也可通过喷墨打印、真空蒸镀等工艺形成上述的有机功能层结构。其中，发光层可以由具有空穴传输能力不低于电子传输能力的发光材料组成无掺杂的荧光发光的有机材料制成，或采用由荧光掺杂剂与基质材料组成的掺杂荧光材料的有机材料制成，或采用由磷光掺杂剂与基质材料组成的掺杂磷光材料的有机材料制成。电子传输层的材料为电子迁移率较高的材料，优选为2-(4-联苯基)-5-苯基恶二唑(pbd)、2,5-二(1-萘基)-1,3,5-恶二唑(bnd)、2,4,6-三苯氧基-1,3,5-三嗪(trz)中的任意一种。电子注入层的材料为氟化锂、氟化钠、氟化钾、氟化铷、氟化铯、氧化锂、偏硼酸锂中的任意一种。

s5、在形成有电子注入层的基底上形成阴极。

具体的，本步骤中可通过真空蒸镀工艺形成阴极。其中，阴极通常采用低功函数金属材料，比如：锂、镁、钙、锶、铝、铟等或上述金属与铜、金、银的合金制成；或者采用一层很薄的缓冲绝缘层(如氟化锂lif、碳酸铯csco3等)和上述金属或合金制成。

本实施例提供的显示基板的制备方法中，利用实施例1提供的掩膜板1在基底上制备辅助发光结构，使显示基板的主显示区21中形成空穴传输层，而边缘显示区22不会形成空穴传输层。从而使显示基板工作时，其边缘显示区22的发光效率低于主显示区21的发光效率，也即当显示基板进行显示时，显示基板的主显示区21的亮度大于边缘显示区22的亮度，减小边缘显示区22与非显示区的亮度差异，进而实现oled显示基板由显示区到非显示区的亮度过渡，改善由于像素单元3无法排布完全而导致的边缘锯齿显示现象。

实施例3：

如图3所示，本实施例提供一种显示基板，可依据实施例2中提供的制备方法制备形成。该显示基板的显示区包括主显示区21和环绕主显示区21的边缘显示区22；其中，主显示区21中设置有辅助发光结构，而边缘显示区22中不设置有该辅助发光结构。

本实施例提供的显示基板特别适用于oled基板，具体的，辅助发光结构可为oled器件的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层中的至少一者。优选的，辅助发光结构为空穴传输层。

以辅助发光结构为空穴传输层为例，显示基板的主显示区21中形成有空穴传输层，而边缘显示区22没有空穴传输层，导致边缘显示区22中oled器件的发光效率低于主显示区21中oled器件的发光效率。从而，当显示基板进行显示时，显示基板的主显示区21的亮度大于边缘显示区22的亮度，这样可以减小边缘显示区22与非显示区的亮度差异，进而实现显示基板由显示区到非显示区的亮度过渡，改善oled基板的由于像素单元3无法排布完全而导致的边缘锯齿显示现象。

优选的，主显示区21的形状与显示基板的显示区的形状相同。即如图3所示，主显示区21的形状也为圆形的，而像素单元3通常为阵列排布的方形结构，故显示基板中有一部分像素单元3一半位于主显示区21，一半位于边缘显示区22，这些像素单元3中只有位于主显示区21的部分形成有空穴传输层。

也就是说，本实施例的显示基板中，完全位于主显示区21的像素单元3中形成有完整的空穴传输层，位于主显示区21与边缘显示区22的交界处的像素单元3中形成有部分空穴传输层，完全位于边缘显示区22的像素单元3中没有空穴传输层，从而在显示时，完全位于主显示区21的像素单元3的亮度会大于完全位于边缘显示区22的像素单元3的亮度，而主显示区21与边缘显示区22的交界线处的像素单元3的小于完全位于主显示区21的像素单元3的亮度，且大于完全位于边缘显示区22的像素单元3的亮度，从而在改善边缘锯齿显示现象的同时，使显示基板的亮度差异过渡更平缓，用户的视觉体验效果更好。

实施例4：

本实施例提供一种显示装置，包括实施例3中提供的显示基板。

由于本实施例的显示装置包括实施例3中提供的显示基板，故相对现有技术中的oled显示装置，本实施例的显示装置的边缘显示区与非显示区的亮度差异较小，整体边缘锯齿显示现象更不明显，用户的视觉体验效果更好。

具体的，本实施例中的显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、广告屏等任何具有显示功能的产品或部件。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。