1.一种掩膜框架，其特征在于，具有主体结构，所述主体结构的第一侧面设置有摩擦结构，所述摩擦结构用于增加所述掩膜框架与用于承载所述掩膜框架的掩膜基台之间的摩擦力。
2.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述主体结构的第一侧面上具有粗糙结构，所述粗糙结构用作所述摩擦结构。
3.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述粗糙结构的摩擦系数为0.6。
4.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述摩擦结构为凸起结构。
5.根据权利要求4所述的掩膜框架，其特征在于，所述摩擦结构与所述主体结构为一体成型结构。
6.一种掩膜设备，其特征在于，包括权利要求1-5中任一所述的掩膜框架，以及与所述掩膜框架连接的掩膜板。
7.根据权利要求6所述的掩膜设备，其特征在于，所述掩膜设备还包括：
掩膜基台，用于承载所述掩膜框架；
所述掩膜基台上依次设置有所述掩膜框架、蒸镀基板，所述掩膜框架的第一侧面靠近所述掩膜基台；
所述掩膜基台背离所述掩膜框架的一侧还设置有蒸镀源。
8.根据权利要求7所述的掩膜设备，其特征在于，所述蒸镀源为热隔绝装置。
9.根据权利要求7所述的掩膜设备，其特征在于，所述蒸镀基板背离所述掩膜基台的一侧依次设置有冷板、高斯板。
10.根据权利要求6所述的掩膜设备，其特征在于，所述掩膜板包括精细金属掩膜板。