掩膜框架、掩膜设备的制作方法

技术总结
本实用新型提供一种掩膜框架、掩膜设备，属于显示技术领域。本实用新型的掩膜框架具有主体结构，所述主体结构的第一侧面设置有摩擦结构，所述摩擦结构用于增加所述掩膜框架与用于承载所述掩膜框架的掩膜基台之间的摩擦力。

技术研发人员：吴建鹏;嵇凤丽;叶建波
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
技术研发日：2018.05.31
技术公布日：2018.12.07