一种双面研磨抛光设备的制作方法

本实用新型涉及材料加工技术领域，尤其涉及一种双面研磨抛光设备。

背景技术：

在玻璃及半导体材料的深加工领域，根据工艺要求需要对材料的表面进行抛光。具体地，抛光分为双面抛光和单面抛光，针对这两种抛光就涉及到双面研磨抛光设备和单面研磨抛光设备，一般情况下双面研磨抛光设备和单面研磨抛光设备是不可混用的。

现有技术中通过用于双面研磨抛光设备上的单面抛光系统，能够对设置在双面研磨抛光设备上的待抛光工件进行单面抛光。具体是在游星轮上设置通孔，在通孔的一端加入适量填充物，然后将待抛光工件置于通孔中的填充物上，用填充物保护工件的原始表面，在抛光盘上敷设缓冲材料，通过缓冲材料将游星轮的通孔盖合住，确保填充物始终位于通孔中。

现有技术中在游星轮的通孔中填充填充物时，对填充物的填充量、密实度、均匀度等特性较难把握，容易造成填充物在抛光过程中变形、扭曲，无法保证抛光效果。再者，缓冲材料形成的平面需要在抛光盘上保证紧密和平坦，为了保证抛光效果，在抛光盘上敷设填充物时需要对上抛光盘和下抛光盘进行修平，费时费力。而且对于面积或者厚度比较大的产品(如：手机盖板玻璃或保护贴等结构，其厚度仅为0.7mm或0.33mm)，无法填充填充物。即使填充成功，由于抛光面间的摩擦力远远大于填充物与玻璃面的粘合力，导致填充物容易脱落。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提出一种双面研磨抛光设备，能够在双面研磨抛光设备上实现待抛光工件的单面抛光，无需通过填充物以及缓冲材料的配合，操作简单。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种双面研磨抛光设备，包括转动设置的上抛光盘和下抛光盘，以及设置在所述上抛光盘和所述下抛光盘之间的游星轮组件，所述游星轮组件一端设置容纳槽，待抛光工件置于所述容纳槽内且所述待抛光工件的端部伸出所述容纳槽。

该双面研磨抛光设备一端设置容纳槽，将待抛光工件置于容纳槽中，从而实现待抛光工件在双面研磨抛光设备上的单面抛光，无需通过填充物以及缓冲材料的配合，操作简单。

作为上述双面研磨抛光设备的一种优选方案，所述游星轮组件包括一个游星轮，所述容纳槽为设置在所述游星轮的任一端上的盲孔。

作为上述双面研磨抛光设备的一种优选方案，所述游星轮组件包括两个叠置的游星轮，两个所述游星轮中的其中任一个上设置通孔，所述通孔和另一个游星轮形成所述容纳槽。

作为上述双面研磨抛光设备的一种优选方案，两个所述游星轮的外径相等。

作为上述双面研磨抛光设备的一种优选方案，所述游星轮组件上设置多个所述容纳槽。通过在游星轮组件上设置多个容纳槽可以在一个游星轮组件上防止多个待抛光件，提高抛光效率。

作为上述双面研磨抛光设备的一种优选方案，所述容纳槽的截面形状为圆形、矩形或椭圆形。

作为上述双面研磨抛光设备的一种优选方案，所述待抛光工件置于所述容纳槽的一端敷设保护膜。通过保护膜用于保护待抛光件。

作为上述双面研磨抛光设备的一种优选方案，所述保护膜为静电保护膜或间隔纸。

作为上述用于双面研磨抛光设备的一种优选方案，所述游星轮组件设置有所述容纳槽的一端与所述上抛光盘接触，另一端与所述下抛光盘接触。

作为上述用于双面研磨抛光设备的一种优选方案，所述游星轮组件设置有所述容纳槽的一端与所述下抛光盘，另一端与所述上抛光盘接触。

本实用新型的有益效果：

本实用新型提出的双面研磨抛光设备，通过在游星轮组件一端设置容纳槽，将待抛光工件置于容纳槽中，从而实现待抛光工件在双面研磨抛光设备上的单面抛光，无需通过填充物以及缓冲材料的配合，结构简单，容易实现。

附图说明

图1是本实用新型实施例一提供的双面研磨抛光设备的剖视图；

图2是本实用新型实施例一提供的双面研磨抛光设备去掉上抛光盘后的俯视图；

图3是本实用新型实施例二提供的双面研磨抛光设备的剖视图。

图中：

10、游星轮组件；11、容纳槽；12、游星轮；

20、上抛光盘；30、下抛光盘；40、太阳轮齿圈；50、齿轮圈；

100、待抛光工件；200、保护膜。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

实施例一：

本实施方式提供一种双面研磨抛光设备，图1是本实用新型实施例一提供的双面研磨抛光设备的剖视图，如图1所示，双面研磨抛光设备包括上抛光盘20和下抛光盘30，以及设置在上抛光盘20和下抛光盘30之间的的游星轮组件10，游星轮组件10一端设置容纳槽11，待抛光工件100置于容纳槽11内且待抛光工件100的端部伸出容纳槽11，从而实现待抛光工件100在双面研磨抛光设备上的单面抛光。容纳槽11的截面形状为圆形、矩形或椭圆形。本实施例中，并不限定容纳槽11的形状，只要待抛光工件100的形状与上述容纳槽11的形状相适配即可。本实施例的待抛光工件100为玻璃或半导体材料等。

具体地，游星轮组件10包括一个游星轮12，游星轮12的厚度根据需求设置。容纳槽11为设置在游星轮12的任一端上的盲孔。通过将待抛光工件100置于盲孔中，待抛光工件100的端部会伸出该盲孔，能够便于对待抛光工件100的抛光。待抛光工件100置于容纳槽11的一端敷设保护膜200。通过保护膜200用于保护待抛光工件100。保护膜200为静电保护膜或间隔纸。优选地，本实施例中，保护膜200位静电保护膜，能够防止待抛光工件100在抛光过程中由于摩擦产生静电，防止静电对待抛光工件100造成损伤。

图2是本实用新型实施例一提供的双面研磨抛光设备去掉上抛光盘后的俯视图，如图2所示，游星轮组件10上设置多个容纳槽11。通过在游星轮组件10上设置多个容纳槽11，可以在一个游星轮组件10上放置多个待抛光工件100，提高抛光效率。游星轮12的外周设置齿圈结构。如图2所示，下抛光盘30的中心位置设置太阳轮齿圈40，下抛光盘30的外周设置有齿轮圈50，上抛光盘20和下抛光盘30之间放置多个游星轮组件10，多个游星轮组件10设置在太阳轮齿圈40内，游星轮组件10与太阳轮齿圈40和齿轮圈50相啮合，通过上抛光盘20和下抛光盘30的转动，实现待抛光工件100的抛光。

游星轮组件10设置有容纳槽11的一端与上抛光盘20接触，另一端与下抛光盘30接触。游星轮组件10设置有容纳槽11的一端还可以与下抛光盘30接触，另一端与上抛光盘20接触。

实施例二：

本实施例与实施例一的区别在于，双面研磨抛光设备的游星轮组件的结构不同。具体地，图3是本实用新型实施例二提供的双面研磨抛光设备的剖视图，如图3所示。游星轮组件10包括两个叠置的游星轮12，两个游星轮12中的其中任一个上设置通孔，该通孔和另一个游星轮12形成容纳槽11，在使用过程中，两个游星轮12可以连接，也可以通过直接叠置放置即可。进一步地，两个游星轮12的外径相等。游星轮12的外周设置齿圈结构。本实施例中，两个游星轮12通过叠置放置，通过游星轮12外周的齿圈结构与太阳轮齿圈40和齿轮圈50相啮合，实现两个游星轮12的同步移动。即当游星轮组件10包括两个叠置的游星轮12时，可以通过游星轮12外周的齿圈结构与太阳轮齿圈40和齿轮圈50相啮合，实现两个游星轮12的同步移动。

注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。