一种研磨液供给系统的制作方法

本实用新型涉及抛光加工技术领域，具体涉及一种研磨液供给系统。

背景技术：

硅片抛光工艺是通过化学与机械的相互作用来达到抛光效果，抛光设备必须需要精确的控制研磨液供给。一般的控制方法是通过电磁阀和气动阀组合来完成自动供给行为。设备长期运转，气动阀也会频繁开关，会使阀门密封性不良，导致研磨液泄漏。研磨液泄漏不仅会导致抛光液的流量发生变化，并且泄漏的研磨液会流入气动阀气体供给管路，进而损坏电磁阀和污染气体供给的管路。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型提供一种研磨液供给系统，以解决研磨液泄漏导致的气体供给管路污染以及电磁阀损坏的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供一种研磨液供给系统，其特征在于，包括：

主管路，所述主管路的第一端连接研磨液供给端，所述主管路的第二端连接研磨液输出端；

设置于所述主管路上用于控制所述主管路通断的气动阀；

气体供给管路，所述气体供给管路的第一端与供气端连接，所述气体供给管路的第二端与所述气动阀的进气端连接，用于向所述气动阀提供压缩空气；

设置于所述气体供给管路上用于控制所述气体供给管路通断的电磁阀；

液体泄漏检测装置，所述液体泄漏检测装置设置于所述气动阀和所述电磁阀之间且与所述气体供给管路连接，用于检测所述气动阀是否发生泄漏。

可选的，所述液体泄漏检测装置包括：

第一三通阀，所述第一三通阀设置于所述气动阀与所述电磁阀之间，所述第一三通阀的第一端与所述气动阀的进气端连接，所述第一三通阀的第二端与所述电磁阀的一端连接；

液体泄漏检测单元，所述液体泄漏检测单元与所述第一三通阀的第三端连接。

可选的，所述液体泄漏检测单元为液体泄漏传感器。

可选的，所述第一三通阀为手动三通阀或电动三通阀。

可选的，所述研磨液供给系统还包括：

第二三通阀，所述第二三通阀设置于所述研磨液供给端和所述气动阀之间，所述第二三通阀的第一端与所述研磨液供给端连接，所述第二三通阀的第二端与所述气动阀的第一端连接；

第三三通阀，所述第三三通阀设置于所述气动阀和所述研磨液输出端之间，所述第三三通阀的第一端与所述气动阀的第二端连接，所述第三三通阀的第二端与所述研磨液输出端连接；

备用管路，所述备用管路的一端与所述第二三通阀的第三端连接，所述备用管路的另一端与所述第三三通阀的第三端连接。

可选的，所述第二三通阀和所述第三三通阀为手动三通阀。

可选的，所述第二三通阀和所述第三三通阀为电动三通阀。

可选的，所述研磨液供给系统还包括：

控制器，所述控制器的信号输入端与所述液体泄漏检测单元的信号输出端连接，所述控制器的控制信号输出端分别与所述第二三通阀和所述第三三通阀的控制端连接。

可选的，所述备用管路上设置有开关阀。

本实用新型上述技术方案的有益效果如下：

根据本实用新型实施例的研磨液供给系统，可以自动检测气动阀是否发生泄漏，避免研磨液损坏电磁阀、污染气体供给管路。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的研磨液供给系统的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

硅片抛光工艺是通过化学与机械的相互作用来达到抛光效果，抛光设备必须需要精确的控制研磨液供给。现有的研磨液供给管路中，通常采用电磁阀和气动阀的组合来完成研磨液的自动供给。但是，抛光设备在工作过程中，研磨液的需求是间隔的，因此，气动阀需要频繁开关以控制供给管路的导通和断开，但如此频繁的开关动作会使阀门密封性不良，导致研磨液泄漏。研磨液泄漏不仅会导致抛光液的流量发生变化，并且泄漏的研磨液会流入气动阀气体供给管路，进而损坏电磁阀和污染气体供给的管路。

由此，本实用新型实施例提供一种研磨液供给系统，以解决气动阀磨损导致研磨液泄漏、进而损坏电磁阀和污染气体供给的管路的问题。

如图1所示，本实用新型实施例中的研磨液供给系统可以包括：用于提供研磨液输送通道的主管路1，所述主管路1的第一端连接研磨液供给端2，所述主管路1的第二端连接研磨液输出端3，研磨液供给端2提供的研磨液经主管路1输送到研磨液输出端3，喷射到硅片抛光部位；进一步的，在主管路1上还设置有气动阀4，气动阀4用于控制主管路1的通断，以控制是否向硅片抛光部位输送研磨液，并且，所述气动阀4还连接了气体供给管路5，具体的，气体供给管路5的第一端与供气端6连接，供给端6用于提供压缩空气，而气体供给管路5的第二端与气动阀4的进气端连接，供给端6提供的压缩空气经气体供给管路5输送到气动阀4的进气端，由于主管路1中的研磨液一般具有一定的压力，流速较快，采用气动阀4进行开关控制可以确保阀门的封闭性；另外，在气体供给管路5上还设置有电磁阀7，电磁阀7用于控制气体供给管路5的通断，以控制气动阀4的开通或关闭。

在本实用新型中，由于气动阀4的频繁开关动作，其密封性将下降，由此将引起研磨液泄漏，部分泄漏的研磨液还会流入到气体供给管路5，继而流入电磁阀7中，导致气体供给管路5受污染、甚至导致电磁阀7受损，因此，在气动阀4和电磁阀7之间的气体供给管路5上，设置有用于检测气动阀4是否发生泄漏的液体泄漏检测装置8，当气动阀4发生泄漏时，流入气体供给管路5中的研磨液将被液体泄漏检测装置8检测到，从而操作人员可以在研磨液流入到电磁阀7之前及时更换破损的气动阀4，避免电磁阀7损坏。

在本实用新型的一些具体实施例中，液体泄漏检测装置8可以包括第一三通阀81和液体泄漏检测单元82，其中第一三通阀81设置于气动阀4和电磁阀7之间，具体的，第一三通阀81的第一端与气动阀4的进气端连接，第一三通阀81的第二端与电磁阀7的一端连接，并且，液体泄漏检测单元82与第一三通阀81的第三端连接；在正常情况下，第一三通阀81的三个端口均打开，并且第一三通阀81与液体泄漏检测单元82连接的一端采取密封措施，从而供气端6提供的压缩空气可以正常的经由气体供给管路5输送至气动阀4，当气动阀4出现泄漏时，部分泄漏的研磨液流入到气体供给管路5后，首先经过第一三通阀81，从而被与第一三通阀81的第三端连接的液体泄漏检测单元82所检测到，从而操作人员可以及时发现气动阀4发生泄漏并及时更换。

在本实用新型的一些实施例中，所述第一三通阀81为手动三通阀或电动三通阀，而液体泄漏检测单元82具体可以是液体泄漏传感器，所述液体泄漏传感器可以灵敏检测其所检测位置是否发生液体泄漏，当然，液体泄漏检测单元82也可以是液体泄漏报警器等，在检测到研磨液泄漏时发出警报，以提醒工作人员及时更换泄漏的气动阀4。

在本实用新型的另一些实施例中，所述研磨液供给系统还包括：第二三通阀9、第三三通阀10以及备用管路11，其中，第二三通阀9设置于研磨液供给端2和气动阀4之间，具体的，第二三通阀9的第一端与研磨液供给端2连接，第二三通阀9的第二端与气动阀4的第一端连接；而第三三通阀10设置于气动阀4和研磨液输出端3之间，具体的，第三三通阀10的第一端与气动阀4的第二端连接，第三三通阀10的第二端与研磨液输出端3连接；备用管路11的一端则与第二三通阀9的第三端连接，备用管路11的另一端与第三三通阀10的第三端连接，由此，研磨液即可以从主管路1依次经第二三通阀9、气动阀4以及第三三通阀10后流到研磨液输出端3，可以从主管路1依次经第二三通阀9、备用管路11以及第三三通阀10后流到研磨液输出端3，从而，在正常情况下，第二三通阀9和第三三通阀10的第三端均关闭，备用管路11不导通，研磨液从主管路1经气动阀4流过，并且气动阀4控制主管路1的通断，而当检测到气动阀4发生泄漏时，第二三通阀9的第二端和第三三通阀10的第一端均关闭，以启用备用管路11，研磨液通过备用管路11进行输送，从而不影响后续的正常生产加工，并且避免了因泄漏导致的研磨液供给出现偏差，可以保证当前的硅片抛光过程不受影响，从而确保了当前硅片的抛光的质量，避免气动阀4的进一步泄漏，也方便操作人员更换损坏的气动阀4。

在本实用新型的一些具体实施例中，当不需要提供研磨液时，通过关闭第二三通阀9的第一端和/或第三三通阀10的第二端即可实现切断研磨液的供应；当然，也可以在备用管路11上额外设置一个开关阀，以控制备用管路11的通断。

在本实用新型实施例中，第二三通阀9和第三三通阀10可以是手动三通阀，也可以是电动三通阀，当第二三通阀9和第三三通阀10是手动三通阀时，在液体泄漏检测装置8检测到气动阀4发生研磨液泄漏时，工作人员可以手动关闭第二三通阀9的第二端以及第三三通阀10的第一端，并打开第二三通阀9的第三端和第三三通阀10的第三端，手动启用备用管路11。

在本实用新型另一些实施例中，当第二三通阀9和第三三通阀10是电动三通阀时，所述研磨液供给系统还可以包括控制器12，控制器12的信号输入端与液体泄漏检测单元82的信号输出端连接，控制器12的控制信号输出端分别与第二三通阀9和第三三通阀10的控制端连接，由此，当液体泄漏检测单元82检测到气动阀4发生泄漏时，通过信号输出端发出电信号给控制器12的信号输入端，控制器12在接收到该电信号后，发出控制信号控制第二三通阀9和第三三通阀10的对应阀门打开或关闭，从而自动切断经气动阀4的通道、启用备用管路11，这样可以提高研磨液供给系统的自动化程度，避免了工作人员无法及时获知气动阀4泄漏信息而导致泄漏一直持续的情况的发生。其中，所述控制器12可以是单片机。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。