支撑基座323上的基片的法线方向成一定的倾斜角α，通过调节支撑杆322的长度即可调节倾斜蒸发时的沉积角的大小(如图5所示，图5中示意性地示出了两个不同的沉积角α I和α 2)。
[0061]本发明中的倾斜角沉积装置中的旋转架31上可连接多个基片载具32，可以在一次抽真空过程中同时对多个基片蒸发沉积，且每个基片可以调节为相同或不同的倾斜角度。因此，本发明中的倾斜角沉积蒸发系统具有多片蒸发、基片旋转和每个基片的倾斜角度可调等优点，这不仅有利于高温蒸发和初期实验工艺条件的摸索，而且还有利于产能提升和生产成本的降低，更适用于倾斜角蒸发纳米结构薄膜的批量生产。
[0062]最后应说明的是:显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之中。
【主权项】
1.一种沉积蒸发系统，用于对基片进行倾斜蒸发沉积，其特征在于，包括动力机构、沉积蒸发传动装置和真空蒸发器， 所述动力机构与所述沉积蒸发传动装置相连接，用于驱动所述沉积蒸发传动装置转动； 所述真空蒸发器位于所述沉积蒸发传动装置的下方；所述真空蒸发器的蒸发源面向所述沉积蒸发传动装置放置，所述蒸发源的纵向中心线与基片所在平面平行。2.根据权利要求1所述的沉积蒸发系统，其特征在于， 所述沉积蒸发传动装置包括旋转架、基片载具和轨道， 所述旋转架的一端与所述动力机构相连接，所述基片载具连接在所述旋转架的另外一端，所述基片载具可随所述旋转架的转动实现沿所述轨道的公转以及绕自身纵向轴线的自转，所述基片装载于基片载具上。3.根据权利要求1所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述动力机构包括电机和传动部，所述沉积蒸发传动装置通过所述传动部与所述电机相连接。4.根据权利要求3所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述传动部包括多组齿轮副，所述齿轮副包括由主动锥齿轮、从动锥齿轮构成的齿轮副、由主动小齿轮和从动大齿轮构成的齿轮副；所述主动锥齿轮和电机的输出轴相连接，所述从动锥齿轮和主动锥齿轮相啮合，所述从动锥齿轮和所述小齿轮同轴，所述大齿轮与所述小齿轮啮合，所述旋转架的一端与所述大齿轮相连接。5.根据权利要求2所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述旋转架包括动力连接部和支臂，所述动力连接部的上端与所述动力机构相连接，所述支臂的一端连接在所述动力连接部的径向外缘上。6.根据权利要求5所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述支臂设置有多个，为杆状，其一端连接在所述动力连接部的外缘上，另外一端位于靠近所述轨道的位置，在所述支臂靠近所述轨道的一端设置有基片载具安装部。7.根据权利要求6所述的沉积蒸发系统，其特征在于，在所述基片载具安装部上设置有通孔，用于安装所述基片载具。8.根据权利要求2或6所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述基片载具包括滚轮、支撑杆和支撑基座，所述滚轮和支撑基座分别连接在所述支撑杆的两端，所述支撑基座用于放置基片。9.根据权利要求8所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述支撑基座位于所述轨道的径向内侧，所有基片载具的支撑杆在同一个平面上，该平面与所述轨道所在的平面共面或平行。10.根据权利要求9所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述支撑杆与所述支撑基座上放置的基片所在平面垂直。11.根据权利要求8所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述滚轮、支撑基座和支撑杆之间均为固定连接。12.根据权利要求8所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述滚轮和/或所述支撑基座设置成包括大小不同的可替换的一系列。13.根据权利要求8所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述支撑杆的长度可以调节。14.根据权利要求8所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述支撑基座包括圆环和支架，所述支架包括多个分支，多个分支的一端相交，其交点位于所述圆环的纵向中心线上，并与所述圆环的圆心相距一定距离，该相交的端部与所述支撑杆的端部进行连接，多个分支的另外一端固定到所述圆环上。15.根据权利要求14所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述支架的多个分支在圆环的周向上呈不均匀分布，在其中的两个分支之间形成有较大的开口。16.根据权利要求14所述的沉积蒸发系统，其特征在于，在所述圆环上设置有固定部，该固定部在所述圆环的内缘沿所述圆环的径向向内延伸形成。17.根据权利要求3所述的沉积蒸发系统，其特征在于，还包括真空腔外壳，所述真空腔外壳的内腔构成真空腔，所述沉积蒸发传动装置和真空蒸发器位于所述真空腔内，所述电机位于所述真空腔的外部。18.根据权利要求2所述的沉积蒸发系统，其特征在于，所述基片载具为多个。19.一种沉积蒸发系统的传动装置，其特征在于，所述传动装置包括旋转架、基片载具和轨道，所述基片载具连接在所述旋转架的一端，所述基片载具可随所述旋转架的转动实现沿所述轨道的公转以及绕自身纵向轴线的自转，基片位于所述基片载具上。20.根据权利要求19所述的传动装置，其特征在于，所述旋转架包括动力连接部和支臂，所述动力连接部的上端与动力机构相连接，所述支臂的一端连接在所述动力连接部的径向外缘上。21.根据权利要求20所述的传动装置，其特征在于，所述支臂设置有多个，为杆状，其一端连接在所述动力连接部的外缘上，另外一端位于靠近所述轨道的位置，在所述支臂靠近所述轨道的一端设置有基片载具安装部。22.根据权利要求21所述的传动装置，其特征在于，在所述基片载具安装部上设置有通孔，用于安装所述基片载具。23.根据权利要求19或22所述的传动装置，其特征在于，所述基片载具包括滚轮、支撑杆和支撑基座，所述滚轮和支撑基座分别连接在所述支撑杆的两端，所述支撑基座用于放置基片。24.根据权利要求23所述的传动装置，其特征在于，所述支撑基座位于所述轨道的径向内侧，所有基片载具的支撑杆在同一个平面上，该平面与所述轨道所在的平面共面或平行。25.根据权利要求24所述的传动装置，其特征在于，所述支撑杆与所述支撑基座上放置的基片所在平面垂直。26.根据权利要求23所述的传动装置，其特征在于，所述滚轮、支撑基座和支撑杆之间均为固定连接。27.根据权利要求23所述的传动装置，其特征在于，所述滚轮和/或所述支撑基座设置成包括大小不同的可替换的一系列。28.根据权利要求23所述的传动装置，其特征在于，所述支撑杆的长度可以调节。29.根据权利要求23所述的传动装置，其特征在于，所述支撑基座包括圆环和支架，所述支架包括多个分支，多个分支的一端相交，其交点位于所述圆环的纵向中心线上，并与所述圆环的圆心相距一定距离，该相交的端部与所述支撑杆的端部进行连接，多个分支的另外一端固定到所述圆环上。30.根据权利要求29所述的传动装置，其特征在于，所述支架的多个分支在圆环的周向上呈不均匀分布，在其中的两个分支之间形成有较大的开口。31.根据权利要求29所述的传动装置，其特征在于，在所述圆环上设置有固定部，该固定部在所述圆环的内缘沿所述圆环的径向向内延伸形成。32.根据权利要求19所述的传动装置，其特征在于，所述基片载具有多个。
【专利摘要】本发明涉及一种沉积蒸发系统以及沉积蒸发系统的传动装置，沉积蒸发系统用于对基片进行倾斜蒸发沉积，包括动力机构、沉积蒸发传动装置和真空蒸发器，所述动力机构与所述沉积蒸发传动装置相连接，用于驱动所述沉积蒸发传动装置转动；所述真空蒸发器位于所述沉积蒸发传动装置的下方；所述真空蒸发器的蒸发源面向所述沉积蒸发传动装置放置，所述蒸发源的纵向中心线与基片所在平面平行。本发明提供的沉积蒸发系统具有多片蒸发、每个基片旋转速度可调和每个基片的倾斜角度可调等优点，可有利于产能提升和生产成本的降低，更适用于倾斜角蒸发纳米结构薄膜的批量生产。
【IPC分类】C23C14/50, C23C14/24
【公开号】CN104911547
【申请号】CN201510349888
【发明人】乐仲, 孙福河, 闻永祥, 曹永辉
【申请人】杭州士兰集成电路有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年6月19日