溅射装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及溅射装置，特别是涉及用于制造氢传感器的溅射装置。
【背景技术】
[0002]已知有如下的氢传感器，其利用具有吸收氢时的调光特性的合金(例如参照专利文献I)。氢传感器在基板上形成多个由Mg — Ni等合金构成的薄膜而制造。这样的薄膜形成使用溅射装置进行(例如参照专利文献2)。在溅射装置中，在真空中导入惰性气体(Ar气)，利用等离子体放电将合金材料构成的靶加热。被离子化的Ar与该靶碰撞，合金材料的微粒子向基板飞溅而成膜。将N2气体或O2气体与Ar气体一同导入，从而也能够进行反应性溅射。
[0003]专利文献1:(日本)特开2011 - 219841号公报
[0004]专利文献2:(日本)特开平5 - 263228号公报
[0005]但是，为了在同一基板上将多个不同的材料成膜，对这些各个材料预先规定要成膜的区域，故而需要在基板与靶之间配置掩模。在掩模上形成有成为微粒子的合金材料可通过的被图案化的贯通孔，微粒子通过该贯通孔而在基板的规定区域成膜。在基板的其他区域成膜的情况下，暂时将基板从装置取出，配置具有其他图案的贯通孔的掩模并再次放入装置内。这样，将基板暂时从装置取出而重新配置掩模会导致作业效率的恶化。另外，在将容易氧化的合金材料成膜的情况下，由于从装置取出而暴露在大气中，会导致薄膜特性发生变化。为了在将基板从装置取出时不暴露在大气中，也考虑另外设置其他的被抽真空的真空室，或使其他的溅射装置邻接来应对，但装置变得大规模，在空间上、成本上变得过大。
[0006]在专利文献2中，由于掩模被固定，故而相对于基板，不按照各个区域进行成膜，为了控制膜厚而使基板和靶移动。使靶移动导致装置变得非常大，故而残留有上述的空间上的、成本上的问题点。
【发明内容】
[0007]本发明是考虑了上述现有技术而作出的，其目的在于提供一种溅射装置，即使在按照基板的各个规定区域将其他的合金材料成膜的情况下，也无需将基板向装置外取出而配置新的掩模的动作，在空间上、成本上优良。
[0008]为了实现上述目的，在本发明中提供一种溅射装置，其具有:真空室，其被抽真空且密闭；多个靶，其固定在所述真空室内，由应被成膜的材料构成；遮蔽体，其用于仅将所述多个靶中的要成膜的靶选择性地暴露在所述真空室内；基板保持单元，其对将从所述靶飞出的微粒子成膜的基板进行保持；第一移动单元，其对所述基板保持单元进行固定保持并使其在所述真空室内移动；掩模，其配置在所述靶与所述基板之间；第二移动单元，其使所述掩模在所述真空室内移动；多个贯通孔单元，其由贯通所述掩模的被图案化的贯通孔构成。
[0009]根据本发明，能够提供一种即使在将其他的合金材料按照基板的各个规定区域进行成膜的情况下，也无需将基板向装置外取出而配置新的掩模的动作，空间上、成本上优良的溅射装置。即，在使用任意的靶进行成膜，然后利用不同的图案使用其他的靶进行成膜的情况下，使用第一移动单元使基板移动到该靶的位置，根据需要，能够使用第二移动单元使掩模移动而使所希望的贯通孔对应。因此，能够在装置内进行不同图案的多个合金材料的成膜。
【附图说明】
[0010]图1是本发明的溅射装置的概略图，是图2的A — A剖面图；
[0011]图2是图1的D — D剖面图；
[0012]图3是与图1不同时的图2的A —A剖面图；
[0013]图4是图2的B —B剖面图；
[0014]图5是与图4不同时的图2的B —B剖面图；
[0015]图6是图2的C — C剖面图。
[0016]标记说明
[0017]1:溅射装置
[0018]2:真空室
[0019]3:靶部
[0020]4:派射部
[0021]5:基板部
[0022]6:分隔壁
[0023]7:革巴
[0024]8:靶
[0025]9:遮蔽体
[0026]10:基板
[0027]11:基板保持单元
[0028]12:第一辊
[0029]13:带
[0030]14:第一移动单元
[0031]15:第一电动机
[0032]16:掩模
[0033]17:贯通孔
[0034]18:第二辊
[0035]19:第二移动单元
[0036]20:第二电动机
[0037]21:第一层
[0038]22:第二层
[0039]23:第三层
[0040]24:第四层
[0041]25:第五层
【具体实施方式】
[0042]如图1所示，本发明的溅射装置I具有成为真空室2的大致密闭的空间。该真空室2大致由三个区域构成，分别为靶部3、溅射部4及基板部5。各区域3?5相互连通，但若连通被允许，则可以通过分隔壁6被一定程度地分隔。该真空室2通过抽真空而成为真空状态。在作为真空室2的一部分形成的靶部3固定有多个(图中为四个)靶8。该靶8由应在基板10上成膜的材料构成，具体地为金属(合金)块。在图例中，作为靶8a?8d，分别形成为 Wo 3、Mg —T 1、Mg —N 1、Pd。
[0043]这些靶8例如分别对应设有闸门等遮蔽体9 (9a?9d)。即，要成膜的靶以外的靶被遮蔽体9覆盖，由此，仅使应成膜的靶8选择性地在真空室2内露出。将这些靶8成膜的基板10被保持在配置于基板部5的基板保持单元11。基板保持单元11由把持基板10的把持部Ila和基台部Ilb构成，把持部Ila和基台部Ilb通过长条的连接部Ilc连接。该基板保持单元11中，基台部I Ib处于基板部5内。而且，连接部11c朝向溅射部4延伸，把持部Ila处于溅射部4内。因此，被把持部Ila把持的基板10配置在溅射部4内。
[0044]基板保持单元11被第一移动单元14固定保持并在真空室2内移动。具体地，第一移动单元14具有在基板部5内配置的一对第一辊12、架设在该辊12之间的带13。在一第一$昆12连接有第一电动机15的输出轴。因此，通过第一电动机15的驱动，经由输出轴使一第一辊12旋转。由此，从动的另一第一辊12也旋转，基板保持单元11与带13的移动一同在真空室2内移动。S卩，被基板保持单元11保持的基板10沿着带13的移动方向在溅射部4内移动。
[0045]在靶8与基板10之间，在溅射部4内配置有掩模16。在该掩模16形成有贯通孔17，该贯通孔17被图案化而形成。图案化是指，从靶8侧观察形成为所希望的图案形状。贯通孔17将一个或多个作为一套的单位而形成为贯通孔单元17a?17f。在该例中，形成有共计六个单元的贯通孔单元17a?17f。在该例中，贯通孔单元17a?17f将贯通孔17排列成三个纵列而表示。掩模16通过第二移动单元19在真空室2内移动。第二移动单元19具有一对第二棍18。掩模16形成长条的片状，架设在一对第二棍18之间。在一第二棍19连接有第二电动机20的输出轴。因此，通过第二电动机20的驱动经由输出轴使一第二辊18旋转。由此，从动的另一第二电动机18也旋转，掩模16在真空室2 (溅射部4)内移动。
[0046]贯通孔17作为分别被图案化的多个贯通孔单元17a?17f而形成，该贯通孔单元17a?17f对应于各个靶8而分别设置。在该例中，参照图2可知，贯通孔单元17a对应于靶8a而形成，贯通孔单元17b对应于靶Sb而形成，贯通孔单元17c对应于靶S