屯、的压力轮廓被转移至基板110并被转移远离 (translate against)抛光垫125的抛光表面120。第一变压源178A被独立配置成将流体 输送至每个囊袋174、176, W便控制通过柔性膜170到达基板110的离散（discrete)区域 的力。另外，可在承载头105中提供真空端口（未示出），W把抽吸力（suction)施加于基 板110的背侧，从而促进将基板110保持在承载头105中。可适于从本公开内容受益的承 载头105的实例包括TITAN肥AD?、TITAN C0NT0UR?W及TITAN PROFILER?承载头（运些 承载头可购自 Santa Clara, California(加州圣克拉拉市）的 Applied Materials, Inc. (应用材料公司）W及可购自其他制造商的其他承载头。
[0033] 在一个实施方式中，保持环115借助致动器180禪接至主体168。致动器180是由 第二变压源178B控制的。第二变压源178B提供流体或将流体从致动器180去除，运使保 持环115沿着Z方向相对承载头105的主体168移动。第二变压源178B适于提供独立于 电机162所提供的移动的保持环115的Z方向移动。第二变压源178B可通过把负压或正 压施加于致动器180和/或保持环115来提供保持环115的移动。在一方面，在抛光工艺 中，压力被施加于保持环115, W将保持环115推向抛光垫125的抛光表面120。
[0034] 如上所述，保持环115可在基板110抛光期间接触抛光表面120。化学物质输送系 统138可在抛光期间输送抛光流体144至抛光表面120和基板110。形成于保持环115中 的槽172促进将抛光流体144 W及夹带的抛光碎屑运输通过保持环115并且远离基板110。 在处理基板110后，基板110可从承载头105被去除。
[0035] 图2是图1的承载头105和保持环115的一部分的横截面视图。承载头105可包 括第一支撑结构200A和第二支撑结构200B。第二支撑结构200B可用W推动基板110抵 靠抛光垫125,而第一支撑结构200A将基板保持在承载头105中。第二支撑结构200B可 具有用于将第二支撑结构200B紧固到附接至承载头105的主体168的晓曲隔膜（flexure diap虹agm) 215的上部夹具205和下部夹具210。运种布置允许在第二支撑结构200B中进 行的竖直移动，同时抛光基板110。下部夹具210的底表面被禪接至囊袋174 W及柔性膜 170,该囊袋174和柔性膜170作为第二支撑结构200B的一部分而一致地移动。
[0036] 保持环115可为环形，并且包括共享（share)图1中所示承载头105的中屯、线166 的中屯、线。承载头105的第一支撑结构200A还可包括保持环115,该保持环115具有底表 面220、内径侧壁225 W及外径侧壁230。保持环115可由主体235构成，主体235可由单 块材料形成。可替代地，主体235可由两个或更多个部分形成。主体235的部分可包括配 合在一起W形成环形主体235的一个或多个块件（piece)。在一个实施方式中，保持环115 的主体235属于单体构造 （single unitary construction)。在另一实施方式中，保持环 115的主体235是由两个或更多个环形部分形成的。例如，保持环115可具有附接至下部部 分245上的上部部分240。粘合剂（a化esive)层250可用W将保持环115的上部部分240 粘合至保持环115的下部部分245。粘合剂层250可为环氧材料、尿烧（urethane)材料、或 丙締酸（acirlic)材料。
[0037] 主体235、或至少上部部分240可由金属材料形成，该金属材料诸如是不诱钢、侣、 钢、或另一种耐处理的（process-resistant)金属或合金、或陶瓷或陶瓷填充的（ceramic filled)聚合物塑料、或运些或其他合适材料的组合。在一个实例中，主体235的上部部分 240可由诸如不诱钢之类的金属形成。另外，主体235、或至少下部部分245可由塑料材料制 成，该塑料材料诸如是聚苯硫酸（PPS)，聚对苯二甲酸乙二醇醋、聚酸酸酬、聚对苯二甲酸下 二醇醋、聚糞二甲酸下二醇醋、ER'rALYTE'K' TX、阳EK、T0RL0N ''、DEL艮?Ν\ 阳了、 VESPF丄％ DURAT民0L\或运些或其他合适材料组合。在一个实例中，主体235的 下部部分245可由陶瓷材料制成。在一个实施方式中，上部部分240提供刚性，而下部部分 245则提供接触抛光垫125的抛光表面120的牺牲表面255。牺牲表面255趋于在抛光工 艺期间磨损，并且必须在许多循环后进行替换。
[0038] 如上所述，常规的保持环使用常规CNC加工方法制造。通过运些方法实现的表面 光洁度（平均表面粗度（Ra))和平整度通常分别为约16Ra和0.001英寸。运些水平下的 加工公差和光洁度并不产生有生产价值的部分，因为在抛光期间那样加工的保持环产生不 可接受量的颗粒。此外，具有大体平整（flat) (0.001英寸）轮廓的常规保持环已被证明不 充分地控制抛光垫表面的拓扑结构，因此在用于生产前需要延长的磨合工艺。
[0039] 已经发现，最佳抛光是使用具有在牺牲表面255上的倒锥的保持环115来实现的 (即其中保持环115的内径侧壁225的厚度略微薄于外径侧壁230的厚度）。另外，已经发 现，将保持环115的牺牲表面255的粗糖度改变为比约16Ra小得多的粗糖度减少颗粒并且 增强抛光。
[0040] 图3是如本文所述的保持环115的一个实施方式的第一支撑结构200A的等距仰 视图。其中形成有槽172的牺牲表面255被禪接至主体235。主体235可W包括约11英寸 至约12英寸的内部尺寸300 (例如直径）W及约12英寸至约13. 5英寸的外部尺寸305 (例 如直径）。多个孔310也形成为穿过主体235 W用于促进至承载头105(图1和图2中所 示）的附接。
[0041] 图4是沿图3的线4-4的保持环115的侧视横截面视图。下部部分245被禪接至 上部部分240。下部部分245还包括牺牲表面255,牺牲表面255包括圆锥锥度400。在一 些实施方式中，圆锥锥度400为约175度至约185度。
[0042] 图5是图4的保持环115的放大局部截面视图。保持环115的下部部分245的牺 牲表面255包括倒锥形表面500。倒锥形表面500是由内径侧壁225的厚度Τ'与外径侧 壁230的厚度Τ"的差异界定的。厚度Τ'与厚度Τ"之间的差异可由锥高505限定，锥高可 W是约0. 0003英寸至约0. 00015英寸诸如是约0. 0002英寸。在一些实施方式中，倒锥形 表面500可包括小于0. 002英寸的平整度W及镜面光洁度（即约4百万分之一英寸至约5 百万分之一英寸RM巧。
[0043] 用于形成保持环的方法巧巧备
[0044] 图6是用于在保持环115的下部部分245的牺牲表面255上产生倒锥形表面500 的固定装置600的一个实施方式的侧视横截面视图。固定装置600可在保持环115禪接在 其上时放置在抛光模块（未示出）上，W便形成倒锥形表面500。如下文将参考图11更详 细地描述，执行使用抛光垫的抛光工艺，W形成倒锥形表面500。
[0045] 图7是图6中示出的固定装置600的放大局部截面视图。固定装置600包括夹紧 装置605、外部夹环610 W及固定板615。外部夹环610可包括紧密接收下部部分245的外 径侧壁230的内部尺寸。夹紧装置605 W及固定板615可由诸如侣或不诱钢之类的金属材 料制成。在一个实施方式中，夹紧装置605包括外部夹紧装置，外部夹紧装置控制保持环 115的下部部分245上的侧向负载。外部夹环610可由聚酸酸酬材料或等效（equivalent) 耐久的塑料材料制成。外部夹环610可通过支撑外径侧壁230来降低保持环115的下部部 分245的外径侧壁230的抛光速率。运提供了对与外径侧壁230相比的内径侧壁225的 抛光速率的另外控制。此外，运种外部夹环610的存在可控制外径侧壁230边缘处的嵌条 (fillet)的形成。
[0046] 夹紧装置605可W包括使用紧固件640紧固至彼此和/或紧固至外部夹环610的 两个环形环620和625。所述紧固件中的一个可W是调节紧固件，而另一个紧固件可W是锁 定紧固件。另外多个紧固件645可用W将固定板615禪接至保持环115的上部部分240。 夹紧装置605具体地环形环625可搁置在从上部部分240的外表面径向向外延伸的肩部 630上。紧固件640和紧固件645的梓紧促进固定板615和外部夹环610的禪接，使得固 定装置600与保持环115成整体。利用外部夹环610使得保持环115的下部部分245相对 于抛光垫（未示出）的表面保持为垂直（square),同时形成倒锥形表面500。相对于牺牲 表面255对外部夹环610的下部表面650所进