一种高含铜蚀刻液再生循环系统的制作方法

文档序号:10645849阅读:484来源:国知局
一种高含铜蚀刻液再生循环系统的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种高含铜蚀刻液再生循环系统,它包括蚀刻线(1),溶解再生缸(3)、过滤器(10),蚀刻线(1)与溶解再生缸(3)通过管道连接,且在该管道上设置有废液提升泵(2),溶解再生缸(3)与过滤器(10)通过管道连接,且在该管道上设置有蚀刻液提升泵(11),过滤器(10)与蚀刻线(1)连通。本发明的有益效果是:它具有零排放、无污染和生产成本低的优点。
【专利说明】
一种高含铜蚀刻液再生循环系统
技术领域
[0001 ]本发明涉及技术领域,特别是一种高含铜蚀刻液再生循环系统。
【背景技术】
[0002]酸性蚀刻液是一种适合印制电路板精细线路制作、多层板内层制作的蚀刻液。随着动态蚀刻的进行,蚀刻液中的亚铜配离子浓度和总铜浓度不断增加,表现为蚀刻液的氧化还原电位不断降低和密度不断增加。当蚀刻液的氧化还原电位低于给定值时,就必须进行化学再生才能维持稳定、快速的蚀刻。
[0003]目前,国内一般用氯酸钠溶液或双氧水等氧化剂进行化学再生(张志祥.氯酸钠/盐酸型蚀刻铜再生剂之论述.《印制电路信息》2002(3): 40?42),即利用氯酸钠或过氧化氢的强氧化性,将亚铜配离子氧化为铜配离子,从而恢复蚀刻液的蚀刻效能,同时添加纯水辅助降低蚀刻液的密度,使蚀刻液的氧化还原电位和密度均在蚀刻工艺要求的范围内。该方法一般是根据测量槽中蚀刻液氧化还原电位的变化情况,间断添加氯酸钠溶液或双氧水等氧化剂到蚀刻缸中,同时还必须添加盐酸等含氯离子的化学试剂,以保证蚀刻液中有充足的氯配离子。为维持蚀刻缸中蚀刻液的液位不变,必须对外排放蚀刻废液。这种蚀刻废液被转移到异地,只是以铜或铜化合物的形式进行回收处理,其他离子随废水排放,显然这种做法既污染环境,又浪费资源。

【发明内容】

[0004]本发明的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种零排放、无污染和生产成本低的高含铜蚀刻液再生循环系统。
[0005]本发明的目的通过以下技术方案来实现:一种高含铜蚀刻液再生循环系统,它包括蚀刻线,溶解再生缸、过滤器,所述的蚀刻线与溶解再生缸通过管道连接,且在该管道上设置有废液提升栗,所述的溶解再生缸与过滤器通过管道连接,且在该管道上设置有蚀刻液提升栗,所述的过滤器与蚀刻线连通。
[0006]所述的溶解再生缸通过管道还连通有母液罐,所述的母液罐通过管道与酸性蚀刻液循环再生系统连通,且在该管道上设置有母液提升栗,所述的酸性蚀刻液循环再生系统与提铜装置连接。
[0007]所述的酸性蚀刻液循环再生系统通过管道连接有再生液储存罐,且在该管道上设置有循环再生液提升栗,所述的再生液储存罐通过管道与溶解再生缸连通,且在该管道上设置有再生液提升栗。
[0008]所述的酸性蚀刻液循环再生系统通过耐强氧化性管道与溶解再生缸连接。
[0009]本发明具有以下优点:本发明的高含铜蚀刻液再生循环系统,通过溶解再生缸再生,实现了高含铜蚀刻液的再生,且该循环系统还设置有酸性蚀刻液循环再生系统,能够将多余的蚀刻液进行再生提铜,又能为溶解再生缸提供母液和强氧化气体,在整个循环系统中,无有害气体排放,无废液排放,且能使酸性气体得到二次利用,从而节约了生产成本,实现了零排放、无污染目的。
【附图说明】
[0010]图1为本发明的结构示意图
图中,1-蚀刻线,2-废液提升栗,3-溶解再生缸,4-母液罐,5-母液提升栗,6-酸性蚀刻液循环再生系统,7-循环再生液提升栗,8-再生液储存罐,9-再生液提升栗,10-过滤器,11-蚀刻液提升栗,12-提铜装置。
【具体实施方式】
[0011]下面结合附图对本发明做进一步的描述,本发明的保护范围不局限于以下所述: 如图1所示,一种高含铜蚀刻液再生循环系统,它包括蚀刻线I,溶解再生缸3、过滤器
10,所述的蚀刻线I与溶解再生缸3通过管道连接,且在该管道上设置有废液提升栗2,所述的溶解再生缸3与过滤器10通过管道连接,且在该管道上设置有蚀刻液提升栗11,所述的过滤器10与蚀刻线I连通,蚀刻线I上的高含铜蚀刻液通过废液提升栗2送入溶解再生缸3内,在溶解再生缸3内加入强氧化剂和再生液,从而使得溶解再生缸3内的高含铜蚀刻液中的一价铜再生为二价铜,且使得蚀刻液的OPR和比重降低,使得蚀刻液回复强蚀刻性能,再生后的蚀刻液再通过蚀刻液提升栗11将其送入过滤器10,蚀刻液经过过滤器10过滤后,然后再进入到蚀刻线I中,从而保证了蚀刻线I的蚀刻效率。
[0012]在本实施例中,所述的溶解再生缸3通过管道还连通有母液罐4,当溶解再生缸3内的蚀刻液过多后,则蚀刻液溢流进入到母液罐4中,所述的母液罐4通过管道与酸性蚀刻液循环再生系统6连通,且在该管道上设置有母液提升栗5,母液提升栗5将母液送入到酸性蚀刻液循环再生系统6,使得母液得到再生,并且所述的酸性蚀刻液循环再生系统6与提铜装置12连接,通过提铜装置12将母液中的铜进行提取。
[0013]在本实施例中,所述的酸性蚀刻液循环再生系统6通过管道连接有再生液储存罐8,且在该管道上设置有循环再生液提升栗7,所述的再生液储存罐8通过管道与溶解再生缸3连通,且在该管道上设置有再生液提升栗9,母液通过酸性蚀刻液循环再生系统6再生后得到再生液,再生液通过循环再生液提升栗7送入到再生液储存罐8中进行储存,当溶解再生缸3需要再生液时,则再生液提升栗9将再生液送入到溶解再生缸。
[0014]在本实施例中,所述的酸性蚀刻液循环再生系统6通过耐强氧化性管道与溶解再生缸3连接,酸性蚀刻液循环再生系统6在再生过程中,产生的酸性气体、如氯气,其具有强氧化性,在本发明中,将氯气通过管道引导进入溶解再生缸3,通过氯气的强氧化性,使得一价铜转换成二价铜,从而使得酸性蚀刻液循环再生系统6中的酸性气体无需排放,并实现了废气利用,即节约了生产成本,又达到了环保的目的,且省去了酸性蚀刻液循环再生系统6中的酸性气体的处理工艺,从而降低了设备成本。
[0015]本发明的工作过程如下:蚀刻线I上的高含铜蚀刻液通过废液提升栗2送入溶解再生缸3内,在溶解再生缸3内加入强氧化剂和再生液,从而使得溶解再生缸3内的高含铜蚀刻液中的一价铜再生为二价铜,且使得蚀刻液的OPR和比重降低,使得蚀刻液回复强蚀刻性能,再生后的蚀刻液再通过蚀刻液提升栗11将其送入过滤器10,蚀刻液经过过滤器10过滤后,然后再进入到蚀刻线I中,从而保证了蚀刻线I的蚀刻效率。
【主权项】
1.一种高含铜蚀刻液再生循环系统,其特征在于:它包括蚀刻线(I),溶解再生缸(3)、过滤器(10),所述的蚀刻线(I)与溶解再生缸(3)通过管道连接,且在该管道上设置有废液提升栗(2),所述的溶解再生缸(3)与过滤器(10)通过管道连接,且在该管道上设置有蚀刻液提升栗(11),所述的过滤器(10)与蚀刻线(I)连通。2.根据权利要求1所述的一种高含铜蚀刻液再生循环系统,其特征在于:所述的溶解再生缸(3)通过管道还连通有母液罐(4),所述的母液罐(4)通过管道与酸性蚀刻液循环再生系统(6)连通,且在该管道上设置有母液提升栗(5),所述的酸性蚀刻液循环再生系统(6)与提铜装置(12)连接。3.根据权利要求2所述的一种高含铜蚀刻液再生循环系统,其特征在于:所述的酸性蚀刻液循环再生系统(6)通过管道连接有再生液储存罐(8),且在该管道上设置有循环再生液提升栗(7),所述的再生液储存罐(8)通过管道与溶解再生缸(3)连通,且在该管道上设置有再生液提升栗(9)。4.根据权利要求2所述的一种高含铜蚀刻液再生循环系统,其特征在于:所述的酸性蚀刻液循环再生系统(6)通过耐强氧化性管道与溶解再生缸(3)连接。
【文档编号】C23F1/08GK106011858SQ201610646322
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年8月9日
【发明人】韦建敏, 赵兴文, 张晓蓓, 张小波
【申请人】成都虹华环保科技股份有限公司
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