一种j型阴极磁控溅射靶的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种J型阴极磁控溅射靶，特别涉及的是用于航空领域的一种J型阴极磁控溅射靶。
【背景技术】
[0002]目前真空镀膜所采用的靶材均是平板靶材或圆柱靶材，对于一般的平面镀膜能够保证均匀性。但是要对复合曲面的飞机座舱罩的外表面进行大面积镀膜，平面靶材相对于曲面各点的距离差距较大，无法确保镀膜的均匀性，进而影响其导电率和透光率。因此需要设计一种形状符合飞机座舱罩曲面外形的靶材，以此来实现快速、均匀的大面积镀膜。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种J型阴极磁控溅射靶，实现对复合曲面的飞机座舱罩外表面进行快速、均匀的大面积镀膜。
[0004]为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现:
[0005]一种J型阴极磁控溅射靶，包括旋转盘、J型基架、靶材、充气管、辉光放电电极。所述旋转盘支撑整个靶，可旋转180°。所述J型基架是溅射靶的主要部分，它的形状是本实用新型设计的重点，设计为两个并排结构。所述J型基架的圆弧面用许多片所述靶材覆盖。所述J型基架内部填充永久磁体。所述J型基架左侧端面用螺栓固定两条所述充气管，右侧端面用螺栓固定两条所述辉光放电电极。
[0006]优选的，所述旋转盘可旋转180°，用于对曲面板材全方位镀膜。
[0007]优选的，所述J型基架设计为两个并排结构，用于溅镀不同膜层。
[0008]优选的，所述靶材是以一片片长方形紧密排列，粘结在所述J型基架的圆弧面，用来提供膜层材质。
[0009]优选的，所述充气管沿所述J型基架左侧端面固定在所述J型基架上，用来在真空室中充入工作气体和保护气体。
[0010]优选的，所述辉光放电电极沿所述J型基架右侧端面固定在所述J型基架上，用来连接外电源，产生负高压。
[0011]上述技术方案具有如下有益效果:该J型磁控溅射靶在镀膜时固定在三维移动靶材支架上，并由其承载着按设定的轨迹运动，分两次对曲面板材进行镀膜，并可配合需要镀两种不同膜层。采用J型磁控溅射阴极靶，能够使大面积的复合曲面的飞机座舱罩外表面得到均匀、快速的镀膜。
[0012]上述说明是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的【具体实施方式】并配合附图对本专利进行详细说明。
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型J型阴极磁控溅射靶示意图。
【具体实施方式】
[0014]如图1所示，本实用新型J型阴极磁控溅射靶，包括旋转盘1、J型基架2、靶材3、充气管4、辉光放电电极5。旋转盘I支撑整个靶，可旋转180°。J型基架2是溅射靶的主要部分，设计为两个并排结构。J型基架2的圆弧面用许多片靶材3覆盖，内部填充永久磁体。J型基架2左侧端面用螺栓固定两条充气管4，右侧端面用螺栓固定两条辉光放电电极5。
[0015]旋转盘I可旋转180°，用于对曲面板材全方位镀膜。
[0016]J型基架2设计为两个并排结构，用于溅镀不同膜层。
[0017]靶材3是以一片片长方形紧密排列，粘结在所述J型基架2的圆弧面，用来提供膜层材质。
[0018]充气管4沿J型基架2左侧端面固定，用来在真空室中充入工作气体和保护气体。
[0019]辉光放电电极5沿J型基架2右侧端面固定，用来连接外电源，产生负高压。
[0020]上述实例可在不脱离本实用新型的范围下加以若干变化，故以上的说明及附图中所示的结构应视为示例性，而非用以限制本实用新型的申请专利范围。凡根据本实用新型做出的等效变化或修饰，都涵盖在本实用新型的保护范围内。
【主权项】
1.一种J型阴极磁控溅射靶，其特征在于:包括旋转盘(I)、J型基架(2)、靶材(3)、充气管(4)、辉光放电电极(5)，所述J型基架⑵固定在所述旋转盘⑴上，所述J型基架(2)圆弧面用许多片所述靶材(3)覆盖，内部填充永久磁体，所述J型基架(2)左侧端面用螺栓固定两条所述充气管(4)，右侧端面用螺栓固定两条所述辉光放电电极(5)。
2.根据权利要求1所述的J型阴极磁控溅射靶，其特征在于:所述旋转盘(I)可旋转180。。
3.根据权利要求1所述的J型阴极磁控溅射靶，其特征在于:所述J型基架(2)设计为两个并排结构。
4.根据权利要求3所述的J型阴极磁控溅射靶，其特征在于:所述靶材(3)是以一片片长方形紧密排列，粘结在所述J型基架(2)的圆弧面。
5.根据权利要求3所述的J型阴极磁控溅射靶，其特征在于:所述充气管(4)沿所述J型基架(2)左侧端面固定。
6.根据权利要求3所述的J型阴极磁控溅射靶，其特征在于:所述辉光放电电极(5)沿所述J型基架(2)右侧端面固定。
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于战机座舱罩镀膜的J型阴极磁控溅射靶，包括旋转盘、J型基架、靶材、充气管、辉光放电电极。所述旋转盘支撑整个靶，可旋转180°。所述J型基架是溅射靶的主要部分，设计为两个并排结构。所述J型基架的圆弧面用许多片所述靶材覆盖，内部填充永久磁体。所述J型基架左侧端面用螺栓固定两条所述充气管，右侧端面用螺栓固定两条所述辉光放电电极。本实用新型J型阴极磁控溅射靶，形状符合飞机座舱罩曲面外形，能够实现对复合曲面的飞机座舱罩外表面快速、均匀的大面积镀膜，确保其导电率和透光率。
【IPC分类】C23C14-35
【公开号】CN204325484
【申请号】CN201420824324
【发明人】韩裕鲲
【申请人】昆山艾诺美航天材料有限公司
【公开日】2015年5月13日
【申请日】2014年12月19日