专利名称：等轴晶系高纯氧化铋生产工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种氧化铋的生产工艺。
背景技术：
氧化铋的化学名称一般指三氧化二铋，其分子式为Bi2O3，目前国内外氧化铋生产工艺主要有三种即纯火法工艺，湿法与火法结合工艺，纯湿法工艺，纯火法工艺是将溶融的金属铋经气体雾化成微细的液珠，并同时在雾化室内燃烧生产三氧化二铋细粉末，产出的氧化铋为正方晶系结晶体。该工艺最大的缺点有两个，一是产生的粉末平均粒度范围为1-8um，是氧化铋晶型中最牢固的正方晶系结晶体，无法进一步加工成更细粉末，二是该工艺产出的氧化铋纯度不高，难于达到99％以上。湿法与火法结合工艺是将精铋先溶解成硝酸铋溶液，然后将其水解成碱式硝酸铋，再将碱式硝酸铋干燥后，灼烧成氧化铋，产出的氧化铋纯度更低。且无法进一步精加工，纯湿洁工艺是指将精铋溶解成硝酸铋溶液后与1.5～2.5倍加热至95℃的30％氢氧化钠溶液反应制得氧化铋，该氧化铋为菱型晶系氧化铋结晶体，粒径达35um，且非常难于精加工。
发明内容
本发明是针对现有技术的不足提供一种更科学的氧化铋生产工艺，该工艺生产出的氧化铋不但纯度高达99％以上，而且粒度更小。
本发明生产氧化铋的工艺如下一、精铋溶解工艺将破碎好的精铋放入干净的反应罐中，然后分阶段加入硝酸，反应一昼夜产生硝酸铋溶液。
二、中和工艺将水注入中和反应罐中，开动搅拌机，将调整好浓度的氢氧化纳溶液和硝酸铋溶液等体积同时注入中和罐中，然后搅拌反应1小时，停止搅拌后将反应产物静止沉淀1小时，其沉淀物为氧化铋。在该工艺中硝酸铋溶液Bi离子浓度为400±5g/L，氢氧化纳溶液浓度为400±5g/L，底水体积为反应物体积总和的10％，反应物的温度是硝酸铋溶液35～38℃，氢氧化钠38～42℃，底水温度18～26℃。反应物的注入时间为5分钟，充分搅拌的时间为25分钟。
三、洗涤干燥工艺将制得的氧化铋沉淀物放入离心机中边离心甩干边加水洗涤，直到甩出水的PH值约为7为止，停止加水，甩干、进烘箱干燥后包装即得等轴晶系高纯氧化铋，制得的Bi2O3其含量高达99.7％以上。
权利要求
1.一种等轴晶系高纯氧化铋生产工艺，其特征如下(1)、精铋溶解工艺将破碎好的精铋放入干净的反应罐中，然后分阶段加入硝酸，反应一昼夜产生硝酸铋溶液，(2)、中和工艺将水注入中和反应罐中，开动搅拌机，将调整好浓度的氢氧化纳溶液和硝酸铋溶液等体积同时注入中和罐中，然后搅拌反应1小时，停止搅拌后将反应产物静止沉淀1小时，其沉淀物为氧化铋，在该工艺中硝酸铋溶液Bi离子浓度为400±5g/L，氢氧化纳溶液浓度为400±5g/L，底水体积为反应物体积总和的10％，反应物的温度是硝酸铋溶液35～38℃，氢氧化钠38～42℃，底水温度18～26℃。反应物的注入时间为5分钟，充分搅拌的时间为25分钟，(3)、洗涤干燥工艺将制得的氧化铋沉淀物放入离心机中边离心甩干边加水洗涤，直到甩出水的PH值约为7为止，停止加水，甩干、进烘箱干燥后包装即得等轴晶系高纯氧化铋。
全文摘要
本发明提供了一种等轴晶系高纯氧化铋生产工艺，包括精铋溶解、中和、洗涤、干燥等工艺程序，通过严格控制反应物的温度、浓度和反应时间来达到最好的生产效果。本发明生产出的氧化铋不但纯度高达99％以上，而且粒度更小便于精加工。
文档编号C01G29/00GK1433969SQ0211394
公开日2003年8月6日 申请日期2002年1月24日 优先权日2002年1月24日
发明者吴世军, 杨安福 申请人:吴世军