专利名称：高纯度氩深度纯化装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种高纯度氩纯化装置。
背景技术：
目前，针对氩气的纯化主要使用锆铝16吸气剂及5A分子筛等作为净化剂，应用此 种净化剂设计的纯化装置，一般不能一次性将氩气纯化到99. 9999%，并且其工作温度高，不 能满足科学研究、实验、以及微电子行业的要求。
发明内容本实用新型是为了解决现有的氩气纯化装置无法一次获得高纯度氩气，氩气提纯 效率较低的问题，从而提出一种高纯度氩深度纯化装置。高纯度氩深度纯化装置，它包括脱氧干燥床R1、热交换器E1、吸附剂吸附床R2、一 号水冷却器E2和过滤器Gl，脱氧干燥床Rl的进气口是原料氩气的进气口，所述脱氧干燥床 Rl的出气口与热交换器El的一号进气口连通，所述热交换器El的一号出气口与吸附剂吸 附床R2的进气口连通，所述吸附剂吸附床R2的出气口与热交换器El的二号进气口连通， 所述热交换器El的二号出气口与一号水冷却器E2的进气口连通，所述一号水冷却器E2的 出气口与过滤器Gl的进气口连通，所述过滤器Gl的出气口是高纯度氩气的出气口。有益效果本实用新型能够一次脱除氢、总烃、一氧化碳、二氧化碳、氧气、水、氮气 等杂质，获得高纯度氩气，氩气提纯效率高，并且获得的氩气的纯度可达99. 9999%以上。
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
具体实施方式
一、结合图1说明本具体实施方式
，高纯度氩深度纯化装置，它包括 脱氧干燥床R1、热交换器E1、吸附剂吸附床R2、一号水冷却器E2和过滤器G1，脱氧干燥床 Rl的进气口是原料氩气的进气口，所述脱氧干燥床Rl的出气口与热交换器El的一号进气 口连通，所述热交换器El的一号出气口与吸附剂吸附床R2的进气口连通，所述吸附剂吸附 床R2的出气口与热交换器El的二号进气口连通，所述热交换器El的二号出气口与一号水 冷却器E2的进气口连通，所述一号水冷却器E2的出气口与过滤器Gl的进气口连通，所述 过滤器Gl的出气口是高纯度氩气的出气口。本实施方式的装置是利用过度金属间化合物能够和被纯化气体中的杂质起反应， 将杂质由气态转变为固态化合物，从而使氩气得到纯化。基本的过程的原理是首先将气体脱氧干燥处理，初步去除气体中的氧、水和二氧化碳，具体反应原理如 下 深度除氧和水、二氧化碳，在吸附剂吸附床R2内完成，常温下工作，加热再生，再 生温度为300°C，再生气体由氩气和适量的氢气组成。经过脱氧干燥处理后进一步纯化处理，利用吸附剂吸附床R2进一步吸附氧气、二 氧化碳、一氧化碳、氮气等，其原理是过渡金属间化合物和氩气中杂质气体反应生成固态 化合物，因此达到除杂质的目的。吸附反应原理如下
权利要求高纯度氩深度纯化装置，其特征是它包括脱氧干燥床(R1)、热交换器(E1)、吸附剂吸附床(R2)、一号水冷却器(E2)和过滤器(G1)，脱氧干燥床(R1)的进气口是原料氩气的进气口，所述脱氧干燥床(R1)的出气口与热交换器(E1)的一号进气口连通，所述热交换器(E1)的一号出气口与吸附剂吸附床(R2)的进气口连通，所述吸附剂吸附床(R2)的出气口与热交换器(E1)的二号进气口连通，所述热交换器(E1)的二号出气口与一号水冷却器(E2)的进气口连通，所述一号水冷却器(E2)的出气口与过滤器(G1)的进气口连通，所述过滤器(G1)的出气口是高纯度氩气的出气口。
2.根据权利要求1所述的高纯度氩深度纯化装置，其特征在于它还包括二号水冷却器 (E3)，所述二号水冷却器(E3)的进气口与脱氧干燥床(Rl)的出气口连通，所述二号水冷却 器(E3)的出气口是废气排放口 ；所述二号水冷却器(E3)的入水口与一号水冷却器(E2)的 出水口连通。
3.根据权利要求1或2所述的高纯度氩深度纯化装置，其特征在于它还包括原料氩气 通过或截止阀门(FOl)和六号阀门(F06)，在脱氧干燥床(Rl)的进气口处设置原料氩气通 过或截止阀门(FO1)，在热交换器(E1)的一号进气口处设置六号阀门(F06 )。
4.根据权利要求3所述的高纯度氩深度纯化装置，其特征在于它还包括氢气通过或截 止阀门(F04 )，在脱氧干燥床(Rl)的进气口处还设置氢气通过或截止阀门(F04 )。
5.根据权利要求1、2或4所述的高纯度氩深度纯化装置，其特征在于它还包括产品 氩气通过或截止阀门(F02)，在过滤器(Gl)的出气口处设置所述产品氩气通过或截止阀门 (F02)。
6.根据权利要求5所述的高纯度氩深度纯化装置，其特征在于它还包括分析用氩 气通过或截止阀门(F03)，在过滤器(Gl)的出气口处还设置分析用氩气通过或截止阀门 (F03)。
7.根据权利要求1、2、4或6所述的高纯度氩深度纯化装置，其特征在于它还包括一号 控温仪(B)，所述一号控温仪(B)的温度控制信号输出端与吸附剂吸附床(R2)的温度控制 信号输入端连接。
8.根据权利要求7所述的高纯度氩深度纯化装置，其特征在于它还包括二号控温仪 (A)，所述二号控温仪(A)的温度控制信号输出端与脱氧干燥床(Rl)的温度控制信号输入 端连通。
9.根据权利要求1、2、4、6或8所述的高纯度氩深度纯化装置，其特征在于它还包括原 料氩气流量计(FI01)，所述原料氩气流量计(FIOl)设置在脱氧干燥床(Rl)的进气口处。
10.根据权利要求9所述的高纯度氩深度纯化装置，其特征在于它还包括再生氢气流 量计(FI02 )，所述再生氢气流量计(FI02 )设置在脱氧干燥床(Rl)的进气口处。
专利摘要高纯度氩深度纯化装置，它涉及一种高纯度氩纯化装置。它解决现有的氩气纯化装置无法一次获得高纯度氩气，氩气提纯效率较低的问题。它的脱氧干燥床的进气口是原料氩气的进气口，其出气口与热交换器的一号进气口连通，热交换器的一号出气口与吸附剂吸附床的进气口连通，吸附剂吸附床的出气口与热交换器的二号进气口连通，所述热交换器的二号出气口与一号水冷却器的进气口连通，所述一号水冷却器的出气口与过滤器的进气口连通，所述过滤器的出气口是高纯度氩气的出气口。本实用新型用于获得高纯度氩气场合。
文档编号C01B23/00GK201694842SQ20102024288
公开日2011年1月5日 申请日期2010年6月30日 优先权日2010年6月30日
发明者刘宏, 曹素英 申请人:哈尔滨黎明气体有限公司