本发明涉及陶瓷釉料配方研发、生产和加工技术领域，特别涉及珍珠釉料、珍珠釉及其制备方法、以及陶瓷制品。
背景技术：
仿古砖做为陶瓷砖行业中的佼佼者深受消费者的追捧，它具有丰富的图案和纹理、而且采用仿古砖做为房屋的装修材料，更具有逼真、细腻和个性化，更丰富的纹理变化。使用具有凹凸纹理的釉面装饰效果能够让陶瓷砖面的装饰效果更为立体，不但有身临其境的亲身感受，也有回味无穷的艺术境界；同时具有凹凸纹理也使得产品具有更好的防滑性能。
在烧制具有凹凸纹理的瓷砖釉面过程中，传统技术需要采用凹凸模具，即在模具上设置具有与设计图案相反的凹凸图案。这种方法不但成本高，而且图案精细度不够，且成品率低。
技术实现要素：
本发明解决的技术问题在于提供了一种珍珠釉料、珍珠釉及其制备方法、以及珍珠釉陶瓷制品。
有鉴于此，本发明提供一种珍珠釉料，其组分包括：
钾长石20-40重量份；
双飞粉5-15重量份；
碳酸钡2-7重量份；
熔块 5-40重量份；
气刀高岭土2-10重量份；
硅微粉10-19重量份；
白刚玉1-4重量份；
氧化锌 2-7重量份；
烧滑石 2-19重量份。
优选的，所述珍珠釉料组分中还可以包括有色陶瓷色料。
本发明又提供了一种珍珠釉制备方法，包括以下步骤：
步骤S1.球磨制浆，将珍珠釉料加水进行球磨，珍珠釉料与水的重量比为1：（0.3～0.45）；球磨时间为4～8小时；球磨细度为万孔筛筛余量0-1.5％，得到珍珠釉浆料；
步骤S2.施釉，将上述珍珠釉浆料施于基体表面，得到中间产品；
步骤S3.烧成，将上述中间产品在1150-1230℃，烧成80-120min，在基体表面形成珍珠釉。
优选的，所述的珍珠釉制备方法中，步骤S1的珍珠浆料流速为30～300s/100ml，比重为1.30～1.88。
优选的，所述的珍珠釉制备方法中，步骤S2的施釉次数为一次或多次；施于所述基体表面的珍珠釉浆料的厚度为0.5～0.8mm。
本发明还提供了利用前述方法制备的一种珍珠釉。
本发明另外提一种陶瓷制品，其由内至外依次包括：坯体，底釉和前述的珍珠釉。
优选的，所述陶瓷制品还包括设置于所述底釉和珍珠釉之间的花釉。
本发明的另一技术手段是提供了一种珍珠釉陶瓷制品制备方法，包括以下步骤：
步骤a.在坯体表面施以底釉，得到基体；
步骤b.在所述基体表面施加珍珠釉浆料，所述珍珠釉浆料按照如下方法制备：将珍珠釉加水进行球磨，所述珍珠釉料为前述的珍珠釉料，所述珍珠釉料与水的重量比为1：（0.3～0.45）；球磨时间为4～8小时；球磨细度为万孔筛筛余量0-1.5％，即得；
步骤c. 将步骤b得到的产品进行烧成，得到珍珠釉陶瓷制品；所述烧成的温度为1150-1230℃，时间为80-120min。
优选的，所述陶瓷制品制备方法的步骤a中，在坯体表面施以底釉后，还包括在底釉表面施加花釉的步骤。
本发明还提供了一种珍珠釉陶瓷制品生产系统，包括基体获得装置、浆料施加装置和烧成装置；
所述基体获得装置，用于在坯体表面施以底釉，得到基体；
所述浆料施加装置，用于在所述基体表面施加珍珠釉浆料；所述珍珠釉浆料按照如下方法制备：将珍珠釉加水进行球磨，所述珍珠釉料为权利要求1所述的珍珠釉料，所述珍珠釉料与水的重量比为1：（0.3～0.45）；球磨时间为4～8小时；球磨细度为万孔筛筛余量0-1.5％，即得中间体；
所述烧成装置，用于将浆料施加装置中得到的中间体进行烧成，得到珍珠釉陶瓷制品；所述烧成的温度为1150-1230℃，时间为80-120min。
本发明提供一种珍珠釉料，该珍珠釉料经过制浆、施釉和烧成后即可形成凹凸纹理的釉面。相对于现有技术，无需采用凹凸模具，由此降低生产成本，提高成品率。另外，珍珠釉可以随制品的其它釉层一同烧结成型，由此有助于缩短生产周期。综上所述，采用本发明提供的珍珠釉料，不仅可以降低陶瓷制品的生产成本，提高成品率，还可以缩短生产周期。
本发明还提供一种陶瓷中品的制备方法，其通过在陶瓷制品烧制过程中施加珍珠釉料浆，经高温烧制即得具有凹凸纹理装置效果的珍珠釉陶瓷制品，采用新工艺生产出的珍珠釉陶瓷制品，产品表面由一层随机分布的细小自然珠状颗粒构成，产品的真实感更强，并且具有釉面硬度高、耐磨性优异、防滑性良好的特点；有效的解决了传统技术中存在的问题；制备方法和使用方法简单，成本低且具有显著的经济效益。
附图说明
图1是本发明珍珠釉陶瓷砖剖面结构简图。
附图标记说明：
1、坯体；2、底釉；3、花秞；4、珍珠釉。
具体实施方式
为了进一步理解本发明,下面结合实施例对本发明优选实施方案进行描述,但是应当理解,这些描述只是为了进一步说明本发明的特点和优点,而不是对本发明权利要求的限制。
本发明实施例公开了一种珍珠釉料，其组分包括：
钾长石20-40重量份；
双飞粉5-15重量份；
碳酸钡2-7重量份；
熔块 5-40重量份；
气刀高岭土2-10重量份；
硅微粉10-19重量份；
白刚玉1-4重量份；
氧化锌 2-7重量份；
烧滑石 2-19重量份。
按照本发明，在珍珠釉料的配料中，碳酸钡在陶瓷烧制过程中起到强熔剂的作用，硅微粉、气刀高岭土和白刚玉共同作用，在烧结过程中相互结合形成高强度复合体结构，用于提高釉面的硬度。烧滑石可以提高釉面的热稳定性。烧滑石的加入虽有助于提高热稳定性，但是加入量过高会影响釉面的硬度，因此本实施例中烧滑石的重量份优选不超过19。
当然，本发明在珍珠釉料组分中还可以包括有色陶瓷色料，以实现到烧制出的釉面色彩丰富。
本发明实施例中还公开了一种珍珠釉制备方法，包括以下步骤：
步骤S1.球磨制浆，将珍珠釉料加水进行球磨珍珠釉料为上述实施例提供的釉料，珍珠釉料与水的重量比为1：（0.3～0.45）；球磨时间为4～8小时；球磨细度为万孔筛筛余量0-1.5％，得到珍珠釉浆料；
步骤S2.施釉，将上述珍珠釉浆料施于基体表面，得到中间产品；
步骤S3.烧成，将上述中间产品在1150-1230℃，烧成80-120min，在基体表面形成珍珠釉。
按照本发明，步骤S1为球磨制浆工序，珍珠釉浆料的流速控制优选为30～300s/100ml，比重优选为1.30～1.88之间，此种浆料有助于在后续的施釉过程中形成合适厚度的釉料浆料，以在烧结的过程中不会因为浆料层过薄造成烧过，或者是浆料层过厚造成烧成不完全。
步骤S2为施釉工序，步骤S1中得到珍珠釉浆料可以通过甩釉或喷釉或丝网印花的方法施于基体表面。施釉次数可以为一次或多次，表面的珍珠釉浆料的厚度优选为0.5～0.8mm，更为优选为0.6～0.7mm。
步骤S3为烧制工序，将步骤S2中得到的中间品进行烧制。所述烧制温度优选为1150-1230℃，更为优选为1170-1200℃。所述烧制时间优选为80-120min，更为优选为90-110min。
本发明实施例还公开了一种由上述方法制备的珍珠釉。
本发明实施例还公开了一种陶瓷制品，请参见图1，其由内至外依次包括：坯体1，底釉2和前述的珍珠釉4。优选的是该陶瓷制品还包括设置于所述底釉2和珍珠釉4之间的花釉3。
本发明实施例还公开了一种珍珠釉陶瓷制品制备方法，包括以下步骤：
步骤a.在坯体表面施以底釉，得到基体；
步骤b.在步骤a所得的基体表面施加珍珠釉浆料，所述珍珠釉浆料按照如下方法制备：将珍珠釉料加水进行球磨，所述珍珠釉料为前述实施例所述的珍珠釉料，所述珍珠釉料与水的重量比为1：（0.3～0.45）；球磨时间为4～8小时；球磨细度为万孔筛筛余量0-1.5％，即得；
步骤c. 将步骤b得到的产品进行烧成，得到珍珠釉陶瓷制品；所述烧成的温度为1150-1230℃，时间为80-120min。
按照本发明，所述陶瓷制品制备方法的步骤a中，在坯体表面施以底釉后，优选的还包括在底秞表面通过喷墨及丝网工艺在陶瓷制品坯体表面生成图案和纹理的花釉步骤。
下面结合实施例，进一步阐述本发明：
实施例1
（a） 将陶瓷坯体表面施以底釉，形成基体；
（b）将组分为：钾长石40重量份，双飞粉15重量份，碳酸钡7重量份，熔块40重量份，气刀高岭土10重量份，硅微粉19重量份，白刚玉4重量份,氧化锌7重量份，烧滑石19重量份的珍珠釉料搅拌均匀放入球磨机进行球磨，球磨方法为：投球时加釉料总质量30％的水，球磨时间为4小时，球磨细度为万孔筛筛余量0.01％，出球后将浆料调整为100mL浆料的流速为30s，比重1.30，即得珍珠釉浆料。将珍珠釉浆料采用喷釉的方式将制备好的釉浆分两次喷到经干燥、洒水后的基体表面，并且控制釉层厚度为0.5mm。
（c） 将步骤b得到的产品加热至1150℃，烧制80min即得珍珠釉陶瓷制品。
实施例2
（a） 将陶瓷坯体表面施以底釉，形成基体；
（b）将组分为：钾长石20重量份，双飞粉5重量份，碳酸钡2重量份，熔块5重量份，气刀高岭土2重量份，硅微粉10重量份，白刚玉1重量份,氧化锌2重量份，烧滑石2重量份的珍珠釉料搅拌均匀放入球磨机进行球磨，球磨方法为：投球时加釉料总质量35％的水，球磨时间为5小时，球磨细度为万孔筛筛余量0.1％，出球后将浆料调整为100mL浆料的流速为300s ，比重1.88，即得珍珠釉浆料。将珍珠釉浆料采用喷釉的方式将制备好的釉浆分两次喷到经干燥、洒水后的基体表面，并且控制釉层厚度为0.8mm。
（c） 将步骤b得到的产品加热至1230℃，烧制120min即得珍珠釉陶瓷制品。
实施例3
（a） 将陶瓷坯体表面施以底釉，形成基体；
（b）将组分为：钾长石30重量份，双飞粉10重量份，碳酸钡4重量份，熔块20重量份，气刀高岭土6重量份，硅微粉15重量份，白刚玉3重量份,氧化锌5重量份，烧滑石11重量份的珍珠釉料搅拌均匀放入球磨机进行球磨，球磨方法为：投球时加釉料总质量40％的水，球磨时间为6小时，球磨细度为万孔筛筛余量1.0％，出球后将浆料调整为100mL浆料的流速为240s ，比重1.50，即得珍珠釉浆料。将珍珠釉浆料采用喷釉的方式将制备好的釉浆分两次喷到经干燥、洒水后的基体表面，并且控制釉层厚度为0.6mm。
（c） 将步骤b得到的产品加热至1190℃，烧制100min即得珍珠釉陶瓷制品。
实施例4
（a） 将陶瓷坯体表面施以底釉，形成基体；
（b） 将组分为：钾长石25重量份，双飞粉12重量份，碳酸钡6重量份，熔块30重量份，气刀高岭土9重量份，硅微粉12重量份，白刚玉3重量份,氧化锌4重量份，烧滑石15重量份的珍珠釉料搅拌均匀放入球磨机进行球磨，球磨方法为：投球时加釉料总质量45％的水，球磨时间为7小时，球磨细度为万孔筛筛余量1.5％，出球后将浆料调整为100mL浆料的流速为260s，比重1. 33，即得珍珠釉浆料。将珍珠釉浆料采用喷釉的方式将制备好的釉浆分两次喷到经干燥、洒水后的基体表面，并且控制釉层厚度为0.7mm。
（c） 将步骤b得到的产品加热至1200℃，烧制90min即得珍珠釉陶瓷制品。
实施例5
（a） 将陶瓷坯体表面施以底釉，形成基体；
（b）将组分为：钾长石23重量份，双飞粉7重量份，碳酸钡6重量份，熔块15重量份，气刀高岭土15重量份，硅微粉17重量份，白刚玉3重量份,氧化锌4重量份，烧滑石14重量份的珍珠釉料搅拌均匀放入球磨机进行球磨，球磨方法为：投球时加釉料总质量45％的水，球磨时间为8小时，球磨细度为万孔筛筛余量0.5％，出球后将浆料调整为100mL浆料的流速为200s，比重1.70，即得珍珠釉浆料。将珍珠釉浆料采用喷釉的方式将制备好的釉浆分两次喷到经干燥、洒水后的基体表面，并且控制釉层厚度为0.5mm。
（c） 将步骤b得到的产品加热至1170℃，烧制110min即得珍珠釉陶瓷制品。
实施例6
（a） 将陶瓷坯体表面施以底釉，形成基体；
（b） 将组分为：钾长石33重量份，双飞粉9重量份，碳酸钡6重量份，熔块27重量份，气刀高岭土6重量份，硅微粉11重量份，白刚玉3重量份,氧化锌5重量份，烧滑石14重量份的珍珠釉料搅拌均匀放入球磨机进行球磨，球磨方法为：投球时加釉料总质量45％的水，球磨时间为8小时，球磨细度为万孔筛筛余量0.5％，出球后将浆料调整为100mL浆料的流速为250s，比重1.70，即得珍珠釉浆料。将珍珠釉浆料采用喷釉的方式将制备好的釉浆分两次喷到经干燥、洒水后的基体表面，并且控制釉层厚度为0.5mm。
（c） 将步骤b得到的产品加热至1170℃，烧制110min即得珍珠釉陶瓷制品。
将上述实施例制备的陶瓷制品进行检测，检测结果如下：：
① 吸水率≤22％；
② 釉面硬度高、防滑效果好、艺术感强和真实感强；
③ 产品无碰缺、裂纹、缺釉等缺陷；
④ 放射性核素限量符合GB 6566～2010标准中的A类要求。
本发明还提供了一种珍珠釉陶瓷制品生产系统，包括基体获得装置、浆料施加装置和烧成装置；
所述基体获得装置，用于在坯体表面施以底釉，得到基体；
所述浆料施加装置，用于在所述基体表面施加珍珠釉浆料；所述珍珠釉浆料按照如下方法制备：将珍珠釉加水进行球磨，所述珍珠釉料为权利要求1所述的珍珠釉料，所述珍珠釉料与水的重量比为1：（0.3～0.45）；球磨时间为4～8小时；球磨细度为万孔筛筛余量0-1.5％，即得中间体；
所述烧成装置，用于将浆料施加装置中得到的中间体进行烧成，得到珍珠釉陶瓷制品；所述烧成的温度为1150-1230℃，时间为80-120min。
本发明实施例中的珍珠釉陶瓷制品生产系统用于制备上述各实施例中的所述珍珠釉料、珍珠釉或珍珠釉陶瓷制品。由于本发明实施中珍珠釉料、珍珠釉或珍珠釉陶瓷制品的制备工艺已经在上述各实施例中做了详尽的说明，本发明实施中的珍珠釉陶瓷制品生产系统中的各个装置的具体构成，本领域技术人员可以根据其各自的作用， 予以相应的实现，在此并不做具体的限定。
由于本发明实施例中的珍珠釉陶瓷制品生产系统的工作原理和有益效果已经在上述的珍珠釉料、珍珠釉及其制备方法、以及珍珠釉陶瓷制品的实施例中进行了详尽的说明，在此就不在赘述。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。