一种制备富勒烯/半导体异质结的方法与流程

文档序号:11376675阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
一种制备富勒烯/半导体异质结的方法,属于半导体材料制备技术领域。所述方法包括:以溅射或蒸发的方法在半导体表面制备一层非晶碳薄膜;将带有非晶碳薄膜的半导体放入电子显微镜的真空腔体内;用电子显微镜定位后,以定位位置为中心,在周围设置刻蚀保护区,然后开启电子显微镜的高能电子束,将刻蚀保护区外的区域刻蚀;刻蚀完毕后,将高能电子束定位至刻蚀保护区,开启高能电子束对刻蚀保护区进行辐照,形成富勒烯结构后停止辐照,完成制备过程。本发明所述方法利用电子显微镜在纳米尺度下定点、单个以及可控尺寸和结构制备富勒烯/半导体异质结,可以在小于10 nm定位精度的情况下制备尺寸小于10 nm的单层、双层和三层等不同层数的富勒烯结构。

技术研发人员:万能;邵志勇;赵小康
受保护的技术使用者:东南大学
技术研发日:2017.05.24
技术公布日:2017.09.05
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