玻璃基板蚀刻装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及蚀刻装置技术领域，尤其涉及玻璃基板蚀刻装置。
【背景技术】
[0002]现有技术一般采用浸渍法和喷淋发来加工制造液晶显示器的玻璃基板，其中，浸渍法由于设备简单且成本低的优点而被广泛地应用于液晶显示器的玻璃基板加工制造。
[0003]在利用浸渍法加工制造液晶显示器的玻璃基板的过程中，蚀刻液在箱体内流动并蚀刻玻璃基板，此过程中，玻璃基板容易发生碰撞而损坏，玻璃基板的非蚀刻面也容易受到蚀刻液的蚀刻，而且，蚀刻时如果有大涡流将对玻璃基板蚀刻质量产生较大的影响，另外，玻璃基板蚀刻时所产生的反应残渣附着在玻璃基板蚀刻面上，影响蚀刻效果。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种玻璃基板蚀刻装置，能更有效避免损坏玻璃基板，保护玻璃基板的非蚀刻面免受蚀刻，还可避免产生大涡流以及快速地将附着在玻璃基板蚀刻面上的反应残渣带走，保证良好的蚀刻效果。
[0005]为达到上述目的，本实用新型通过以下技术方案来实现。
[0006]玻璃基板蚀刻装置，它包括蚀刻箱，箱盖和设置于蚀刻箱内部的蚀刻篮；所述箱盖一端铰接于蚀刻箱顶部，蚀刻箱内部设置有垂直导轨，所述蚀刻篮的侧板与垂直导轨轨接；所述蚀刻箱上部安装有电机安装座，电机安装座上安装有电机，电机通过链条吊装所述蚀刻篮；所述蚀刻篮的底板设置有若干垂直的隔板，隔板的左右两侧贴设有粘合剂保护层，所述蚀刻篮的底板在隔板的左右两侧位置开设有玻璃插置槽，所述玻璃插置槽设置有保护垫；所述蚀刻箱的底部设置有供给蚀刻液的进液管，所述蚀刻箱的上部设置有溢流管；所述蚀刻箱内部的底部装设有上下层叠且间隔布置的上导流板和下导流板，上导流板位于下导流板的上方，下导流板开设有若干均匀分布的下导流孔，上导流板开设有若干均匀分布的上导流孔，上导流孔与下导流孔错位设置；所述蚀刻箱内部的底部设置有超声波振动板，蚀刻箱的外部设置有超声波发生器，超声波发生器与超声波振动板电连接，超声波振动板位于上导流板上方。
[0007]所述蚀刻篮的侧板开设有若干通液圆孔和通液长方孔。
[0008]所述蚀刻篮的侧板设置有与垂直导轨匹配的导靴。
[0009]本实用新型的有益效果为:本实用新型所述一种玻璃基板蚀刻装置，能更有效避免损坏玻璃基板，保护玻璃基板的非蚀刻面免受蚀刻，还可避免产生大涡流以及快速地将附着在玻璃基板蚀刻面上的反应残渣带走，保证良好的蚀刻效果。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的结构示意图。
[0011]图2为本实用新型的蚀刻篮结构示意图。
[0012]图3为本实用新型的蚀刻篮的侧板结构示意图。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图和具体的实施方式来对本实用新型进行说明。
[0014]如图1至图3所示，本实用新型所述玻璃基板蚀刻装置，包括蚀刻箱1，箱盖8和设置于蚀刻箱I内部的蚀刻篮2 ;所述箱盖8 一端铰接于蚀刻箱I顶部，蚀刻箱I内部设置有垂直导轨5，所述蚀刻篮2的侧板与垂直导轨5轨接；所述蚀刻箱I上部安装有电机安装座6，电机安装座6上安装有电机7，电机7通过链条9吊装所述蚀刻篮2 ;所述蚀刻篮2的底板设置有若干垂直的隔板20，隔板20的左右两侧贴设有粘合剂保护层21，所述蚀刻篮2的底板在隔板20的左右两侧位置开设有玻璃插置槽22，所述玻璃插置槽22设置有保护垫23 ;所述蚀刻箱I内部的底部装设有上下层叠且间隔布置的上导流板3和下导流板4，上导流板3位于下导流板4的上方，下导流板4开设有若干均匀分布的下导流孔41，上导流板3开设有若干均匀分布的上导流孔31，上导流孔31与下导流孔41错位设置。所述蚀刻箱I内部的底部设置有超声波振动板30，蚀刻箱I的外部设置有超声波发生器40，超声波发生器40与超声波振动板30电连接，超声波振动板30位于上导流板3上方。
[0015]所述蚀刻篮2的侧板开设有若干通液圆孔24和通液长方孔25，蚀刻液体从蚀刻篮2侧板的若干通液圆孔24和通液长方孔25流入流出蚀刻篮2，与玻璃基板12充分接触并进行蚀刻。所述蚀刻篮2的侧板设置有与垂直导轨5匹配的导靴26，使得蚀刻篮2能平稳地沿垂直导轨5上下移动。所述蚀刻箱I的底部设置有供给蚀刻液的进液管11，蚀刻液体从进液管11进入蚀刻箱I内部。所述蚀刻箱I的上部设置有溢流管10，当蚀刻箱I内的液体达到溢流的高度时，多余的液体经由溢流管10溢出。
[0016]使用时，打开箱盖8，电机7通过链条9带动蚀刻篮2体上移至蚀刻箱I顶部，将玻璃基板12插入玻璃插置槽22，玻璃基板12的非蚀刻面贴紧隔板20的粘合剂保护层21，玻璃基板12的蚀刻面向外，粘合剂保护层21能很好地保护玻璃基板12的非蚀刻面不被蚀亥IJ。玻璃基板12的底部插入玻璃插置槽22时，保护垫23能起到保护玻璃基板12的底部的作用。盖上箱盖8，电机7通过链条9带动蚀刻篮2体下降至蚀刻箱I底部，使得玻璃基板12完全浸泡于蚀刻液体中。在蚀刻过程中，蚀刻液经过进液管11输入至蚀刻箱I内部的底部，蚀刻液再经由下导流板4的下导流孔41流入至上导流板3与下导流板4之间的间隙，最后经由上导流板3的上导流孔31进入蚀刻箱I内部并对蚀刻腔室11内的玻璃基板12进行蚀刻处理，通过下导流板4和上导流板3对进入蚀刻箱I内部的蚀刻液进行二次导流处理，由于上导流孔31与导流孔41错位设置，蚀刻液的流动被阻挡，使蚀刻液平稳地进入至蚀刻箱I内部，避免产生大涡流。在蚀刻液对玻璃基板12进行蚀刻薄化的过程中，超声波发生器40通电并驱动超声波振动板30振动，振动的超声波振动板30将玻璃基板12表面蚀刻后的反应残渣带走，如此，通过超声波清洗的方式快速地带走反应残渣并加快玻璃基板12蚀刻薄化速度，进而提高蚀刻效率。
[0017]以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在【具体实施方式】及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
【主权项】
1.玻璃基板蚀刻装置，其特征在于:它包括蚀刻箱(1)，箱盖(8)和设置于蚀刻箱(I)内部的蚀刻篮(2);所述箱盖(8)—端铰接于蚀刻箱(I)顶部，蚀刻箱(I)内部设置有垂直导轨(5)，所述蚀刻篮(2)的侧板与垂直导轨(5)轨接；所述蚀刻箱(I)上部安装有电机安装座(6)，电机安装座(6)上安装有电机(7)，电机(7)通过链条(9)吊装所述蚀刻篮(2);所述蚀刻篮(2)的底板设置有若干垂直的隔板(20)，隔板(20)的左右两侧贴设有粘合剂保护层(21)，所述蚀刻篮(2)的底板在隔板(20)的左右两侧位置开设有玻璃插置槽(22)，所述玻璃插置槽(22)设置有保护垫(23);所述蚀刻箱(I)的最低端设置有供给蚀刻液的进液管(11)，所述蚀刻箱(I)的上部设置有溢流管(10);所述蚀刻箱(I)内部的底部装设有上下层叠且间隔布置的上导流板(3)和下导流板(4)，上导流板(3)位于下导流板(4)的上方，下导流板(4)开设有若干均匀分布的下导流孔(41)，上导流板(3)开设有若干均匀分布的上导流孔(31)，上导流孔(31)与下导流孔(41)错位设置；所述蚀刻箱(I)内部的底部设置有超声波振动板(30)，蚀刻箱(I)的外部设置有超声波发生器(40)，超声波发生器(40)与超声波振动板(30 )电连接，超声波振动板(30 )位于上导流板(3 )上方。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板蚀刻装置，其特征在于:所述蚀刻篮(2)的侧板开设有若干通液圆孔(24)和通液长方孔(25)。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板蚀刻装置，其特征在于:所述蚀刻篮(2)的侧板设置有与垂直导轨(5)匹配的导靴(26)。
【专利摘要】本实用新型涉及蚀刻装置技术领域，尤其涉及玻璃基板蚀刻装置，其蚀刻箱内部的底部装设有上下层叠且间隔布置的上导流板和下导流板，上导流板位于下导流板的上方，下导流板开设有若干均匀分布的下导流孔，上导流板开设有若干均匀分布的上导流孔，上导流孔与下导流孔错位设置；所述蚀刻箱内部的底部设置有超声波振动板，蚀刻箱的外部设置有超声波发生器，超声波发生器与超声波振动板电连接，超声波振动板位于上导流板上方。能更有效避免损坏玻璃基板，保护玻璃基板的非蚀刻面免受蚀刻，还可避免产生大涡流以及快速地将附着在玻璃基板蚀刻面上的反应残渣带走，保证良好的蚀刻效果。
【IPC分类】C03C15-00
【公开号】CN204400824
【申请号】CN201420855902
【发明人】肖红星
【申请人】湖北优尼科光电技术股份有限公司
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2014年12月30日